CN110217600B - 沿移动表面移动物体的设备及方法、旋转构件的平衡装置 - Google Patents

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Abstract

提供一种沿着移动表面(30)移动物体(20)的移动设备(1)，该设备包括：撞击质量体(2)和将该撞击质量体连接到物体(20)的悬挂装置(3)；移动装置(4)，适于沿着闭合路径(4a)反复移动撞击质量体；头部(5)，约束到物体(20)，适于干涉闭合路径，撞击质量体(2)沿前进线路及方向(2a)干涉头部(5)；连接装置(23)，用于将物体(20)连接到移动表面(30)，适于在物体与移动表面之间产生摩擦力，其在当撞击质量体(2)干涉头部(5)时引发能够使物体相对于移动表面移动的、超过摩擦力的反作用力，当撞击质量体(2)并未沿着闭合路径(4a)干涉头部(5)时不会引发能够使物体相对于移动表面移动的、超过摩擦力的反作用力。

Description

沿移动表面移动物体的设备及方法、旋转构件的平衡装置
技术领域
本发明涉及一种用于移动物体的设备，特别是涉及一种用于沿着移动表面移动物体的移动设备。
特别地，根据本发明的移动设备适于在平衡系统中移动质量体。
背景技术
目前已知的是，一般使用不同的装置、电机和设备来移动物体和系统。
例如，带有轮的电机或其他滑动系统是已知的。
磁性设备、内燃机和许多其他系统是已知的。
例如，在平衡系统或装置的特定领域中，存在各种类型的移动设备。
平衡装置是适于使围绕旋转轴线旋转的元件平衡的系统，例如工具(tool，机床)的旋转构件或类似物。
平衡装置通常包括两个可移动的质量体，所述质量体与待平衡的旋转元件一起围绕后者的旋转轴线旋转。
平衡装置还包括用于测量围绕旋转轴线旋转的构件的不平衡的设备，该设备适于恒定地评估旋转构件在旋转时是否平衡，即其质心是否沿旋转轴线分布。
在专利申请SU-A-1632143和DE-A-3943759中描述了平衡装置。
尽管大多数情况下可移动质量体与旋转构件是一体的，但是它们也可相对于旋转构件移动，绕所述旋转轴线旋转。当两个质量体围绕旋转轴线以180°相对时，两个质量体不会对旋转构件产生不平衡，然而，当两个质量体处于不同的往复位置时，两个质量体会对旋转体产生不平衡。所述不平衡被用于重建旋转构件的平衡。因此，当用于测量不平衡的设备确定存在不平衡时，可移动质量体被激活。
通常，可移动质量体相对于旋转构件形成的参考系统移动，所述旋转构件通过沿旋转构件的旋转轴线设置的电机旋转并通过齿轮和类似的连接件连接到质量体。
在同一申请人的专利申请EP 2717032A中描述了类似的平衡系统。
所描述的平衡装置具有一些明显缺陷。
实际上，在某些情况下，旋转构件的中心轴线的一部分被其他物体和设备占据，因此不能将电机设置在此处。
但是，电机不能够被设置在与旋转轴线不同的位置。实际上，必须平衡的设备经常达到极高的旋转速度，其数量级为数万或甚至数十万转/分钟。
因此，未沿轴线设置的电机会受到离心加速度作用，该离心加速度提升极快并且能导致该电机损坏。
专利申请US 2006/0005623A试图通过使用磁性移动设备来克服所述缺陷。这种系统包括由永磁体形成的可移动质量体和用于可移动质量体的移动系统，其始终相对于由旋转构件旋转形成的参考系统，由旋转构件外部的固定磁体形成并适于使质量体加速或减速从而使所述质量体相对于旋转构件移动。
这种平衡装置呈环状并且使旋转构件的中心部分保持自由。
然而，因为只能在预定位置设置可移动质量体，所描述的平衡装置相对不够精确。
而且，磁性设备经常从加工工艺中吸取金属碎屑，这往往会阻碍系统的运动，使得维护更加困难。
最后，平衡装置是非常复杂且昂贵的。
专利EP 0124306B描述了一种设备，其试图通过使用补偿质量体来克服所述缺陷，所述补偿质量体可以通过填充或排空液体容器来产生。
因此，这种设备不包括电机，而是仅包括用于在压力下喷射流体的喷嘴，这种设备根据要求填充具有与旋转轴线同轴的圆扇形部的腔室，这样就产生用于不平衡的补偿质量。由于离心力的作用，流体保留在腔室中，并且在旋转构件停止的情况下，流体由重力作用而排空。
因此，由于(例如主轴的)每次停止而进行的排空，所述系统非常复杂并且在每次重启之后需要重新平衡。
此外，在研磨机内部有冷却剂，并且有时冷却剂随机地进入腔室，导致旋转构件暂时不平衡，这就需要进一步的平衡循环。
发明内容
在这种背景下，本发明的技术任务是设计一种用于移动一物体的移动设备，其能够基本上克服至少某些上述缺陷。
在所述技术任务的范围内，本发明的一个重要目的是提供一种用于移动物体的设备，该设备既坚固又能耐受提高的应力和加速度。
本发明的另一个重要目的是提供一种简单且成本低廉的移动设备。
最后、但同样重要的是，本发明的一个目的是提供一种移动设备，其适于在平衡装置中移动补偿质量体。
如下文所述，本发明通过利用用于移动物体的设备和用于移动物体的过程来实现技术任务和特定目的。
更具体而言，根据本发明的一个方面，提供了一种用于沿着移动表面移动物体的移动设备，所述移动设备包括：
-撞击质量体以及将所述撞击质量体约束到所述物体的悬挂装置，
-移动装置，适于使所述撞击质量体沿着闭合路径反复移动，并被约束到所述物体，
-头部，约束到所述物体，适于干涉所述闭合路径，
-所述撞击质量体沿着前进线路及方向干涉(interfere，抵触)所述头部，
-连接装置，用于将所述物体连接到所述移动表面，所述连接装置适于在所述物体和所述移动表面之间产生摩擦力，
-当所述撞击质量体干涉所述头部时，所述所述撞击质量体引发超过所述摩擦力的一反作用力，所述反作用力能够使所述物体相对于所述移动表面移动，
-当所述撞击质量体并不沿所述闭合路径干涉所述头部时，所述撞击质量体不会引发能够使所述物体相对于所述移动表面移动的、超过所述摩擦力的反作用力。
根据优选的技术方案，在所述的移动设备中，所述移动装置可包括永磁体和螺线管。所述永磁体可一体地约束到所述撞击质量体并且形成所述永磁体的至少一部分。
根据优选的技术方案，在所述的移动设备中，所述悬挂装置由弹性元件形成，并且所述闭合路径由沿相反方向交替行进的线路形成。
根据优选的技术方案，在所述的移动设备中，所述物体包括刚性框架，并且其中，所述头部一体地约束到所述刚性框架。
根据优选的技术方案，在所述的移动设备中，所述连接装置包括支撑表面，所述支撑表面用于支撑所述物体、所述移动表面和重力。
根据优选的技术方案，在所述的移动设备中，所述连接装置包括适于使所述物体压靠所述移动表面的弹性推力装置。
根据优选的技术方案，在所述的移动设备中，所述连接装置包括适于使所述物体压靠所述移动表面的磁性装置。
根据本发明的另一个方面，提供了一种可变配置(variable configuration)装置，其包括移动表面和至少一个能移动的物体，所述物体包括根据本发明的至少一个移动设备。
根据优选的技术方案，所述的可变配置设备包括多个所述移动设备，每个所述移动设备适于沿不同的前进线路及方向移动所述物体。
根据本发明的另一个方面，提供了一种用于旋转构件的平衡装置，其包括根据前述权利要求所述的可变配置装置，所述旋转构件能绕旋转轴线旋转，其中，所述移动表面与所述旋转构件一体地设置，并且所述移动表面基本上是环形的，其轴线与所述旋转轴线重合，其中，所述至少一个物体构成平衡质量体，所述平衡质量体适于平衡所述旋转构件相对于所述旋转轴线(51)旋转的不平衡。
根据优选的技术方案，在所述的平衡装置中，形成平衡质量体的所述物体的数量为两个，并且每个所述物体包括两个所述移动设备，所述移动设备适于沿着所述环形移动表面以相反方向并以绕所述旋转轴线旋转的方向移动每个所述物体。
根据本发明的另一个方面，提供了一种用于借助于根据前述权利要求中的至少一项所述的移动设备使物体沿着移动表面移动的方法，所述移动方法的特征在于，其包括以下步骤：
-使所述撞击质量体沿着所述闭合路径反复移动，
-使所述撞击质量体沿着前进线路及方向撞击所述头部，引发超过所述摩擦力的一反作用力，所述反作用力能够使所述物体相对于所述移动表面移动，
-使所述撞击质量体沿所述闭合路径移动，而不包括(不发生)所述撞击，不会引发超过所述摩擦力的、能够使所述物体相对于所述移动表面移动的反作用力。
附图说明
参照附图，通过对本发明的优选实施例进行详细描述，本发明的特征和优点将变得显而易见，在图中：
图1示出了包括本发明所述设备的系统的、具有放大部分的截面图。
具体实施方式
本文中，当与像“约”这样的术语或其他诸如“大约”或“基本上”之类的术语一起使用时，度量、数值、形状和几何参考值(例如，垂直度和平行度)应被理解为除了测量误差或由于生产和/或制造错误导致的不准确性之外，尤其除了与其相关的数值、尺寸、形状或几何参考值略有偏差之外。例如，如果与数值相关，则这些术语优选地表示与所述数值不超过10％的偏差。
此外，在使用诸如“第一”、“第二”、“更高”、“更低”、“主要”和“次要”之类的术语时，这些术语并非必须指定一种顺序、优先关系或相对位置，而是可简单地被用于对不同组件进行更清楚地彼此区分。
若非另有说明，本文件中所列出的测量值和数据均应被认为使用国际标准大气压ICAO(ISO 2533：1975)。
参照附图，附图标记1概括性地示出根据本发明的移动设备。
移动设备适于沿着移动表面30移动物体20。因此，物体20包括至少一个移动设备1，并且还优选地包括至少一个基本刚性的框架21。因此，框架21是物体20的至少一部分，其可被定义为基本刚性的，因此，例如由金属或耐受性聚合物制成，或者具有使其具耐受性或更多特性的尺寸。
本发明还涉及一种可变配置装置40，该可变配置装置40包括移动表面30和至少一个可移动物体20。
简言之，移动设备1包括撞击质量体2和悬挂装置3，该悬挂装置3将撞击质量体2约束到物体20。因此，悬挂装置被同时约束到物体20和撞击质量体2。
优选地，撞击质量体2主要由金属制成，更优选为主要由钢制成。
移动设备1还包括移动装置4，该移动装置4适于将撞击质量体2沿着闭合路径4a反复移动，优选地被约束到物体20。
优选地，移动装置4是磁性类型的，并且优选包括永磁体6和螺线管7。
优选地，永磁体6被进一步约束，更优选地，该永磁体6被一体地约束到撞击质量体2并且形成相同的质量体的至少一部分，且优选基本上形成整个撞击质量体2。
优选地，螺线管7围绕撞击质量体2的至少一部分设置。优选地，螺线管7还被供电，优选被供给交流电，以产生变化的磁场，其适于使永磁体6交替运动的方式移动。
因此，优选地，移动设备1包括供能装置，其优选为向螺线管7供电。其可位于物体20上面或外部，并且通过电缆或无线电连接(例如，通过电磁感应)而连接到物体20。
悬挂装置3将撞击质量体2连接到物体20，优选连接到框架21。悬挂装置3优选地由弹性元件(例如板簧或磁力悬架)形成。优选地，悬挂装置3进一步限定由在相反方向上交替行进的线路形成的闭合路径4a。该线路优选为圆弧、直线段或其他。因此，优选的是，悬挂装置3是板簧，优选在一端约束到物体20，并且更具体而言约束到框架21，并在相对端处约束到撞击质量体2。
优选地，移动设备1还包括头部5，该头部5被约束到物体20并且适于干涉闭合路径4a，因此优选沿着撞击质量体2的路线被设置。
在撞击质量体2的线性运动的示例中，头部5限定闭合路径4a的一端。头部5还优选为在接触点中垂直于闭合路径4a。也可以设置各种不同的头部5，尽管优选的是并不相对设置，且优选的是仅设有一个头部。
优选地，头部5也一体地约束到物体20的框架21。头部5相对于闭合路径的位置优选是可调节的。例如，头部5可被置于螺纹杆5a的端部上，螺纹杆5a可旋紧到框架21并且在静止位置朝向或远离撞击质量体2移动。优选地，头部5至少在由撞击质量体2撞击的部分处是球形表面。最后，头部5优选地由钢或类似物制成。
撞击质量体2和头部5的干涉是沿着方向及前进线路(advance line，推进线)2a发生的。
移动设备1还包括连接装置23，用以将物体20连接到移动表面30，连接装置23适于在物体20和移动表面30之间产生摩擦力(friction，摩擦)。
因此，连接装置23包括用于物体20的支撑表面22和移动表面30。
连接装置23也可以不包括其他元件，并利用重力和附加的配重或质量来产生摩擦力。
或者，连接装置23包括弹性推力装置，其适于将物体20压靠在移动表面30上。特别是在后一种情况下，连接装置23是可调节的(例如，通过调节形成弹性推力装置的弹簧的压缩)，其通过将支撑表面22压靠在移动表面30上而起作用。
另外地或排他性地，连接装置23还可以包括磁性装置31，其适于将物体20的支撑表面22压靠在移动表面30上。
优选地，移动表面30限定一线性路径，该线性路径优选地沿前进方向2a延伸。特别地，该路径是圆形或类似形状。优选地，该路径仅沿线性轨迹延伸，例如，圆形或直线或其他。
优选地，物体20还包括多个移动设备1，每个移动设备适于使物体20沿不同的方向及前进线路2a移动。
更优选地，包括在物体20中的移动设备1的数量为两个，限定相同的前进方向2a和相反(相对)的线路。因此，移动设备1适于沿着由移动表面30限定的线性轨迹而在一个方向或一个相反方向上移动。
此外，连接装置23、移动装置4、撞击质量体2和其他元件被选择或调节为，使得当撞击质量体2干涉头部5时，其产生适于使物体20(优选为框架21)相对于移动表面30移动的反作用力，该反作用力超过物体20与表面30之间存在的摩擦力。
实际上，当撞击质量体2干涉头部5时，两个物体的相互作用导致因撞击质量体2的突然制动而产生的冲击力，撞击头部5并且还沿相反方向反弹。事实上，突然制动只不过是沿相反方向的极大提升的加速度而已。
撞击质量体2的高的加速度引发与之成正比例的力，由于质心守恒原理，该成正比例的力产生相等且相反的力，使物体20移动。所述力超过移动表面30和物体20之间的静摩擦力的阈值。事实上，众所周知的是，以最佳近似(optimal approximation)方式承受力和摩擦力作用的物体，只有在超过静摩擦力的阈值时才会移动。一旦运动开始，低于静摩擦力的动摩擦力即开始起作用。因此，物体20在与撞击质量体2的加速度和质量成正比且与其质量成反比的实体位移的前进线路及方向2a上移动。显然，物体20随着连接并约束于其上的部件(例如，撞击质量体2和移动装置4)一起移动。
此外，连接装置23、移动装置4、撞击质量体2和其他元件被选择或调节为，使得当撞击质量体2沿着闭合路径4a不干涉头部5时，不会引起超过摩擦力的、能够使物体20相对于移动表面30移动的反作用力。
例如，头部5的相对侧上的路径4a的末端止动部(例如，由弹簧的弹性末端止动件提供)形成悬挂装置3，导致不足以超过静摩擦力的阈值的返回加速度。
因此，物体20不会在与前进线路及方向2a不同的方向和线路上移动。
上述非对称性导致物体20在前进线路及方向2a上前进每一圈路径4a。通过调节路径4a的行进次数或频率，从而调节物体20的前进运动和速度。
可由本领域技术人员来容易地选择诸如连接装置23、移动装置4、撞击质量体2等元件。特别地，如果撞击质量体2和头部5由所述材料制成，其具有高弹性和耐受性，并且使所述冲击制动力最大化。例如，撞击质量体2优选为物体20的质量的1/100至1/5。这种选择的简单性还因为由撞击质量体2与头部的相互作用引发的弹性回复冲击力通常比反作用力大一个或多个数量级(其在无碰撞的情况下发生)。因此，物体20很容易仅在碰撞处移动。
优选地，物体20还包括多个移动设备1，每个移动设备适于在不同的方向及前进线路2a上移动质量体2。优选地，这些设备的数量为两个，并且沿相同的方向并在相对的线路上作用。优选地，移动设备1根据命令一次一个地被激活，确定物体20以及确定的实体在前进线路及方向2a上以确定速度的前进运动。
有利地且优选地，可变配置装置40是可绕旋转轴线51旋转的旋转构件50的平衡装置的一部分。优选地，该平衡装置用于工具(机床)的转子50，特别地用于研磨机，更具体地用于研磨轮。
平衡装置包括平衡质量体，其数量优选为多个，更优选为两个，其可与旋转构件50一起旋转并且还可相对于旋转构件50移动以补偿任何不平衡。
理想的是移动设备1用于移动平衡质量体。因此，优选的是，每个物体20构成适于平衡旋转构件50相对于轴线51旋转的不平衡的平衡质量体。
在这种情况下，移动表面30可被约束到(优选为一体地约束到)旋转构件50上。移动表面30基本是环形的，其轴线与旋转轴线51重合。因此，移动表面30限定一个其轴线与旋转轴线51重合的圆形轨迹。
因此，这些平衡质量体由物体20形成，优选地，每个平衡质量体基本上限定一轴线与旋转轴线51重合的圆扇形部。
优选地，移动设备1以如前所述的方式制造，并且每个物体20具有两个移动设备1，所述移动设备1限定(两个)相反的方向，以便以顺时针或逆时针绕旋转轴线51的旋转运动方式、或者沿移动表面30形成的环形路径进行前进或后退运动的方式移动物体20。
优选地，悬挂装置3是通常在径向方向上延伸的板簧，并且优选地，撞击质量体2还具有沿着板簧分布的质心，使得离心力沿着板簧的轴线作用而不使板簧变形。
优选地，图1所示的连接装置23是磁性装置，而表面30优选地由磨光钢制成，并且表面22能够由聚合材料(例如PTFE、PE或类似物)制成。
优选地，构成平衡质量体的物体20还包括低摩擦构件24，优选为滚柱轴承，其调节外环32或上部部分之间的相互作用，其从外部限制表面22并限制物体20的上表面。实际上，当工具达到提高的速度时，这两个表面之间的相互作用力非常高，也接近吨级，并且低摩擦构件对于防止所形成的摩擦力完全阻碍物体20相对于旋转构件50的运动是必要的。
最后，该平衡装置包括其他本身已知的设备和装置，例如不平衡传感器，通常由振动传感器、控制装置等形成。
在例如专利文献EP 2717032 A的第22段至第62段以及图1至图4、或专利文献EP0409050 B1的第3栏第20行至第5栏第46行以及图1至图4中对类似的平衡装置及其操作进行描述。与上述专利文献相比，此平衡装置中的唯一区别在于：在上述专利文献中，通过沿旋转构件的轴线设置的电机移动平衡质量体，而在本申请中，通过本文所述的移动设备1来移动这些平衡质量体。
本发明包括一种借助移动设备1使物体20沿着移动表面30移动的新方法。优选地，这种方法是利用先前描述的物理元件和具体的或功能参数来实施的。
所述移动方法包括以下步骤：
-优选地如前所述，使撞击质量体2沿着闭合路径4a反复移动，
-优选地如前所述，使撞击质量体2沿着前进线路及方向2a撞击头部5，引起超过摩擦力的反作用力，该反作用力能够使物体20相对于移动表面30移动，
-优选地如前所述，使撞击质量体2沿着闭合路径4a移动，而不进行所述撞击，同样不会引起超过所述摩擦力的、能够使物体20相对于移动表面30移动的反作用力。
优选地，所述方法还构成用于一旋转构件的平衡方法。
根据本发明的移动设备1以及平衡装置实现了多个重要的优点。
实际上，移动设备1由很少的几个部件组成，其坚固且耐受提升的应力和加速度。因此，移动设备1简单且价格低廉。
此外，移动设备1对于在平衡装置中移动这些补偿质量体的方面是理想的。事实上，移动设备1易于耐受大幅提升的离心加速度并且不需要外部旋转发动机，而仅需要能够位于质量体或物体20内部的、或通过电磁感应或类似方式从外部网络连接的电源。
所述的平衡装置还允许获得环形结构，该环形结构使同一装置的轴向部分保持自由。
本发明的各种变化均落入权利要求限定的发明构思的范围内。在本文中，所有细节都能够用等同元件代替，并且能够使用任何材料、形状和尺寸。

Claims (13)

1.一种用于沿着移动表面(30)移动物体(20)的移动设备(1)，其特征在于，所述移动设备(1)包括：
-撞击质量体(2)以及将所述撞击质量体(2)约束到所述物体(20)的悬挂装置(3)，
-移动装置(4)，适于使所述撞击质量体(2)沿着闭合路径(4a)反复移动，并被约束到所述物体(20)，
-头部(5)，约束到所述物体(20)，适于干涉所述闭合路径(4a)，
-所述撞击质量体(2)沿着前进线路及方向(2a)干涉所述头部(5)，
-连接装置(23)，用于将所述物体(20)连接到所述移动表面(30)，适于在所述物体(20)和所述移动表面(30)之间产生摩擦力，
-当所述撞击质量体(2)干涉所述头部(5)时，所述撞击质量体(2)引发超过所述摩擦力的一反作用力，所述反作用力能够使所述物体(20)相对于所述移动表面(30)在与撞击质量体(2)的加速度和质量成正比的实体位移的前进线路及方向(2a)上移动，
-当所述撞击质量体(2)并不沿所述闭合路径(4a)干涉所述头部(5)时，所述撞击质量体(2)不会引发能够使所述物体(20)相对于所述移动表面(30)移动的、超过所述摩擦力的反作用力。
2.根据权利要求1所述的移动设备(1)，其中，所述移动装置(4)包括永磁体(6)和螺线管(7)。
3.根据权利要求2所述的移动设备(1)，其中，所述永磁体(6)一体地约束到所述撞击质量体(2)并且形成所述撞击质量体(2)的至少一部分。
4.根据权利要求1所述的移动设备(1)，其中，所述悬挂装置(3)由弹性元件形成，并且所述闭合路径(4a)由沿相反方向交替行进的线路形成。
5.根据权利要求1所述的移动设备(1)，其中，所述物体(20)包括刚性框架(21)，并且其中，所述头部(5)一体地约束到所述刚性框架(21)。
6.根据权利要求1所述的移动设备(1)，其中，所述连接装置(23)包括支撑表面(22)，所述支撑表面(22)用于支撑所述物体(20)、所述移动表面(30)和重力。
7.根据权利要求1所述的移动设备(1)，其中，所述连接装置(23)包括适于使所述物体(20)压靠所述移动表面(30)的弹性推力装置。
8.根据权利要求1所述的移动设备(1)，其中，所述连接装置(23)包括适于使所述物体(20)压靠所述移动表面(30)的磁性装置(31)。
9.一种可变配置装置(40)，包括移动表面(30)和至少一个能移动的物体(20)，所述物体(20)包括至少一个根据前述权利要求1-8中任一项所述的移动设备(1)。
10.根据权利要求9所述的可变配置装置(40)，包括多个所述移动设备(1)，每个所述移动设备适于沿不同的前进线路及方向(2a)移动所述物体(20)。
11.一种用于旋转构件(50)的平衡装置，其包括根据前述权利要求9-10中任一项所述的可变配置装置(40)，所述旋转构件(50)能绕旋转轴线(51)旋转，其中，所述移动表面(30)与所述旋转构件(50)一体地设置并且所述移动表面(30)基本上是环形的，其轴线与所述旋转轴线(51)重合，其中，至少一个所述物体(20)构成平衡质量体，所述平衡质量体适于平衡所述旋转构件(50)相对于所述旋转轴线(51)旋转的不平衡。
12.根据权利要求11所述的平衡装置，其中，形成平衡质量体的所述物体(20)的数量为两个，并且每个所述物体包括两个所述移动设备(1)，所述移动设备适于沿着所述环形移动表面(30)以相反方向并以绕所述旋转轴线(51)旋转的方向移动每个所述物体(20)。
13.一种借助于根据权利要求1-8中任一项所述的移动设备(1)使物体(20)沿着移动表面(30)移动的方法，所述移动方法的特征在于，其包括以下步骤：
-使所述撞击质量体(2)沿着所述闭合路径(4a)反复移动，
-使所述撞击质量体(2)沿着前进线路及方向(2a)撞击所述头部(5)，引发超过所述摩擦力的一反作用力，所述反作用力能够使所述物体(20)相对于所述移动表面(30)在与撞击质量体(2)的加速度和质量成正比的实体位移的前进线路及方向(2a)上移动，
-使所述撞击质量体(2)沿所述闭合路径(4a)移动，而不包括所述撞击，不会引发超过所述摩擦力的、能够使所述物体(20)相对于所述移动表面(30)移动的反作用力。
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