CN110205599A - 基板承载台及蒸镀设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种基板承载台及蒸镀设备，基板承载台包括：基台，包括支撑面，支撑面具有支撑区域和位于支撑区域外周的限位区域，支撑区域用于承载基板；定位组件，定位组件与基台连接并凸出于支撑面，定位组件与基台一并形成限位容纳部，基板能够设置于限位容纳部中，至少部分定位组件在支撑区域上具有第一极限位置，在限位区域具有第二极限位置，至少部分定位组件在第一极限位置及第二极限位置之间变换，以适应基板的尺寸。本发明提供的基板承载台及蒸镀设备能够使基板承载台能够对基板进行准确对位，减少对基板的损伤。

Description

基板承载台及蒸镀设备

技术领域

本发明涉及显示领域，具体涉及一种基板承载台及蒸镀设备。

背景技术

目前，在蒸镀腔室内进行蒸镀的过程中，机械手将基板传递至基板承载台上，然后通过压合设备将基板平稳的设置在基台上。当机械手将基板传递至基板承载台上时，基板承载台上需要对基板进行准确的定位，以使像素单元等的膜层结构准确的蒸镀在基板上。若机械手传送有偏差或者基板边缘不均一、存在毛刺或者其他凹凸不平的情况，在压合过程中会导致基板出现破角或者裂片的问题，破角或者裂片掉落至蒸镀腔室中时会对腔室氛围造成污染。

因此，需要提供一种新的基板承载台及蒸镀设备。

发明内容

本发明提供一种基板承载台及蒸镀设备，旨在使基板承载台能够对基板进行准确对位，减少对基板的损伤。

一方面，根据本发明实施例提出了一种基板承载台，包括基台，包括支撑面，支撑面具有支撑区域和位于支撑区域外周的限位区域，支撑区域用于承载基板；定位组件，定位组件与基台连接并凸出于支撑面，定位组件与基台一并形成限位容纳部，基板能够设置于限位容纳部中，至少部分定位组件在支撑区域上具有第一极限位置，在限位区域具有第二极限位置，至少部分定位组件在第一极限位置及第二极限位置之间变换，以适应基板的尺寸。

根据本发明实施例的一个方面，定位组件围合形成限位容纳部的侧边界，定位组件在侧边界的周向上间隔分布。

根据本发明实施例的一个方面，基板承载台进一步包括滑动组件，定位组件和基台通过滑动组件彼此滑动连接；可选地，在第一极限位置与第二极限位置的排布方向上，滑动组件包括沿排布方向延伸并彼此滑动连接的滑轨以及滑块，滑轨及滑块在垂直于排布方向上的截面均呈“L”形且彼此相互扣合，滑轨和滑块的其中一者连接于基台，滑轨和滑块的另一者连接于定位组件。

根据本发明实施例的一个方面，基板承载台进一步包括多个驱动件，驱动件包括本体和伸缩杆，本体固定在基台上，伸缩杆与定位组件连接。

根据本发明实施例的一个方面，定位组件设置在支撑面且与基台铰接，基板承载台进一步包括缓冲件，缓冲件设置在基台上，缓冲件与定位组件连接，通过缓冲件使定位组件转动连接在基台上。

根据本发明实施例的一个方面，基台的支撑区域设置有凹槽，凹槽由靠近支撑面起始向背离支撑面方向凹陷预定距离形成，缓冲件设置在凹槽内；可选的，缓冲件的极限压缩尺寸小于或等于预定距离。

根据本发明实施例的一个方面，定位组件包括相互连接的撑托部和定位部，撑托部能够与支撑面接触，定位部与撑托部之间呈预设角度设置。

根据本发明实施例的一个方面，定位组件包括定位块和套设在定位块上的调节件，在定位块的轴向上，调节件的投影环绕定位块的投影设置；可选的，在定位块的轴向上，调节件的外轮廓的投影为圆形。

另一方面，根据本发明实施例提出了一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔室，基板置于蒸镀腔室内进行蒸镀；基板承载台，如上述的基板承载台，基板承载台设置在蒸镀腔室中，对置于蒸镀腔室内的基板进行定位。

根据本发明实施例的另一个方面，定位组件包括定位块和套设在定位块上的调节件，在定位块的轴向上，调节件的投影环绕定位块的投影设置，调节件与基板的膨胀系数相同。

根据本发明实施例的基板承载台，通过将多个定位组件之间形成限位容纳部，使得基板能够放置在限位容纳部中，以对基板在基台上的位置进行限定，进一步的，由于至少部分定位组件在基台的支撑区域具有第一极限位置，在限位区域具有第二极限位置，通过将至少部分的定位组件在第一极限位置及第二极限位置之间变换，以使定位组件与基台之间的相对位置可以根据基板的实际尺寸进行调整；通过调整限位容纳部之间的尺寸，使得当基板放置在基台上时允许有较大的偏差。进一步的，通过定位组件在第一极限位置及第二极限位置之间的变换，以使定位组件能够排布形成预设位置，该预设位置为基板在基台上的投影，通过将定位组件排布形成预设位置，能够对基板进行准确定位。而且，由于定位组件在基台上的位置能够变换，可以使得定位组件能够对不同尺寸的基板进行定位，提高了基台的通用性。

附图说明

通过阅读以下参照附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显，其中，相同或相似的附图标记表示相同或相似的特征，附图并未按照实际的比例绘制。

图1是本发明一个实施例的基板承载台的立体结构示意图；

图2是本发明一个实施例的基板承载台的俯视图；

图3是图2中所示基板承载台第一种沿A-A方向的剖视图；

图4是图2中所示基板承载台第二种沿A-A方向的剖视图；

图5是本发明一个实施例的基板承载台放置了基板的结构示意图；

图6是本发明另一个实施例的基板承载台的立体示意图；

图7是本发明另一个实施例的基板承载台的俯视图；

图8是图7中沿B-B方向的剖视图；

图9是本发明另一个实施例的基板承载台在未放置基板时的结构示意图；

图10是本发明另一个实施例的基板承载台在放置基板后的结构示意图。

图中：

100-基板承载台；

10-基台；11-支撑面；12-支撑区域；121-第一极限位置；13-限位区域；131-第二极限位置；14-凹槽；

20-定位组件；21-撑托部；22-定位部；23-定位块；24-调节件；

30-限位容纳部；31-侧边界；

40-滑动组件；41-滑轨；42-滑块；

50-驱动件；51-本体；52-伸缩杆；

60-缓冲件；

300-基板。

具体实施方式

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例，为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及具体实施例，对本发明进行进一步详细描述。应理解，此处所描述的具体实施例仅被配置为解释本发明，并不被配置为限定本发明。对于本领域技术人员来说，本发明可以在不需要这些具体细节中的一些细节的情况下实施。下面对实施例的描述仅仅是为了通过示出本发明的示例来提供对本发明更好的理解。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

应当理解，在描述部件的结构时，当将一层、一个区域称为位于另一层、另一个区域“上面”或“上方”时，可以指直接位于另一层、另一个区域上面，或者在其与另一层、另一个区域之间还包含其它的层或区域。并且，如果将部件翻转，该一层、一个区域将位于另一层、另一个区域“下面”或“下方”。

下面将详细描述本发明的各个方面的特征和示例性实施例。此外，下文中所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。

为了更好地理解本发明，下面结合图1至图10对本发明实施例的基板承载台100以及蒸镀设备进行详细描述。

目前在显示面板的制作过程中，可以通过真空蒸发镀膜技术在基板300上形成显示面板中的膜层结构。真空蒸发镀膜是指在真空环境中，将待成膜物质加热蒸发或升华后，使其在低温的基板300表面凝结或沉积，以形成镀层的工艺。待成膜物质在蒸镀坩埚内部加热蒸发或升华后，上升并通过蒸镀坩埚上方的蒸发孔发出，基板300匀速通过蒸发孔出口处的位置，蒸发出的待成膜物质离开蒸镀坩埚后的加热后逐渐降温，蒸发运动的速度也逐渐降低，最终在基板300的表面沉积形成膜层。当基板300需要进行蒸镀时，首先通过机械手将基板300传动至蒸镀腔室内，并将基板300放置在基板承载台100上进行定位，然后通过压合设备将基板300与基板承载台100牢固的结合在一切。在此过程中，若机械手在传送过程中出现偏差或基板300的制作存在误差，在压合过程中，压合设备会导致基板300出现破角或者裂片的问题，破角或者裂片掉落至蒸镀腔室中时会对腔室氛围造成污染。

本发明实施例提供一种蒸镀设备，主要包括蒸镀腔室和基板承载台100，基板300置于蒸镀腔室内进行蒸镀；基板承载台100设置在蒸镀腔室中，对置于蒸镀腔室内的基板300进行定位。通过在蒸镀腔室内设置基板承载台100，能够对进入到蒸镀腔室内的基板300进行支撑，并对基板300进行准确定位，以使蒸镀腔室中的待成膜物质能够更准确的蒸镀至基板300上。

在一些实施例中，本发明实施例的提供的基板承载台100包括定位组件20，定位组件20包括定位块23和套设在定位块23上的调节件24，在定位块23的轴向上，调节件24的投影环绕定位块23的投影设置，调节件24与基板300的膨胀系数相同。

调节件24可以为热塑性材料或者酚醛树脂等材料制成，具有较好的耐高温性能。

由于调节件24设置在蒸镀设备的蒸镀腔室中进行使用，当蒸镀设备在工作状态，即蒸镀源中的待成膜物质处于蒸发状态时，蒸镀腔室中的温度较高，基板300放置在蒸镀腔室中时，在蒸发状态下，基板300处于较高的温度环境下，会使其在高温作用下产生微形变，通过将调节件24的膨胀系数设置为与基板300的相同，可以使得调节件24能够与基板300做同步微形变，仍然能够保证对基板300的准确定位，同时防止基板300产生的形变与调节件24的形变不一致，而导致定位组件20对基板300造成损伤。

在一些可选的实施例中，蒸镀设备包括壳体，基板承载台100与壳体连接，以对进入至蒸镀设备中的基板300进行支撑和定位。当基板承载台100应用至蒸镀设备中时，其一端可以与壳体固定连接，以使基板300能够在蒸镀过程中保持固定的状态。当通过上述设置，能够满足基板300的蒸镀要求，使蒸镀腔室中的待成膜物质准确的形成在基板300上，提高显示面板的显示质量和制作良率。

可选的，为了提高对基板300的蒸镀效率，可以在蒸镀设备的蒸镀腔室中设置多个基板承载台100，可以使得蒸镀设备能够对多个基板300进行同时蒸镀，可以理解的是，也可以在蒸镀设备中设置一个基板承载台100，基板承载台100上具有能够支撑并定位多个基板300的定位组件20，可以对多块基板300同时进行蒸镀，有效提高蒸镀设备的蒸镀效率。

为了优化基板承载台100的结构，保证基板承载台100对基板300更好的支撑作用和准确的定位，本发明实施例还提供一种新的基板承载台100，基板承载台100可以作为独立的构件单独生产销售，也可以用于上述各实施例的蒸镀设备中作为蒸镀设备的组成部分，即，上述各实施例的蒸镀设备中，其至少一个基板承载台100可以采用本发明实施例的基板承载台100。

为了更好的理解本发明实施例的基板承载台100，请一并参阅图1至图5，图1示出了本发明一个实施例的基板承载台的立体结构示意图，图2示出了本发明一个实施例的基板承载台的俯视图，图3示出了图2中所示基板承载台的第一种沿A-A方向的剖视图；图4示出了图2中所示基板承载台的第二种沿A-A方向的剖视图，图5示出了本发明一个实施例的基板承载台放置了基板的结构示意图。

本发明实施例的基板承载台100，包括基台10和定位组件20，基台10包括支撑面11，支撑面11具有支撑区域12和位于支撑区域12外周的限位区域13，支撑区域12用于承载基板300。定位组件20与基台10连接并凸出于支撑面11，定位组件20与基台10一并形成限位容纳部30，基板300能够设置于限位容纳部30中，至少部分定位组件20在支撑区域12上具有第一极限位置121，在限位区域13具有第二极限位置131，至少部分定位组件20在第一极限位置121及第二极限位置131之间变换，以适应基板300的尺寸。

本发明实施例提供的基板承载台100，至少部分的定位组件20能够在第一极限位置121和第二极限位置131之间进行变换，使得定位组件20形成的限位容纳部30的尺寸能够进行调整，一方面，能够对基板300进行更准确的定位；另一方面，由于限位容纳部30的尺寸能够进行变化，使得通过定位组件20的变换能够对多种尺寸的基板300进行准确定位，提高基板承载台100的通用性。

在一些可选的实施例中，基台10设置有支撑面11，用于支撑基板300，支撑面11上的支撑区域12可以根据基板300的尺寸进行设置，具体的，支撑区域12覆盖基板300在基台10上的投影。或者，当本发明实施例的基板承载台100能够对多种尺寸的基板300进行准确定位时，支撑区域12能够覆盖最大尺寸的基板300在基台10上的投影。可以理解的是，支撑区域12的形状可以根据基板300的结构进行设计，例如支撑区域12的形状可以与基板300的结构相同。限位区域13设置于支撑区域12外周侧，可选的，限位区域13可以为设置在支撑区域12外周侧的环形区域，通过使定位组件20在第一极限位置121和第二极限位置131之间进行变换，能够使得定位组件20在支撑区域12和限位区域13之间进行变换，相较于定位组件20在整个基台10上均可以移动变换，能够有效提高定位组件20的定位效率，同时，能够减少定位组件20的大范围移动对基板300造成损伤。

当然，当基板承载台100上能够对多个基板300同时支撑时，支撑区域12可以在基台10的支撑面11上呈阵列分布，同时，每个支撑区域12的外周侧均设置有限位区域13，多个限位区域13之间间隔分布，避免多个定位组件20在从第一极限位置121变换到第二极限位置131时相互之间产生干扰。可以理解的是，当基板承载台100上可以容纳多个基板300时，可以使用线蒸镀源或面蒸镀源对基板300进行蒸镀，提高蒸镀效率。

可选的，定位组件20围合形成限位容纳部30的侧边界31，定位组件20在侧边界31的周向上间隔分布。通过使定位组件20在限位容纳部30的侧边界31上间隔部分，使得限位容纳部30的侧边界31具有开口，使得定位组件20在保证准确定位的基础上，减少定位组件20与基板300的接触面积，有效减少定位组件20对基板300造成的损伤。

请参阅图3，在一个可选的实施例中，基板承载台100进一步包括滑动组件40，定位组件20和基台10通过滑动组件40彼此滑动连接；可选地，在第一极限位置121与第二极限位置131的排布方向上，滑动组件40包括沿该排布方向延伸并彼此滑动连接的滑轨41以及滑块42，滑轨41及滑块42在垂直于该排布方向上的截面均呈“L”形且彼此相互扣合，滑轨41和滑块42的其中一者连接于基台10，滑轨41和滑块42的另一者连接于定位组件20。

通过将定位组件20通过滑动组件40与基台10进行连接，可以使定位组件20沿着固定轨迹进行移动，以使定位组件20进行快速的变换对基板300进行支撑和定位。进一步的，通过将滑动组件40设置为滑轨41与滑块42相互配合的形式，并限定二者在垂直于排布方向上的截面均呈“L”形，使得二者之间不仅能够更好的满足定位组件20和基板承载台100之间滑动连接需求，同时能够通过滑轨41以及滑块42防止定位组件20以及基台10在排布方向上彼此脱离，进一步优化基板承载台100的性能。

请参阅图4，在一个可选的实施例中，基板承载台100进一步包括多个驱动件50，驱动件50包括本体51和伸缩杆52，本体51固定在基台10上，伸缩杆52与定位组件20连接。可选的，驱动件50可以为气压组件、电动组件或液压组件一种或组合。通过在基板承载台100上设置驱动件50，驱动件50的伸缩杆52能够带动定位组件20沿固定的轨迹进行运动，以对基板300进行定位。可选的，多个驱动件50能够同步进行运动，以使定位组件20形成的限位容纳部30从各个方向同步变化，提高定位组件20的定位效率。

可以理解的是，驱动件50的数量可以根据定位组件20的数量进行确定，或者可以将至少部分的定位组件20与驱动件50连接，至少部分的定位组件20与滑动组件40连接滑动连接。

在具体实施时，基板承载台100可以具有第一状态和第二状态，在基板承载台100的厚度方向，支撑区域12的投影覆盖基板300的投影；在第一状态下，限位容纳部30的尺寸大于基板300的尺寸，定位组件20的至少部分置于限位区域13；在第二状态下，限位容纳部30的尺寸小于或等于基板300的尺寸，多个定位组件20设置于支撑区域12，以对基板300进行支撑和定位。在基板300蒸镀结束后形成阵列基板300，使至少部分的定位组件20向远离阵列基板300的方向移动，增大限位容纳部30的尺寸，通过机械治具或机械手将阵列基板300进行移动，更换下一块基板300进行重新支撑和定位，以对基板300进行蒸镀。

请一并参阅图6至图10，图6示出了本发明另一个实施例的基板承载台的立体示意图，图7示出了本发明另一个实施例的基板承载台的俯视图，图8示出了图7中沿B-B方向的剖视图，图9示出了本发明另一个实施例的基板承载台在未放置基板时的结构示意图，图10示出了本发明另一个实施例的基板承载台在放置基板后的结构示意图。

在一些可选的实施例中，定位组件20设置在支撑面11且与基台10铰接，基板承载台100进一步包括缓冲件60，缓冲件60设置在基台10上，缓冲件60与定位组件20连接，通过缓冲件60使定位组件20转动连接在基台10上。缓冲件60具有预定的缓冲变形能力，通过将缓冲件60设置在基台10上，同时定位组件20与基台10铰接，在缓冲件60从初始状态下到受到外力作用时，缓冲件60能够产生形变，由于缓冲件60与定位组件20连接，使得定位组件20在缓冲件60的形变作用下绕着铰接点进行旋转，定位组件20在旋转过程中以改变限位容纳部30的尺寸，以对基板300进行更好的定位，同时，相较于固定设置的定位组件能够有效减少对基板300的损坏。

在一些可选的实施例中，基台10的支撑区域12设置有凹槽14，凹槽14由靠近支撑面11起始向背离支撑面11方向凹陷预定距离形成，缓冲件60设置在凹槽14内；可选的，缓冲件60的极限压缩尺寸小于或等于预定距离。通过合理设置缓冲件60的尺寸，以使通过缓冲件60的弹性作用使得定位组件20绕着铰接点进行转动，以增大限位容纳部30的尺寸，同时，缓冲件60在受到外力作用时，例如当基板300放置在基板承载台100上时，缓冲件60受到压缩作用，带动定位组件20进行旋转，直至定位组件20变换至第一极限位置121，此时，定位组件20能够将基板300能够准确的定位，放置基板300在基板承载台100上发生移动。

在一些可选的实施例中，当基板300的截面为矩形结构时，多个定位组件20可以设置在基板300的四个角处，也可以使用基板300的对角位置进行定位。在一些可选的实施例中，定位组件20的数量可以为八个，在基板300的每个角处分别设置两个定位组件20，每个角处的定位组件20分别设置在基板300的不同侧边上，以对基板300进行更好的定位。可以理解的是，当基板300的截面为圆形结构时，多个定位组件20均匀设置在限位容纳部30的侧边界31上。

结合上述可能的实现方式，如图6所示，定位组件20包括相互连接的撑托部21和定位部22，撑托部21能够与支撑面11接触，定位部22与撑托部21之间呈预设角度设置。其中，定位部22在旋转过程中也能够与基台10表面接触，撑托部21主要用于支撑基板300，定位部22用于对基板300进行定位。可选的，预设角度可以为90度至120度，通过合理设置预设角度，可以使定位组件20能够更好的对基板300进行定位，同时，也可以增大定位组件20绕着铰接点进行旋转的旋转角度，以使限位容纳部30的能够容纳不同尺寸的基板300。

可以理解的是，为了对基板300的各个方向运动的自由度进行限制，还可以在限位容纳部30的侧边界31的各个方向均设置定位组件20，例如，当基板300为矩形结构时，可以在基板300的其中一个角处设置两个定位组件20，两个定位组件20的支撑部21的轴线相交设置。

在一些实施例中，撑托部21与定位部22之间的预设角度为90度，通过将基板承载台100上定位组件20设置成具有相互垂直的撑托部21和定位部22，可以对基板300进行较好的支撑和定位作用。另外，基板承载台100设置凹槽14，凹槽14内装置缓冲件60，例如，缓冲件60可以为弹簧，缓冲件60用于支撑撑托部21，在基板300传送至基板承载台100之前，在缓冲件60的支撑下，定位组件20的支撑部21与基台10呈现一定的角度；当机械手将基板300传至载台后，在基板300重力作用下，缓冲件60收缩至凹槽14内部，支撑部21与基台10的支撑面11接触，通过这种定位组件20对基板300进行卡位时，可减少定位组件20对基板300造成的挤压，防止基板300的损伤。

请进一步参阅图3和图4，在一些可选的实施例中，定位组件20包括定位块23和套设在定位块23上的调节件24，在定位块23的轴向上，调节件24的投影环绕定位块23的投影设置。通过设置调节件24，且调节件24的投影环绕定位块23的投影设置，使得调节件24能够相对定位块23进行转动，此时，当基板300放置在基板承载台100上，在压合设备对基板300施加压力的过程中，基板300能够随着调节件24进行移动，以减少定位组件20对基板300造成的损伤。可选的，在定位块23的轴向上，调节件24的外轮廓的投影为圆形。通过将调节件24设置成圆形，使得可蒸镀基板300在随着调节件24进行移动的过程中，调节件24转动至各个方向时，限位容纳部30的尺寸是均匀且一致的，能够对可蒸镀基板300进行准确的定位，防止对基板300造成损伤。

可选的，当定位组件20包括相互连接的撑托部21和定位部22时，调节件24可以套设在定位部22上，且沿定位部22轴向上，调节件24的投影环绕定位部22的投影，此时，定位部22的外周表面的平均尺寸小于调节件24的内表面的平均尺寸，使得调节件24能够绕着定位部22进行旋转，以使定位组件20对基板300定位完成之后，在压合设备对基板300施加压力时，基板300可以随着调节件24的旋转同步移动，以减少压合设备和定位组件20对基板300的损坏。可以理解的是，为了限制调节件24沿定位部22轴向上的自由度，调节件24和定位部22之间设置有轴承，或者调节件24和定位部22的其中一者设置有凸出部，另一者设置有与凸出部相配合的凹部，通过将凸出部与凹部相配合，在不影响调节件24能够绕着定位部22进行旋转的基础上，限制调节件24沿定位部22的轴向移动的自由度，同时，也能够保证调节件24与定位块23连接的稳定性，防止定位组件20在第一极限位置121和第二极限位置131运动的过程中，调节件24从定位块23上脱离。

在具体实施时，请参阅图9至图10，以下说明以定位组件20包括撑托部21和定位部22为例进行说明，在基板承载台100未放置基板300时，调节件24在缓冲件60的弹性作用下，撑托部21与定位部22均与支撑面11呈角度设置，此时的限位容纳部30远离基台10的方向的尺寸大于靠近基台10的尺寸，当放置基板300时，机械组件将基板300放置在限位容纳部30中，此时，由于限位容纳部30远离基台10的方向的尺寸大于靠近基台10的尺寸，使得基板300能够更易于放置在限位容纳部30中。在基板300向基台10移动的过程中，调节件24的外周表面逐渐与基板300接触，调节件24的外周表面能够对基板300的运动提供导向作用。当基板300靠近至撑托部21的外周表面时，由于基板300的重力作用，使得缓冲件60被压缩，撑托部21与支撑面11接触，此时将基板300支撑和定位完成，可以对基板300进行蒸镀，形成阵列基板300；当将基板承载台100上的阵列基板300移除时，利用机械手将阵列基板300向远离基台10的方向移动，此时，缓冲件60逐渐恢复初始形态，使得撑托部21绕着铰接点转动。为了更好的对基板300进行支撑，撑托部21背离基台10的表面为平面结构，能够增大与基板300的接触面积，以对基板300进行更好的支撑作用。可以理解的是，在第二极限状态中，定位部22的外周表面能够与支撑面11的限位区域13接触，本发明对此不进行限制。

综上，本发明实施例提供的基板承载台100，因其具有定位组件20和基台10，通过将多个定位组件20之间形成限位容纳部30，使得基板300能够放置在限位容纳部30中，以对基板300在基台10上的位置进行限定，进一步的，由于至少部分定位组件20在基台10的支撑区域12具有第一极限位置121，在限位区域13具有第二极限位置131，通过将至少部分的定位组件20在第一极限位置121及第二极限位置131之间变换，以使定位组件20与基台10之间的相对位置可以根据基板300的实际尺寸进行调整；通过调整限位容纳部30之间的尺寸，使得当基板300放置在基台10上时允许有较大的偏差。进一步的，通过定位组件20在第一极限位置121及第二极限位置131之间的变换，以使定位组件20能够排布形成预设位置，该预设位置为基板300在基台10上的投影，通过将定位组件20排布形成预设位置，能够对基板300进行准确定位。而且，由于定位组件20在基台10上的位置能够变换，可以使得定位组件20能够对不同尺寸的基板300进行定位，提高了基台10的通用性。

而本发明实施例提供的蒸镀设备，因其包括上述各实施例的基板承载台100，能够满足对基板300的支撑和定位要求，使得蒸镀设备具有较高的蒸镀效率和较高的蒸镀质量。

本发明以上各实施例的基板承载台100均是以应用在蒸镀设备为例进行说明，可以理解的是，其只是举例说明，并不限于只应用至上述环境，还可以用于其他需要基板承载台100或需要对基板300进行支撑和定位的领域，在此就不一一列举。

依照本发明如上文的实施例，这些实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该发明仅为所述的具体实施例。显然，根据以上描述，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本发明的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地利用本发明以及在本发明基础上的修改使用。本发明仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (10)

1.一种基板承载台，其特征在于，包括：

基台，包括支撑面，所述支撑面具有支撑区域和位于所述支撑区域外周的限位区域，所述支撑区域用于承载基板；

定位组件，所述定位组件与所述基台连接并凸出于所述支撑面，所述定位组件与所述基台一并形成限位容纳部，所述基板能够设置于所述限位容纳部中，至少部分所述定位组件在所述支撑区域上具有第一极限位置，在所述限位区域具有第二极限位置，至少部分所述定位组件在所述第一极限位置及所述第二极限位置之间变换，以适应所述基板的尺寸。

2.根据权利要求1所述的基板承载台，其特征在于，所述定位组件围合形成所述限位容纳部的侧边界，所述定位组件在所述侧边界的周向上间隔分布。

3.根据权利要求1所述的基板承载台，其特征在于，所述基板承载台进一步包括滑动组件，所述定位组件和所述基台通过所述滑动组件彼此滑动连接；

优选地，在所述第一极限位置与所述第二极限位置的排布方向上，所述滑动组件包括沿所述排布方向延伸并彼此滑动连接的滑轨以及滑块，所述滑轨及所述滑块在垂直于所述排布方向上的截面均呈“L”形且彼此相互扣合，所述滑轨和所述滑块的其中一者连接于所述基台，所述滑轨和所述滑块的另一者连接于所述定位组件。

4.根据权利要求1所述的基板承载台，其特征在于，所述基板承载台进一步包括多个驱动件，所述驱动件包括本体和伸缩杆，所述本体固定在所述基台上，所述伸缩杆与所述定位组件连接。

5.根据权利要求1所述的基板承载台，其特征在于，所述定位组件设置在所述支撑面且与所述基台铰接，所述基板承载台进一步包括缓冲件，所述缓冲件设置在所述基台上，所述缓冲件与所述定位组件连接，通过所述缓冲件使所述定位组件转动连接在所述基台上。

6.根据权利要求5所述的基板承载台，其特征在于，所述基台的所述支撑区域设置有凹槽，所述凹槽由靠近所述支撑面起始向背离所述支撑面方向凹陷预定距离形成，所述缓冲件设置在所述凹槽内；

优选地，所述缓冲件的极限压缩尺寸小于或等于所述预定距离。

7.根据权利要求1至6任一项所述的基板承载台，其特征在于，所述定位组件包括相互连接的撑托部和定位部，所述撑托部能够与所述支撑面接触，所述定位部与所述撑托部之间呈预设角度设置。

8.根据权利要求1至6任一项所述的基板承载台，其特征在于，所述定位组件包括定位块和套设在所述定位块上的调节件，在所述定位块的轴向上，所述调节件的投影环绕所述定位块的投影设置；

优选地，在所述定位块的轴向上，所述调节件的外轮廓的投影为圆形。

9.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：

蒸镀腔室，基板置于所述蒸镀腔室内进行蒸镀；

基板承载台，如权利要求1至8所述的基板承载台，所述基板承载台设置在所述蒸镀腔室中，对置于所述蒸镀腔室内的所述基板进行定位。

10.根据权利要求9所述的蒸镀设备，其特征在于，所述定位组件包括定位块和套设在所述定位块上的调节件，在所述定位块的轴向上，所述调节件的投影环绕所述定位块的投影设置，所述调节件与所述基板的膨胀系数相同。