CN110119072B - 曝光组件及曝光装置 - Google Patents
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Abstract
一种曝光组件及曝光装置，其中，曝光组件包含：一底座及一吸附板。底座用以与一抽气模块连接。吸附板用以承载一待曝光件，吸附板设置于底座上，吸附板包含有多个穿孔，抽气模块能通过穿孔使待曝光件贴附于吸附板；吸附板能吸收通过吸附板而由底座反射的部分曝光光束。如此，可以大幅降低待曝光件受到通过吸附板而由底座反射的曝光光束的影响。
Description
技术领域
本发明涉及一种曝光组件及曝光装置，特别是一种通过抽气模块吸附待曝光件的曝光组件及曝光装置。
背景技术
现有的曝光装置，根据待曝光件的不同，有各种不同的曝光方式。其中一种常见的方式是，待曝光件设置于一玻璃板上，曝光光源设置于玻璃板上方，在进行曝光作业时，曝光光源将由待曝光件的上方投射曝光光束，以照射待曝光件。然，在实际应用中，此种方式的曝光装置，容易发生有部分区域过度曝光的问题，进而导致曝光合格率低的问题。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种曝光组件及曝光装置，用以改善现有技术中，曝光组件及曝光装置容易发生待曝光件的部分区域过度曝光的问题。
为了实现上述目的，本发明提供一种曝光组件，其包含：一底座及一吸附板。底座用以与一抽气模块连接。吸附板用以承载一待曝光件，吸附板设置于底座上，吸附板包含有多个穿孔，抽气模块能通过穿孔使待曝光件贴附于吸附板；吸附板能吸收通过吸附板而由底座反射的部分曝光光束。
优选地，所述底座包含有多个气体流道及至少一个抽气孔，所述抽气孔与所述抽气模块相连接，多个所述气体流道对应地位于所述吸附板的下方，且多个所述穿孔与多个所述气体流道相互连通。
优选地，所述底座具有一凹槽，形成所述凹槽的底部设置有多个支撑凸条，多个所述支撑凸条对应地将所述凹槽分隔为多个所述气体流道；其中，多个所述支撑凸条用以支撑设置于所述底座上的所述吸附板。
优选地，所述底座包含有三个所述抽气孔，多个所述支撑凸条的其中两个呈现为环状，呈现为环状的两个所述支撑凸条将所述凹槽分隔为不相互连通的三个所述气体流道，而三个所述抽气孔对应地位于不相互连通的三个所述气体流道中。
优选地，不相互连通的三个所述气体流道中分别设置有至少一个所述支撑凸条及至少一个支撑凸块。
优选地，所述底座具有一凹槽，形成所述凹槽的底部设置有多个支撑凸块，多个所述支撑凸块用以支撑设置于所述底座上的所述吸附板。
优选地，所述底座面对所述吸附板的一侧形成有一吸光层，所述吸光层能吸收通过所述吸附板的部分曝光光束。
为了实现上述目的，本发明还提供一种曝光装置，其包含：一曝光光源、一曝光组件及一抽气模块。曝光光源用以产生曝光光束。曝光组件包含：一底座及一吸附板。底座包含有多个气体流道及至少一个抽气孔。吸附板用以承载一待曝光件，吸附板设置于底座上，而多个气体流道对应地位于吸附板的下方，吸附板包含有多个穿孔，多个穿孔与多个气体流道相连通；吸附板能吸收通过吸附板而由底座反射的曝光光束。抽气模块与抽气孔相连通，抽气模块被控制作业时，能通过多个气体流道及多个穿孔而使待曝光件贴附于吸附板。
优选地，所述底座具有一凹槽，形成所述凹槽的底部设置有多个支撑凸块；其中，多个所述支撑凸块用以支撑设置于所述底座上的所述吸附板。
优选地，所述底座具有一凹槽，形成所述凹槽的底部设置有多个支撑凸条，多个所述支撑凸条对应地将所述凹槽分隔为多个所述气体流道；其中，多个所述支撑凸条用以支撑设置于所述底座上的所述吸附板。
优选地，所述底座包含有三个所述抽气孔，多个所述支撑凸条的其中两个呈现为环状，呈现为环状的两个所述支撑凸条将所述凹槽分隔为不相互连通的三个所述气体流道，而三个所述抽气孔对应地位于不相互连通的三个所述气体流道中。
优选地，所述底座面对所述吸附板的一侧形成有一吸光层，所述吸光层能吸收通过所述吸附板的部分曝光光束。
本发明的有益效果在于：通过吸附板能吸收部分通过吸附板而由底座反射的曝光光束的设计，可以大幅降低待曝光件受由底座反射的曝光光束照射，而发生部分区域过度曝光的问题。
为使能更进一步了解本发明的特征及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而该附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图说明
图1为本发明的曝光装置的示意图。
图2为本发明的曝光组件的分解示意图。
图3为本发明的曝光组件的组合示意图。
图4为本发明的曝光组件的底座的第一实施例的示意图。
图5为图3沿剖面线Ⅴ-V剖开的剖面示意图。
图6为本发明的曝光组件的底座具有吸光层的剖面示意图。
图7为图4的俯视图。
图8为本发明的曝光组件的底座的第二实施例的示意图。
图9为本发明的曝光组件的底座的第三实施例的示意图。
具体实施方式
请参阅图1，其为本发明的曝光装置的示意图。曝光装置100包含有一曝光组件1、一曝光光源2及一抽气模块3。曝光光源2固定设置于曝光组件1上方，曝光组件1及抽气模块3则固定设置于一机台设备(图未标示)中。曝光光源2能发出曝光光束，以对设置于曝光组件1上的待曝光件进行曝光作业；其中，曝光光束的波长例如可以是介于365～435纳米之间，即为紫外光，但不以此为限。抽气模块3用以对曝光组件1进行抽气作业，以使待曝光件A能在曝光作业时紧密地贴附于曝光组件1上。曝光装置100还可以包含有一输送装置4，其可以邻近设置于曝光组件1及抽气模块3所设的机台设备旁。输送装置4还可以包含有一输送单元41(例如是多个滚轮)，而输送装置4可以通过输送单元41将待曝光件A移动至曝光组件1上；当然，输送装置4可以是履带、滚轮组、机械手臂等，在此不加以限制，或者输送装置4也可以是配合机械手臂，以进行待曝光件A的搬运。在不同的应用中，曝光装置100可以包含有多个输送装置4，或者包含有一个输送装置4及一机械手臂，以将待曝光件A送入曝光组件1中，并对完成曝光的待曝光件A进行搬运作业。
请一并参阅图2及图3，其为本发明的曝光组件的分解及组合示意图。如图所示，曝光组件1包含有一吸附板10、一底座20及一基座30，吸附板10固定设置于底座20上，底座20则固定设置于基座30上。吸附板10用以承载待曝光件A，吸附板10包含有多个穿孔101；底座20与一抽气模块3连接，抽气模块3作业时，抽气模块3通过多个穿孔101可以使设置于吸附板10上的待曝光件A贴附于吸附板10上。在实际应用中，吸附板10的穿孔101的个数及各穿孔101的外形可以根据需求加以变化，不以图中所示为限。
在具体的应用中，吸附板10可以是玻璃材质，底座20可以是亚克力材质，而基座30则可以是铝制结构，基座30是用以加强底座20的结构强度。具体来说，抽气模块3进行抽气作业时，底座20可能发生轻微的变形，从而影响待曝光件A的曝光结果，因此，通过将底座20固定设置于基座30的设计，可以加强底座20的结构强度，进而改善底座20在抽气模块进行抽气作业时发生轻微变形的问题。当然，根据实际对待曝光件A的质量要求，曝光组件1也可以不包含基座30，或者曝光组件1的底座20可以由相对较硬的材质制作，在此不加以限制。
特别说明的是，本发明的曝光组件1的吸附板10能吸收通过吸附板10而被底座20反射的部分曝光光束，如此，将可大幅降低待曝光件A的部分区域发生过度曝光的问题。在实际应用中，吸附板10可以是掺有颜色的板材，据以吸附通过底座20反射的部分曝光光束；掺有颜色的板材例如是玻璃、亚克力或是任何复合材料。另外，在不同的实施例中也可以通过改变吸附板10的材质，例如是玻璃、亚克力与其他材料共同制成的复合材料，或者在玻璃、亚克力材料中掺入特定的能吸收曝光光束的材料，以使吸附板10能吸附被底座20反射的曝光光束。
更进一步来说，请一并参阅图3至图5，图5显示为图3沿剖面线Ⅴ-V剖开的剖面示意图。在实际应用中，吸附板10为了与底座20相互固定，因此，吸附板10所包含的穿孔101是不布满整个吸附板10，而吸附板10在多个穿孔101的周围则会对应地形成有至少三个空区域10A、10B、10C，该些空区域10A、10B、10C则可以包含有多个锁固孔，而吸附板10则可利用锁固孔配合锁固件(例如螺丝)，以与底座20相互固定。如图1及图5所示，当曝光光源2所发出的曝光光束，在吸附板10的上方向待曝光件A照射时，部分的曝光光束将会通过吸附板10未被待曝光件A遮蔽的区域及任一个空区域10A(10B、10C)，而被底座20反射，进而反射至吸附板10，此时，吸附板10将可以吸附被底座20反射的曝光光束，因此，被底座20反射的曝光光束，将不容易再次通过吸附板10，而可大幅降低待曝光件A受底座20反射的曝光光束影响而发生部分区域过度曝光的问题。
如图6所示，在不同的实施例中，底座20面对于吸附板10的一侧，可以具有一吸光层21，其能吸附通过吸附板10的曝光光束，如此，通过吸附板10的曝光光束，大部分将被吸光层21吸收，而不容易被反射回吸附板10。吸光层21可以是利用涂布的方式固定形成于吸附板10上，或者吸光层21可以是独立结构，通过任何方式固定设置于吸附板10上。另外，也可以是在吸附板10的部分位置填充、掺入特定的能吸收曝光光束的粒子、材料，以形成吸光层21。当然，在另一实施例中，底座20也可以是整体利用可吸附曝光光束的材质制成，如此，亦可大幅降低底座20反射并通过吸附板10的曝光光束的概率。
请一并参阅图4、图5及图7，图7显示为本发明的曝光组件1的底座20的第一实施例的俯视图。如图所示，底座20面对吸附板10的一侧可以内凹形成有一凹槽201，且底座20的三个抽气孔202的至少一部分可以对应地位于凹槽201中，三个抽气孔202用以与抽气模块3(如图1所示)相互连接。其中，凹槽201及三个抽气孔202对应地位于吸附板10的下方，且凹槽201的面积及三个抽气孔202的位置可以大致位于吸附板10形成有多个穿孔101的下方，而吸附板10的多个穿孔101、凹槽201及三个抽气孔202则是彼此相互连通。如此，当抽气模块3作业时，抽气模块3将可以通过抽气孔202、凹槽201及多个穿孔101，而使设置于吸附板10上方的待曝光件A，紧密地贴附于吸附板10。
在实际应用中，底座20于凹槽201中还可以形成有三个气体流道201B、201C、201D，三个气体流道201B、201C、201D用以导引及限制气体的流动方向。举例来说，凹槽201的底壁可以向吸附板10的方向凸设有两个支撑凸条203，而两个支撑凸条203则能对应地将凹槽201间隔为三个气体流道201B、201C、201D，通过三个气体流道201B、201C、201D的设置，可以使抽气模块3作业时，在吸附板10的各区域形成有大致均等的吸附力，而可避免因为吸附板10的各区域吸附力不同，而导致设置于吸附板10上的待曝光件A(如图3所示)产生微小变形，进而可能影响曝光的质量。另外，各个支撑凸条203还可以用以支撑吸附板10，以避免吸附板10在抽气模块3作业时发生微小变形，而影响曝光的质量。
其中，两个支撑凸条203可以是呈现为环状，呈现为环状的两个支撑凸条203则可对应地将凹槽201分隔为不相互连通的三个气体流道201B、201C、201D，而三个抽气孔202则可以是对应地位于不相互连通的三个气体流道201B、201C、201D中。如此，将可使抽气模块3对吸附板10的各区域产生大致均等的吸附力。在另外的实施例中，凹槽201中还可以是凸设有多个支撑凸块204，其用以辅助支撑吸附板10。当然，在实际应用中，根据吸附板10的大小不同，抽气孔202的数量、支撑凸条203的数量及气体流道201B、201C、201D的数量将可对应地增减，同样地，支撑凸块204的数量及其外形亦可根据需求加以变化，不以图中所示为限。
如图8所示，其显示为底座20的第二实施例的俯视图。底座20可以是除了包含呈现为环状的两个支撑凸条203外，还可以包含有多个非呈现为环状的支撑凸条203’，而非呈现为环状的支撑凸条203’及多个支撑凸块204则可以是散布于三个气体流道201B、201C、201D中。其中，非呈现为环状的支撑凸条203’同样可以是用以支撑吸附板10；当然，在特殊的应用中，部分的支撑凸条203也可以是不用以支撑吸附板10，而仅作为导引及限制气体流动方向的构件。值得一提的是，非呈现为环状的支撑凸条203’设置于三个气体流道201B、201C、201D中时，可以再将气体流道201B、201C、201D分隔为流道更小的气体流道201B1、201B2、201C1、201C2、201D1、201D2，如此，将可使抽气模块3对吸附板10的各区域产生大致均等的吸附力。如图9所示，其显示为本发明的曝光组件的底座20的第三实施例。底座20的各个呈现环状的支撑凸条203中，可以是密集地设置有多个非呈现为环状的支撑凸条203’，如此，将可使抽气模块3对吸附板10的各区域产生大致均等的吸附力。当然，非呈现为环状的支撑凸条203’，其外形、彼此间的距离及数量可以是根据需求加以变化，不以图中所示为限。
Claims (12)
1.一种曝光组件，其特征在于，所述曝光组件包含：
一底座，所述底座用以与一抽气模块连接；及
一吸附板，所述吸附板用以承载一待曝光件，所述吸附板设置于所述底座上，所述吸附板包含有多个穿孔，所述抽气模块能通过所述穿孔使所述待曝光件贴附于所述吸附板；所述吸附板能吸收通过所述吸附板而由所述底座反射的部分曝光光束。
2.根据权利要求1所述的曝光组件，其特征在于，所述底座包含有多个气体流道及至少一个抽气孔，所述抽气孔与所述抽气模块相连接，多个所述气体流道位于所述吸附板的下方，且多个所述穿孔与多个所述气体流道相互连通。
3.根据权利要求2所述的曝光组件，其特征在于，所述底座具有一凹槽，形成所述凹槽的底部设置有多个支撑凸条，多个所述支撑凸条对应地将所述凹槽分隔为多个所述气体流道；其中，多个所述支撑凸条用以支撑设置于所述底座上的所述吸附板。
4.根据权利要求3所述的曝光组件，其特征在于，所述底座包含有三个所述抽气孔，多个所述支撑凸条的其中两个呈现为环状，呈现为环状的两个所述支撑凸条将所述凹槽分隔为不相互连通的三个所述气体流道，而三个所述抽气孔对应地位于不相互连通的三个所述气体流道中。
5.根据权利要求4所述的曝光组件，其特征在于，不相互连通的三个所述气体流道中分别设置有至少一个所述支撑凸条及至少一个支撑凸块。
6.根据权利要求1所述的曝光组件，其特征在于，所述底座具有一凹槽，形成所述凹槽的底部设置有多个支撑凸块，多个所述支撑凸块用以支撑设置于所述底座上的所述吸附板。
7.根据权利要求1所述的曝光组件，其特征在于，所述底座面对所述吸附板的一侧形成有一吸光层，所述吸光层能吸收通过所述吸附板的部分曝光光束。
8.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包含：
一曝光光源，所述曝光光源用以产生曝光光束；
一曝光组件，所述曝光组件包含：
一底座，所述底座包含有多个气体流道及至少一个抽气孔；及
一吸附板，所述吸附板用以承载一待曝光件，所述吸附板设置于所述底座上，而多个所述气体流道对应地位于所述吸附板的下方，所述吸附板包含有多个穿孔，多个所述穿孔与多个所述气体流道相连通；所述吸附板能吸收通过所述吸附板而由所述底座反射的曝光光束；
一抽气模块，所述抽气模块与所述抽气孔相连通，所述抽气模块被控制作业时，能通过多个所述气体流道及多个所述穿孔而使所述待曝光件贴附于所述吸附板。
9.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，所述底座具有一凹槽，形成所述凹槽的底部设置有多个支撑凸块；其中，多个所述支撑凸块用以支撑设置于所述底座上的所述吸附板。
10.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，所述底座具有一凹槽，形成所述凹槽的底部设置有多个支撑凸条，多个所述支撑凸条对应地将所述凹槽分隔为多个所述气体流道；其中，多个所述支撑凸条用以支撑设置于所述底座上的所述吸附板。
11.根据权利要求10所述的曝光装置，其特征在于，所述底座包含有三个所述抽气孔，多个所述支撑凸条的其中两个呈现为环状，呈现为环状的两个所述支撑凸条将所述凹槽分隔为不相互连通的三个所述气体流道，而三个所述抽气孔对应地位于不相互连通的三个所述气体流道中。
12.根据权利要求8所述的曝光装置，其特征在于，所述底座面对所述吸附板的一侧形成有一吸光层，所述吸光层能吸收通过所述吸附板的部分曝光光束。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
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| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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| GR01 | Patent grant | ||
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| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee | ||
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Granted publication date: 20210514 |