CN110257776B - 一种掩膜版框架 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例公开了一种掩膜版框架。该掩膜版框架包括：中空区和围绕所述中空区的边框区；所述边框区包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面包括围绕所述中空区的第一台阶面和围绕所述第一台阶面的第二台阶面；所述第一台阶面与所述第二表面的垂直距离大于所述第二台阶面与所述第二表面的垂直距离；所述第一台阶面用于放置掩膜版，所述第二台阶面设置有多个减重槽。本发明实施例的方案保证了气浮能够准确的将掩膜版框架撑起，提升了后续向掩膜版框架施加预设力的精度，以及掩膜版的张网精度。

Description

一种掩膜版框架
技术领域
本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版框架。
背景技术
显示面板在制作过程中通常需要用到掩膜版，蒸镀时通常将掩膜版固定在掩膜版框架上，在张网前需要先在掩膜版框架上向内施加预设力，使得掩膜版固定于掩膜版框架时能对掩膜版施加一定的张力。
现有技术中在对掩膜版框架施加预设力时，为减小摩擦力，通常将掩膜版框架设置于气浮上，用气浮将掩膜版框架撑起，然而现有的掩膜版框架存在气浮无法将其撑起的问题，影响后续向掩膜版框架施加预设力的精度，以及掩膜版的张网精度。
发明内容
本发明提供一种掩膜版框架，以保证气浮能够准确的将掩膜版框架撑起，提升后续向掩膜版框架施加预设力的精度，以及掩膜版的张网精度。
本发明实施例提供了一种掩膜版框架，包括：
中空区和围绕所述中空区的边框区；
所述边框区包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面包括围绕所述中空区的第一台阶面和围绕所述第一台阶面的第二台阶面；所述第一台阶面与所述第二表面的垂直距离大于所述第二台阶面与所述第二表面的垂直距离；
所述第一台阶面用于放置掩膜版，所述第二台阶面设置有多个减重槽。
可选的，所述边框区包括相互平行的第一边和第二边，所述第一边和所述第二边的长度小于所述边框区的其他边的长度，所述多个减重槽设置于所述第一边和所述第二边的第二台阶面，所述第一边的多个减重槽沿所述第一边的延伸方向依次排列，所述第二边的多个减重槽沿所述第二边的延伸方向依次排列。
可选的，所述第一边和所述第二边设置的减重槽的数量相同。
可选的，位于所述第一边的多个所述减重槽沿所述第一边的延伸方向均匀分布，位于所述第二边的多个所述减重槽沿所述第二边的延伸方向均匀分布。
可选的，所述减重槽垂直于所述第二台阶面且与所述第一边的延伸方向平行的方向的截面为第一梯形，以及所述减重槽垂直于所述第二台阶面且与所述第一边的延伸方向垂直的方向的截面为第二梯形，且第一梯形和第二梯形较大的底均邻近所述第二台阶面。
可选的，所述减重槽的底面与侧面之间具有圆形倒角。
可选的，所述减重槽沿所述第一边的延伸方向的最大尺寸小于或等于120mm。
可选的，所述减重槽沿与所述第一边的延伸方向垂直的方向的最大尺寸为第一尺寸，所述第二台阶面沿与所述第一边的延伸方向垂直的方向的尺寸为第二尺寸；
所述第一尺寸与所述第二尺寸的比值大于或等于1/4，且小于或等于3/4，且所述第一尺寸小于或等于120mm。
可选的，所述第二台阶面与所述第二表面的垂直距离为第一距离，所述减重槽的深度与所述第一距离的比值大于或等于1/5,且小于或等于1/2。
可选的，所述边框区还包括相互平行的第三边和第四边，所述第一边、所述第三边、所述第二边和所述第四边连接形成所述边框区。
本发明实施例通过将减重槽设置于第二台阶面，由于掩膜版固定于第一台阶面，减重槽不会影响掩膜版的固定精度，保证的掩膜版具有较高的固定精度，且无需在掩膜版框架面向气浮的第二表面设置减重槽，保证了第二表面具有较高的平坦度，保证气浮能够准确的将掩膜版框架撑起，提升后续向掩膜版框架施加预设力的精度，以及掩膜版的张网精度。
附图说明
图1是本发明实施例提供的一种掩膜版框架的俯视示意图；
图2是图1中掩膜版框架沿剖面线AA的剖面示意图；
图3是本发明实施例提供的又一种掩膜版框架的俯视示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。
正如背景技术中提到的现有的掩膜版框架存在气浮无法将其撑起的问题，发明人通过研究发现导致这种问题的原因在于：为降低掩膜版框架的重量，通常会在掩膜版框架面向气浮的表面设置多个减重槽，由于减重槽的存在使得掩膜版框架面向气浮的表面平坦度较低，从而导致气浮无法将掩膜版框架撑起，影响后续向掩膜版框架施加预设力的精度，以及掩膜版的张网精度。
为解决上述技术问题，本实施例提供了以下解决方案：
本实施例提供了一种掩膜版框架，图1是本发明实施例提供的一种掩膜版框架的俯视示意图，图2是图1中掩膜版框架沿剖面线AA的剖面示意图，参考图1和图2，该掩膜版框架包括：
中空区10和围绕中空区10的边框区20；
边框区20包括相对设置的第一表面21和第二表面22，第一表面21包括围绕中空区10的第一台阶面211和围绕第一台阶面211的第二台阶面212；第一台阶面211与第二表面22的垂直距离大于第二台阶面212与第二表面22的垂直距离；
第一台阶面211用于放置掩膜版，第二台阶面212设置有多个减重槽30。
其中，中空区10对应掩膜版的蒸镀区域，第二表面22为掩膜版框架面向气浮的表面。本实施例通过将减重槽30设置于第二台阶面212，由于掩膜版固定于第一台阶面211，减重槽30不会影响掩膜版的固定精度，保证的掩膜版具有较高的固定精度，且无需在掩膜版框架面向气浮的第二表面22设置减重槽30，保证了第二表面22具有较高的平坦度，保证气浮能够准确的将掩膜版框架撑起，提升后续向掩膜版框架施加预设力的精度，以及掩膜版的张网精度。
可选的，边框区20包括相互平行的第一边41和第二边42，第一边41和第二边42的长度小于边框区20的其他边的长度，多个减重槽30设置于第一边41和第二边42的第二台阶面212，第一边41的多个减重槽30沿第一边41的延伸方向依次排列，第二边42的多个减重槽30沿第二边42的延伸方向依次排列。
具体的，通过在边框区20长度较小的第一边41和第二边42的第二台阶面212均设置多个减重槽30，一方面保证了掩膜版框架可以具有较小的重量，另一方面，由于长度较小的边相对于长度较大的边在施加相同的外力时形变量较小，通过将减重槽30设置于长度较小的第一边41和第二边42保证了在向掩膜版框架施加预设力时，掩膜版框架可以具有较小的形变量，且通过将减重槽30设置于相互平行的两个边，使得整个掩膜版框架的形变分布较为均匀，避免在某一边设置减重槽30使得应力集中于该边，出现应力集中，导致该边形变量较大，影响掩膜版的固定精度。
可选的，第一边41和第二边42设置的减重槽30的数量相同。
具体的，当第一边41和第二边42的减重槽30的数量相差过大时，使得第一边41和第二边42的结构强度相差过大，导致减重槽30数量较多的边容易出现较大的形变，通过设置第一边41和第二边42设置的减重槽30的数量相同，使得第一边41和第二边42的结构强度相差较小，使得在向掩膜版框架施加预设力时，第一边41和第二边42的形变接近，整个掩膜版框架的形变分布更为均匀，避免出现应力集中，导致某一边形变量过大，影响掩膜版的固定精度。
可选的，位于第一边41的多个减重槽30沿第一边41的延伸方向X均匀分布，位于第二边42的多个减重槽30沿第二边42的延伸方向均匀分布。
具体的，由于第一边41和第二边42平行，第二边42的延伸方向即第一边41的延伸方向。通过设置第一边41的多个减重槽30沿第一边41的延伸方向X均匀分布，使得第一边41各个位置的结构强度接近，避免减重槽30集中于某一区域，导致第一边41的该区域结构强度较小，在施加预设力时使得该区域容易形变过大，导致掩膜版框架的形变过大。同理通过设置位于第二边42的多个减重槽30沿第二边42的延伸方向均匀分布，避免减重槽30集中于第二边42的某一区域，导致第二边42的该区域结构强度较小，在施加预设力时使得该区域容易形变过大，导致掩膜版框架的形变过大。
可选的，减重槽30垂直于第二台阶面212且与第一边41的延伸方向平行的方向的截面为第一梯形，以及减重槽30垂直于第二台阶面212且与第一边41的延伸方向垂直的方向的截面为第二梯形，且第一梯形和第二梯形较大的底均邻近第二台阶面。
具体的，由于掩膜版固定到掩膜版框架上使用一段时间后，需要对掩膜版和掩膜版框架进行清洗，通过设置减重槽30垂直于第二台阶面212且与第一边41的延伸方向X平行的方向以及垂直于第二台阶面212且与第一边41的延伸方向X垂直的方向的截面均为梯形，且梯形较大的底邻近第二台阶面212，可有效避免清洗液残留在减重槽30内，避免残留清洗液俯视掩膜版框架，提高掩膜版框架的使用寿命。
可选的，减重槽30的底面与侧面之间具有圆形倒角。这样设置，使得底面和侧面之间过渡更为平滑，进一步避免了清洗液残留在减重槽30内，避免残留清洗液俯视掩膜版框架，提高掩膜版框架的使用寿命。
可选的，减重槽30沿第一边41的延伸方向X的最大尺寸L小于或等于120mm。
具体的，最大尺寸L即减重槽30在第二台阶面212的垂直投影沿第一边41的延伸方向X的最大尺寸。当最大尺寸L过大时，无法保证减重槽30沿第一边41的延伸方向的加工精度，容易导致各减重槽30的尺寸以及形状等不同，影响应力在第一边41和第二边42的分布的均匀性，容易导致应力集中，从而导致某点或某区域形变过大。通过设置最大尺寸L小于或等于120mm，保证减重槽30具有较高的加工精度，从而保证第一边41和第二边42的形变分布较为均匀，进一步保证整个掩膜版框架具有较小的形变。
图3是本发明实施例提供的又一种掩膜版框架的俯视示意图，可选的，参考图3，减重槽30沿与第一边41的延伸方向X垂直的方向Y的最大尺寸为第一尺寸D1，第二台阶面212沿与第一边41的延伸方向X垂直的方向Y的尺寸为第二尺寸D2；
第一尺寸D1与第二尺寸D2的比值大于或等于1/4，且小于或等于3/4，且第一尺寸D1小于或等于120mm。
具体的，当第一尺寸D1过小时，对掩膜版框架的减重效果较差，由于第一台阶面211邻近第二台阶面212的边沿处通常设置有开槽50，开槽50用于供机械手夹取待蒸镀基板，若第一尺寸D1过大，使得制作时减重槽30容易延伸至开槽50处，导致机械手工作时容易卡在减重槽30内，影响作业速度，且第一尺寸D1过大时，无法保证减重槽30沿与第一边41的延伸方向X垂直的方向Y的加工精度,通过设置第一尺寸D1与第二尺寸D2的比值大于或等于1/4，小于或等于3/4，且第一尺寸D1小于或等于120mm，保证掩膜版框架具有较小的重量，以及减重槽30具有较高的加工精度，保证第一边41和第二边42具有较小的形变的同时，可有效避免重槽30容易延伸至开槽50处，影响机械手的作用速度。
示例性的，当第二台阶面212的第二尺寸D2为80mm时，第一尺寸D1可以设置为小于或等于20mm-60mm，如可以设置为30mm、40mm或50mm等。
可选的，继续参考图2，第二台阶面212与第二表面22的垂直距离为第一距离H1，减重槽30的深度H2与第一距离H1的比值大于或等于1/5,且小于或等于1/2。
具体的，当减重槽30的深度H2过小时，对掩膜版框架的减重效果较差，当深度H2过大时，减重槽30对掩膜版框架的结构强度影响较大，容易导致在向掩膜版框架施加预设力时第一边41和第二边42的形变较大，通过设置减重槽30的深度H2与第一距离H1的比值大于或等于1/5,且小于或等于1/2，在保证具有较好的减重效果的同时，保证掩膜版框架具有较高的结构强度，保证向掩膜版框架施加预设力时第一边41和第二边42具有较小的形变，从而保证掩膜版框架具有较小的形变。
示例性的，减重槽30的深度可以设置为3mm-7mm，例如可以设置为5mm。
可选的，继续参考图3，边框区20还包括相互平行的第三边43和第四边44，第一边41、第三边43、第二边42和第四边44连接形成边框区20。即边框区20为矩形，由于大多数掩膜版为矩形，通过设置边框区20为矩形可以适用于大部分掩膜版。
表1示出了掩膜版框架的第一边和第二边的长度为1105mm，第三边和第四边的长度为1700mm，第二台阶面与第二表面的垂直距离为16.5mm，减重槽的深度为5mm，减重槽沿与第一边的延伸方向垂直的方向的第一尺寸(宽度)为40mm，沿第一边延伸方向的最大尺寸(长度)为120mm，向掩膜版框架每一边施加141N的力时，形变参考点的形变情况。其中，形变参考点为第一边和第二边中线与第一台阶面邻近中空区的边的交点，即图3中的a点和b点。其中，第一方向为垂直于第一边的延伸方向的方向，第二方向为垂直于第二台阶面的方向。
表1
Figure BDA0002103643910000091
由表1可以看出，本申请的方案相对于现有技术的方案第一方向的形变接近，第二方向的形变减小，掩膜版支撑框架整体重量减轻0.5kg。由于第一方向的形变对掩膜版的张网精度影响较小，第二方向的形变影响较大，因此本申请的方案第二方向的形变较小，有利于提升掩膜版的张网精度。
注意，上述仅为本发明的较佳实施例及所运用技术原理。本领域技术人员会理解，本发明不限于这里的特定实施例，对本领域技术人员来说能够进行各种明显的变化、重新调整、相互结合和替代而不会脱离本发明的保护范围。因此，虽然通过以上实施例对本发明进行了较为详细的说明，但是本发明不仅仅限于以上实施例，在不脱离本发明构思的情况下，还可以包括更多其他等效实施例，而本发明的范围由所附的权利要求范围决定。

Claims (9)

1.一种掩膜版框架，其特征在于，包括：
中空区和围绕所述中空区的边框区；
所述边框区包括相对设置的第一表面和第二表面，所述第一表面包括围绕所述中空区的第一台阶面和围绕所述第一台阶面的第二台阶面；所述第一台阶面与所述第二表面的垂直距离大于所述第二台阶面与所述第二表面的垂直距离；
所述第一台阶面用于放置掩膜版，所述第二台阶面设置有多个减重槽；
所述边框区包括相互平行的第一边和第二边，所述第一边和所述第二边的长度小于所述边框区的其他边的长度，所述多个减重槽设置于所述第一边和所述第二边的第二台阶面，所述第一边的多个减重槽沿所述第一边的延伸方向依次排列，所述第二边的多个减重槽沿所述第二边的延伸方向依次排列。
2.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于：
所述第一边和所述第二边设置的减重槽的数量相同。
3.根据权利要求2所述的掩膜版框架，其特征在于：
位于所述第一边的多个所述减重槽沿所述第一边的延伸方向均匀分布，位于所述第二边的多个所述减重槽沿所述第二边的延伸方向均匀分布。
4.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于：
所述减重槽垂直于所述第二台阶面且与所述第一边的延伸方向平行的方向的截面为第一梯形，以及所述减重槽垂直于所述第二台阶面且与所述第一边的延伸方向垂直的方向的截面为第二梯形，且第一梯形和第二梯形较大的底均邻近所述第二台阶面。
5.根据权利要求4所述的掩膜版框架，其特征在于：
所述减重槽的底面与侧面之间具有圆形倒角。
6.根据权利要求3所述的掩膜版框架，其特征在于：
所述减重槽沿所述第一边的延伸方向的最大尺寸小于或等于120mm。
7.根据权利要求6所述的掩膜版框架，其特征在于：
所述减重槽沿与所述第一边的延伸方向垂直的方向的最大尺寸为第一尺寸，所述第二台阶面沿与所述第一边的延伸方向垂直的方向的尺寸为第二尺寸；
所述第一尺寸与所述第二尺寸的比值大于或等于1/4，且小于或等于3/4，且所述第一尺寸小于或等于120mm。
8.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于：
所述第二台阶面与所述第二表面的垂直距离为第一距离，所述减重槽的深度与所述第一距离的比值大于或等于1/5,且小于或等于1/2。
9.根据权利要求1所述的掩膜版框架，其特征在于：
所述边框区还包括相互平行的第三边和第四边，所述第一边、所述第三边、所述第二边和所述第四边连接形成所述边框区。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110257776B (zh) * 2019-06-21 2020-08-04 昆山国显光电有限公司 一种掩膜版框架
CN111411323B (zh) * 2020-03-31 2023-01-20 云谷（固安）科技有限公司 一种掩膜板
CN112647046B (zh) * 2020-11-18 2022-05-17 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司 蒸镀装置及蒸镀方法
CN112731760A (zh) * 2020-12-23 2021-04-30 江苏高光半导体材料有限公司 一种金属掩膜版框架固定支架

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201438515A (zh) * 2013-03-29 2014-10-01 Sony Corp 罩框單元、罩裝置、及處理方法
CN204714882U (zh) * 2015-06-04 2015-10-21 昆山国显光电有限公司 掩膜装置及掩膜板冷却系统
CN106367718A (zh) * 2016-12-05 2017-02-01 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板及其组装方法
CN106995912A (zh) * 2017-05-27 2017-08-01 京东方科技集团股份有限公司 一种用于固定掩膜版的框架
CN107675128A (zh) * 2017-11-17 2018-02-09 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版框架
CN107723658A (zh) * 2017-11-23 2018-02-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版框架和蒸镀系统
CN207109079U (zh) * 2017-05-23 2018-03-16 京东方科技集团股份有限公司 一种双层掩膜版组件和蒸镀装置
CN108251791A (zh) * 2017-12-29 2018-07-06 信利（惠州）智能显示有限公司 一种精细金属掩膜板制作方法及其制作平台
CN108300961A (zh) * 2018-01-19 2018-07-20 昆山国显光电有限公司 一种掩膜框的安装系统及方法
CN207828397U (zh) * 2018-01-02 2018-09-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板框架、掩膜板及蒸镀设备
CN208532917U (zh) * 2018-08-03 2019-02-22 昆山国显光电有限公司 一种掩模片的支撑装置及掩模板
CN208937906U (zh) * 2018-09-30 2019-06-04 广州仕元光电股份有限公司 一种掩膜版的防尘保护结构

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101174879B1 (ko) * 2010-03-09 2012-08-17 삼성디스플레이 주식회사 박막 증착용 마스크 프레임 조립체 및 그 조립방법
CN107858645B (zh) * 2017-12-15 2019-10-01 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 金属掩膜板
CN108034923B (zh) * 2018-01-24 2020-06-05 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 掩模组件、掩模框架以及掩模支撑架
CN110257776B (zh) * 2019-06-21 2020-08-04 昆山国显光电有限公司 一种掩膜版框架

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW201438515A (zh) * 2013-03-29 2014-10-01 Sony Corp 罩框單元、罩裝置、及處理方法
CN204714882U (zh) * 2015-06-04 2015-10-21 昆山国显光电有限公司 掩膜装置及掩膜板冷却系统
CN106367718A (zh) * 2016-12-05 2017-02-01 京东方科技集团股份有限公司 一种掩膜板及其组装方法
CN207109079U (zh) * 2017-05-23 2018-03-16 京东方科技集团股份有限公司 一种双层掩膜版组件和蒸镀装置
CN106995912A (zh) * 2017-05-27 2017-08-01 京东方科技集团股份有限公司 一种用于固定掩膜版的框架
CN107675128A (zh) * 2017-11-17 2018-02-09 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版框架
CN107723658A (zh) * 2017-11-23 2018-02-23 京东方科技集团股份有限公司 掩膜版框架和蒸镀系统
CN108251791A (zh) * 2017-12-29 2018-07-06 信利（惠州）智能显示有限公司 一种精细金属掩膜板制作方法及其制作平台
CN207828397U (zh) * 2018-01-02 2018-09-07 京东方科技集团股份有限公司 掩膜板框架、掩膜板及蒸镀设备
CN108300961A (zh) * 2018-01-19 2018-07-20 昆山国显光电有限公司 一种掩膜框的安装系统及方法
CN208532917U (zh) * 2018-08-03 2019-02-22 昆山国显光电有限公司 一种掩模片的支撑装置及掩模板
CN208937906U (zh) * 2018-09-30 2019-06-04 广州仕元光电股份有限公司 一种掩膜版的防尘保护结构

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