JP7100398B1 - 露光装置 - Google Patents

Abstract

【課題】ワークの露光面のうち極小化されて限定された領域以外の大部分の領域において、一の光源のみからのビーム状の光で露光させることができ、かつ、単一の光源がカバーする照射可能範囲よりも大きな範囲に対して露光光を照射することができる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置１は、照射可能範囲の一部が互いにオーバーラップするような位置関係で配置された複数の光源１０ａ，１０ｂと、隣り合う２つの光源１０ａ，１０ｂによる照射可能範囲が互いにオーバーラップするオーバーラップ領域の内側であって、露光面６８からみて光源１０ａ，１０ｂが配置された側に配置された仕切り部材２０と備える。仕切り部材２０の第１側壁２１により一方の光源１０ａからの照射光ＲＬａが第２側壁２２の側へ進行するのを遮断し、第２側壁２２により他方の光源１０ｂからの照射光ＲＬｂが第１側壁２１の側へ進行するのを遮断するようになっている。【選択図】図１

Description

本発明は、露光装置に関する。

ＵＶ硬化樹脂等の感光材料（例えばドライフィルムレジスト）が表面側に配されているワークに対しフォトマスクを介してＵＶ光を照射し、ワークの表面にマスクパターンを露光する露光装置が知られている。露光にあたっては、フォトマスクの主面上のどの部位においても垂直に露光光が照射されることが望ましい。そのため、図１０に示すように、コリメート手段９００を用いて光源１０から出射したビーム状の光ＢＬを平行光ＰＬに変換し、かかる平行光ＰＬを露光光としてフォトマスク５０及びワーク６０に照射することが行われている。
なお、コリメート手段９００の例としてはコリメーション・ミラー９１０などがある。以下、説明を簡便にするためコリメート手段９００のことを単に「コリメーション・ミラー」又は「ミラー」ということがある

近年、市場の要請により大判ワークに露光を行いたい場合がある。すなわち一般的なコリメーション・ミラーがカバーできる照射可能範囲よりも遥かに大きいサイズのワークに対し一括的に露光を行いたい場合がある。ただ、これを実現しようとする場合においては以下のような課題を有している。

（１）大判ワークに露光を行うため、一般的なサイズのコリメーション・ミラーよりも大型のコリメーション・ミラーを用いることも検討できる（図示を省略）。しかし、大型のミラーをフォトマスク上方に配置することからミラーを支えるための大掛かりな構造体が必要となる。また、コリメーション・ミラー自体のコストや前述した構造体のコストも通常より上乗せされてしまう。

（２）また、図１１に示すように、一般的なサイズのコリメーション・ミラー９１０を複数個並べて配置することにより、単一のコリメーション・ミラー９１０がカバーできる照射可能範囲よりも大きな照射範囲を得ようとする構成も検討できる。しかし、このような試みをすると、図１１の矢印Ｕで示した位置でミラー同士が干渉してしまう。

（３）さらに、コリメーション・ミラーを省略した構成で露光を行う方式も提案されている（例えば特許文献１参照）。
特許文献１の図１に記載された露光装置においては（図示は省略）、３つの光源３ａ，３ｂ，３ｃが方向Ｂに沿って並べられ、隣り合う光源から照射された露光光の照射領域の少なくとも一部が重複（オーバーラップ）するように配置されている。そして、フォトマスクにおける透光部の基板搬送方向の長さは、照射領域の重複した部分を踏まえながら、透光部を介して露光される露光対象部分の方向の全幅に渡って露光量が等しくなるように決定されている《特許文献１の図１（ａ）～図１（ｅ），［０００９］～［００１４］段落等参照》。
特許文献１に記載された露光装置によれば、照射領域の重複した部分の露光光の照度ムラを手当てしながらも、単一の光源がカバーする照射可能範囲よりも大きな範囲に対して露光光を照射することができる。

特開２０１３－７３０７３号公報

しかしながら、特許文献１に記載された露光装置においては、重複領域（オーバーラップ領域Ｘ）に２つの光源３ａ、３ｂによる露光光が入光することから、オーバーラップ領域Ｘにおける露光面では重畳的にマスクパターンが露光してしまい、意図したパターンで露光できない場合がある（重畳的な露光・複数のマスクパターンの結像の問題）。

図１２は、特許文献１に記載された３つの光源３ａ，３ｂ，３ｃが並んだ構成に対し、本明細書における説明のためにフォトマスク５０及びワーク６０を追記した「更に別の従来の露光装置９２」の模式図である。図１２（ａ）は露光する際の様子を示す断面図であり、図１２（ｂ）は図１２（ａ）の破線Ｖで囲まれた領域を拡大した要部拡大断面図である。フォトマスク５０及びワーク６０の具体的な構成については後述するため、ここでの説明は省略する。

図１２を参照しながら説明を再開すると、本来、露光面６８には、図面左から開口ＯＰａによる露光、マスクＭＫ１による遮光、開口ＯＰｂによる露光、マスクＭＫ２による遮光の順番でパターニングされることが期待される。しかし、この露光装置９２においては、２つの光源３ａ，３ｂからの光が２方向から入光することから、Ｒ１で示す領域では、開口ＯＰａを窓とした光源３ａによる露光パターンと、開口ＯＰｂを窓とした光源３ｂによる露光パターンとが重畳的に露光してしまう。また、領域Ｒ１の右の領域Ｒ２では、マスクＭＫ１による光源３ａからの露光光の遮光とマスクＭＫ２による光源３ｂからの露光光の遮光とが重畳してしまう（２つの光源によるそれぞれの影が重畳してしまう）。したがって、この場合においてはフォトマスクが有しているマスクパターンの通りのパターンには露光できない。

そこで、本発明は上記した課題を解決するためになされたものであり、ワークの露光面のうち極小化されて限定された領域以外の大部分の領域において、一の光源のみからのビーム状の光で露光させることができ、かつ、単一の光源がカバーする照射可能範囲よりも大きな範囲に対して露光光を照射することができる露光装置を提供することを目的とする。

本発明の一態様によれば、光源とワークとの間に配置されるフォトマスクで当該ワークの露光面にマスクパターンを露光する露光装置が提供される。
この露光装置は、それぞれの照射可能範囲の一部が互いにオーバーラップするような位置関係で配置された複数の光源を備える。第１側壁と該第１側壁と反対側の第２側壁とを有し、隣り合う２つの光源による照射可能範囲が互いにオーバーラップするオーバーラップ領域の内側であって、露光面からみて光源が配置された側に配置された仕切り部材を更に備える。そして、仕切り部材の第１側壁により一方の光源からの照射光が第２側壁の側へ進行するのを遮断し、仕切り部材の第２側壁により他方の光源からの照射光が第１側壁の側へ進行するのを遮断するように構成されている。

本発明の露光装置によれば、ワークの露光面のうち極小化されて限定された領域以外の大部分の領域において、一の光源のみからのビーム状の光で露光させることができ、かつ、単一の光源がカバーする照射可能範囲よりも大きな範囲に対して露光光を照射することができる。

実施形態１に係る露光装置１を説明するために示す図である。 光源１０ａ，１０ｂのそれぞれによる照射可能範囲ＲＡについて説明するための図である。 仕切り部材２０の厚さｔと、ビーム状の光の入射角θ，仕切り部材２０の端面２３と露光面６８との間隔Ｄとの関係を示す図である。 実施形態１に係る露光装置１の作用・効果について説明するための図である。 実施形態１に係る露光装置１の作用・効果について説明するための図である。 サブ・パターン５６が繰り返し配列しているマスクパターン５８を用いて露光を行う場合の一例を示す図である。 実施形態２の仕切り部材２０のバリエーションを説明するための図である。 実施形態３に係る露光装置３を説明するために示す図である。 実施形態４に係る露光装置４を説明するために示す図である。 従来の露光装置９０を説明するために示す図である。 コリメーション・ミラー９１０を複数個並べて配置して別の従来の露光装置９１を構成しようとした場合を示す図である。 特許文献１に記載された３つの光源３ａ，３ｂ，３ｃが並んだ構成に対しフォトマスク５０及びワーク６０を追記した「更に別の従来の露光装置９２」の模式図である。

以下、本発明に係る露光装置について図を参照しながら説明する。なお、各図に共通する符号については当該符号について既に説明した内容を他の図の説明においても援用できることから、他の図における説明を省略する。また、各図面は一例を示した模式図であり必ずしも実際の寸法、比率等を厳密に反映したものではない。また、図においてＢＬ，ＲＬ，ＲＦＬ，ＰＬとの符号を付した矢印は、進行する光の一部を例示的に説明するために表記したものである。矢印の方向は光の進行方向を示し、矢印の太さは光の強さを説明するための便宜的なものである

［実施形態１］
１．実施形態１に係る露光装置１の構成
（１）全体構成
図１は、実施形態１に係る露光装置１を説明するために示す図である。図１（ａ）は露光装置１の断面を正面側から視たときの図であり、図の右側に示した図は破線Ｅで囲まれた領域を拡大した要部断面図である。図１（ｂ）は、それぞれの光源１０ａ，１０ｂに対応した照射可能範囲が合成されて、全体としての照射可能範囲が拡げられた様子を示す平面図である。図１（ｃ）は、図１（ａ）に対応した図で、仕切り部材２０付近の照射光ＲＬａ，ＲＬｂの遮断を説明するための図である。

図１（ａ）に示すように、実施形態１に係る露光装置１は、複数の光源１０ａ，１０ｂ及び仕切り部材２０を備え、光源１０ａ，１０ｂとワーク６０との間に配置されるフォトマスク５０で当該ワーク６０の露光面６８にマスクパターンを露光する露光装置である。

ワーク６０は、露光装置１による照射光ＲＬ（露光光）を受ける部材（被露光部材）であり、フォトマスク５０のマスクパターンに対応したパターンで露光をする目的のものであれば如何なるものであってもよい。実施形態１ではプリント基板の原材をワーク６０の一例として説明をする。一例としてのワーク６０は、図１（ａ）の右側の要部断面図に示すように、基材６６（ポリミイドなどの材）及びその上に積層された導電材６４（銅などの材）を有する基部６３と、基部６３の上に積層された感光材６２と、からなっている。このとき、感光材６２の上側の表面が露光面６８になる。感光材６２は、例えばＵＶ硬化樹脂等の感光材料でなるドライフィルムレジストで構成してもよい。

フォトマスク５０は、一方の面から光を照射したときに、他方の面から、マスクパターンに倣って選択的に一部の光が透過又は通過するように構成されているものであれば如何なるものであってもよい。ここでは、図１（ａ）に示すように透明な平板（ガラス板５２）にマスクパターンが印刷された（パターン印刷部５４）もので構成している。本明細書では、パターン印刷部５４のことを、光を遮光する部分という意味で「マスクＭＫ」といい、パターン印刷部５４と別のパターン印刷部５４とに挟まれた部分で光を透過する部分を「開口ＯＰ」という。

（２）光源１０ａ，１０ｂ
図２は、光源１０ａ，１０ｂのそれぞれによる照射可能範囲ＲＡについて説明するための図である。図２（ａ）は光源１０ａ，１０ｂからビーム状の光ＢＬ（照射光ＲＬ）が露光面６８に向けて照射されるときの様子を正面から視たときの図である。図２（ｂ）は露光面６８に照射された光の照度分布を表すシミュレーション結果の一例を示す図である。なお、照射可能範囲ＲＡについては、光源１０ａに対応する照射可能範囲を「照射可能範囲ＲＡａ」と表記する場合もあり、また、光源１０ｂに対応する照射可能範囲を「照射可能範囲ＲＡｂ」と表記する場合もある。

本明細書において、所定の位置関係で配置された光源１０ａ，１０ｂ（図１等を参照。詳細は後述）のそれぞれの投光面１２の中心を結ぶ方向をｘ方向とし、露光面６８と平行な面上にありｘ方向に垂直な方向をｙ方向とし、ｘ方向及びｙ方向に垂直な方向であって露光面６８から光源１０ａ，１０ｂに向かう方向をｚ方向とする。便宜上、露光装置１をｙ方向に沿って視ることを「正面」視とし、光源１０ａ，１０ｂが配置された方を「上方」又は「上」とし、露光面６８が配置された方を「下方」又は「下」とし、ｚ方向に沿って露光面６８の方を視たときの面を「平面」とする。

光源１０ａ，１０ｂは、対象物に照射する光（照射光ＲＬ）を発する装置である。照射光ＲＬは光源１０ａ，１０ｂの投光面１２の側から発せられるようになっている。投光面１２はある程度の面積を有していてもよいし、凡そ点であってもよい。投光面１２と露光面６８との距離が投光面１２の面積や幅に対して十分大きい場合には投光面１２は凡そ点として考えることもできる。

図１（ａ）及び図２（ａ）に示すように、光源１０ａ，１０ｂが発する照射光ＲＬは、投光面１２から露光面６８の側（ワーク６０の側）に向かって幅が拡がりながら進む略ビーム状の光となっている。このような光を本明細書では「ビーム状の光ＢＬ」というものとする。光源１０ａ、１０ｂは、原則としてビーム状の光ＢＬの中心（光軸Ｌ０）が露光面６８に対し垂直になるようにその姿勢が設定される。

ビーム状の光ＢＬが露光面６８と同じレベル（同じ距離）にある平面に当たると、例えば図２（ｂ）のような照度分布となる。露光面６８の中寄りをｘ方向に沿ってＪ－Ｊ線上を辿ってみていくと、周辺から中央寄りにかけてグラデーションとなって徐々に色の濃さが変化しており、これに伴うようにして照度も周辺から中央寄りにかけて段階的に高くなるような分布を呈している。ｙ方向に沿ってみたときにも同様の照度分布を呈している。

（３）照射可能範囲ＲＡ
どの範囲までを照射可能範囲ＲＡとするかは定義や装置の使い方にも依るが、「照射可能範囲ＲＡ」は光源から十分に広い平面に対して光を照射したときに、当該平面上で露光に利用可能な光（光の束）が照射される平面上の範囲をいうものとする。照射可能範囲ＲＡは、光源がもつ能力としてのビーム角によっても変わる。ここでは、図２（ｂ）のＪ－Ｊ線でいうところの座標ｘ１又は－ｘ１の位置の照度と同じ照度の箇所を連続的に繋げた線（いわば等照度線）の内側の領域を仮に「照射可能範囲ＲＡ」として説明を続ける。

なお、単一の光源（符号１０ａ又は１０ｂ）だけでは、図２（ｂ）の符号ＲＡに示す比較的狭い範囲でしか光を照射することができず、露光可能な範囲もこの狭い照射可能範囲ＲＡの範囲内ということになる。

（４）照射可能範囲ＲＡ同士の連結
隣り合う２つの光源１０ａ，１０ｂを、図２の矢印Ａ及び矢印Ｂで示すように互いに接近させると、それぞれの光源に対応した照射可能範囲ＲＡの一部同士が互いにオーバーラップすることとなる。

実施形態１の露光装置１では、それぞれの照射可能範囲ＲＡの一部が互いにオーバーラップするような位置関係で光源１０ａ、１０ｂが複数個配置された構成を採っている《図１（ａ）参照》。隣り合う２つの光源１０ａ，１０ｂをこのような配置にすると、光源１０ａに対応した照射可能範囲ＲＡａと光源１０ｂに対応した照射可能範囲ＲＡｂとが連結され、全体としての照射可能範囲が拡げられる《図１（ｂ）参照》。その結果、全体としての露光可能な範囲も単一の光源による場合に比べて拡げられる。

参考までに光源１０ａ，１０ｂはｘ方向に沿って配置される。光源１０ａ及び光源１０ｂは、互いに同じスペックのものであるとき、ｚ方向の位置が同じ高さになるよう設定し、光軸Ｌ０が露光面６８に対し垂直になるようそれぞれ設定することが好ましい。

なお、ここでの「それぞれの照射可能範囲ＲＡの一部が互いにオーバーラップするような位置関係で・・配置する」とは、後述する仕切り部材２０が無かったとした場合に照射可能範囲ＲＡがオーバーラップするような位置関係で光源を配置するという意味である。

（５）仕切り部材２０
仕切り部材２０は、第１側壁２１と該第１側壁２１と反対側の第２側壁２２とを有し、第１側壁２１の側と第２側壁２２の側との間の照射光ＲＬａ、ＲＬｂの行き来を遮断できるものからなっている。仕切り部材２０はシャッター、遮光部材などと言い換えることもできる。
仕切り部材２０の形状は、実施形態１の所期の作用・効果を奏するものであれば如何なる形状であってもよい。つまり、第１側壁２１及び第２側壁２２は平面であってもよいし、曲面であってもよいし、段差を有していてもよい。ここでは、第１側壁２１及び第２側壁２２が略平面となっている板状の仕切り部材２０（仕切り板２９）を取り上げて説明を続ける。

仕切り部材２０は、隣り合う２つの光源１０ａ，１０ｂによる照射可能範囲ＲＡａ，ＲＡｂが互いにオーバーラップするオーバーラップ領域Ｘの内側であって《図１（ｂ）参照》、露光面６８からみて光源１０ａ，１０ｂが配置された側、つまり上方に配置されている《図１（ａ）参照》。

露光装置１は、仕切り部材２０の第１側壁２１により一方の光源１０ａからの照射光ＲＬａが第２側壁２２の側へ進行するのを遮断し、仕切り部材２０の第２側壁２２により他方の光源１０ｂからの照射光ＲＬｂが第１側壁２１の側へ進行するのを遮断するように構成されている《図１（ｃ）参照》。

仕切り部材２０を、照射可能範囲ＲＡａ、ＲＡｂにおけるどの位置に相対的に配置するかについて、換言すると双方の照射可能範囲ＲＡａ及び照射可能範囲ＲＡｂのどの位置で照射可能範囲を連結するかについては、露光装置１に要求される露光スペックに応じて適宜に設定することができる。

１つの実施形態としては、仕切り部材２０は、隣り合う２つの光源１０ａ，１０ｂによるそれぞれの照射光の照度の変化が、それぞれの照射可能範囲ＲＡａ、ＲＡｂにおいてそれぞれ所定の許容範囲内となっている位置、又は、隣り合う２つの光源１０ａ，１０ｂによるそれぞれの照射光の照度の値が、それぞれの照射可能範囲ＲＡａ，ＲＡｂにおいてそれぞれ凡そ飽和している位置に配置されていることが好ましい。換言すると、仕切り部材２０は、周囲との関係で照度が実用上凡そ一定となっている位置に配置されていることが好ましい。

例えば、図２（ｂ）のＪ－Ｊ線に沿ってみたときに、当該Ｊ－Ｊ線に沿った照度の値は、－ｘ３，ｘ３よりもそれぞれ中寄りにおいては、照度が実用上凡そ一定となっているため、－ｘ３，ｘ３よりもそれぞれ中寄りの位置に仕切り部材２０を配置することが好ましい。

なお、上述した「所定の許容範囲内となっている位置」というのは、周囲と比較して照度が殆ど変化しない位置、又は、照度の変化量が０に近い位置などのように照度の変化が実用上許容できる許容範囲に入っている位置ということができる。

ところで、ここでの「オーバーラップ領域Ｘ」とは、仕切り部材２０が無かったとした場合に照射可能範囲ＲＡａ，ＲＡｂが互いにオーバーラップしたときに形成される領域Ｘのことをいう。同様に、「照度の変化が、それぞれの照射可能範囲ＲＡａ、ＲＡｂにおいてそれぞれ所定の許容範囲内となっている位置」、又は、「照度の値が、それぞれの照射可能範囲ＲＡａ，ＲＡｂにおいてそれぞれ凡そ飽和している位置」というのも、照射可能範囲ＲＡａ，ＲＡｂを連結する前に、光源１０ａ，１０ｂの単独で照射した場合の照射可能範囲ＲＡａ，ＲＡｂの照射分布における各位置をいうものとする。

（６）仕切り部材２０の厚さｔの最適化
図３は、図１（ａ）の破線Ｆで囲まれた領域を拡大した要部断面図であり、仕切り部材２０の厚さｔと、ビーム状の光の入射角θ，仕切り部材２０の端面２３と露光面６８との間隔Ｄとの関係を示す図である。

図３に示すように、仕切り部材２０の厚さｔは、仕切り部材２０の端面２３の頂部２３ａと光源１０ａ又は１０ｂとの間を結んだ仮想線７１が露光面６８に垂直な方向に対してなす角θと、仕切り部材２０の端面２３と露光面６８との間隔Ｄにより、最適な値に決定される。
つまり、露光面６８に垂直な仮想平面であって隣り合う２つの光源１０ａ，１０ｂの中心をそれぞれ含む仮想平面で仕切り部材２０を切断してみたときに、仕切り部材２０の厚さｔは、仕切り部材２０の端面２３の頂部２３ａと光源１０ａ又は１０ｂとの間を結んだ仮想線７１が露光面６８に垂直な方向に対してなす角θと、仕切り部材２０の端面２３と露光面６８との間隔Ｄと、に基づいて設定されていることが好ましい。

例えば図３のように、ｔ＝Ｄｔａｎθの関係を満たすように厚さｔが設定されていてもよい。このとき、露光面６８上の照射光ＲＬａ及び照射光ＲＬｂがオーバーラップする実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔの幅ｗと、仕切り部材２０の厚さｔとは等しくなる。ここで、実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔは、露光面６８上でのオーバーラップ領域Ｘａｃｔということができ、また、極小化されて限定された領域Ｘａｃｔということもできる。

なお、ここでの「仕切り部材２０の厚さｔ」は、仕切り部材２０を露光面６８及びフォトマスク５０の上方に配置して、露光面６８に垂直な平面であって隣り合う２つの光源１０ａ，１０ｂの中心をそれぞれ含む平面で仕切り部材を切断したときの、仕切り部材２０の端面２３（マスクに面した端面）近傍の厚みのことをいうものとする。換言するとここでの仕切り部材２０の厚さｔは端面２３の幅でもある。
参考までに、θは、仕切り部材２０が平板の場合には第１側壁２１又は第２側壁２２に対するビーム状の光ＢＬａ、ＢＬｂの入射角と概略等しくなる。

２．実施形態１に係る露光装置１の作用・効果
図４は、図１（ａ）及び図１（ｂ）に対応した図であり、実施形態１に係る露光装置１の作用・効果について説明するための図である。図５は、図３に対応した図であり、実施形態１に係る露光装置１の作用・効果について説明するための図である。図において光源１０ａ，１０ｂの表示は省略している。図６は、サブ・パターン５６が繰り返し配列しているマスクパターン５８を用いて露光を行う場合の一例を示す図である。図６（ａ）はフォトマスク５０の平面図、図６（ｂ）はサブ・パターン５６が露光面６８に転写される様子を示す模式的な断面図、図６（ｃ）はワーク６０に露光された露光パターン５９の平面図である。

（１）実施形態１に係る露光装置１では、それぞれの照射可能範囲ＲＡａ、ＲＡｂの一部が互いにオーバーラップするような位置関係で複数の光源１０ａ，１０ｂが配置されていることから、一方の光源１０ａによる照射可能範囲ＲＡａと他方の光源１０ｂによる照射可能範囲ＲＡｂとが連結されて全体としての照射可能範囲ＲＡｓｕｍが拡げられる（図４参照）。したがって、単一の光源がカバーする照射可能範囲よりも大きな範囲に対して照射光を照射することができる。
そうすると、例えば、従来、単一の光源では平面視で最大５００ｍｍ×６００ｍｍサイズのワークしか露光できなかったところ、５００ｍｍ×１２００ｍｍサイズの大判ワークに対しても一括的に露光できるようになる。

また、露光装置１は、２つの光源１０ａ，１０ｂによる照射可能範囲ＲＡａ，ＲＡｂが互いにオーバーラップするオーバーラップ領域Ｘの内側であって、露光面からみて光源１０ａ，１０ｂが配置された側に配置された仕切り部材２０を更に備えている。そして、仕切り部材２０の第１側壁２１により一方の光源１０ａからの照射光ＲＬａが第２側壁２２の側（隣の領域ＡＲ２）へ進行するのを遮断し、第２側壁２２により他方の光源１０ｂからの照射光ＲＬｂが第１側壁２１の側（隣の領域ＡＲ１）へ進行するのを遮断するように構成されている（図４参照）。

そうすると、図５に示すように（図４も併せて参照）、露光面６８では、極小化され限定された領域Ｘａｃｔにおいては一方の光源１０ａからの照射光ＲＬａの一部と他方の光源１０ｂからの照射光ＲＬｂの一部とがオーバーラップするようにして到達するが、その他の大部分の領域Ｙにおいては一の光源１０ａ又は１０ｂからの照射光ＲＬａ（ビーム状の光ＢＬａ）又はＲＬｂ（ビーム状の光ＢＬｂ）のみが到達することとなる。

したがって、大部分の領域Ｙにおいては、いうなれば単一の光源からの直線状の光（ビーム状の光のみしか届かないため、露光面６８に結像される露光パターン（影）は１通りとなり、特許文献１に記載された露光装置や図１２で示す従来の露光装置９２のような、２方向から露光光が入光することに起因する重畳的な露光を生じることがなく、フォトマスク５０が有しているマスクパターンの通りに露光することができる。
なお、フォトマスク５０が露光面６８に相当程度接近しており、かつ、フォトマスク５０からみた光源１０ａ，１０ｂまでの距離が、フォトマスク５０及び露光面６８の間の距離に比べて十分大きい場合には、光源１０ａ，１０ｂが厳密な平行光を照射しなくても（ビーム角の範囲内で放射状に広がるビーム状の光を照射することでも）、露光パターンの歪みを実用上問題ない水準で押さえ込みながら露光することができる。

一方、実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔにおいては、上述した２方向から露光光が入光することに起因する重畳的な露光が生じる可能性はある。
しかしながら、このような領域Ｘａｃｔは、仕切り部材２０の直下の領域に限定されるため、そのような特性をわきまえた露光計画を行えば十分に実用的な露光を実施することができる。すなわち、仕切り部材２０の直下の領域のみにしか重畳的な露光の問題は生じないため、その他の大部分の領域Ｙについては安心して通常の露光を行うことができる。また、重畳的な露光についても、仕切り部材２０の直下の領域にのみ対策を打つ又は注意を払えばよい。

例えば、図６（ａ）に示すようなサブ・パターン５６が繰り返し配列しているマスクパターン５８を用いて露光を行う場合には、図６（ｂ）に示すようにサブ・パターン５６が配置されていない領域（サブ・パターン５６ａと隣りのサブ・パターン５６ｂとの間）の直上に仕切り部材２０を配置すればよい。このような露光計画を行えば、図６（ｃ）に示すように、重畳的な露光の問題はサブ・パターン５６ａに対応した露光パターン５９ａとサブ・パターン５６ｂに対応した露光パターン５９ｂとの間のマージナルな領域のみ生じることとなり、製品化する上で重要なサブ・パターン５６に対応した各所の露光パターン５９では重畳的な露光は生じない。

以上のとおり、実施形態１に係る露光装置１によれば、ワーク６０の露光面６８のうち極小化されて限定された領域（Ｘａｃｔ）以外の大部分の領域において、一の光源（１０ａ又は１０ｂ）のみからのビーム状の光（ＲＬａ又はＲＬｂ）で露光させることができ、かつ、単一の光源がカバーする照射可能範囲よりも大きな範囲ＲＡｓｕｍに対して露光光を照射することができる。

（２）特許文献１に記載された露光装置や図１２に示す露光装置９２においては、単一光源による照射可能範囲のどの部分で隣りの光源の照射可能範囲とオーバーラップさせるかという問題は、大変繊細で高度な技術が必要とされていた。
すなわち、図２（ｂ）の如く周辺付近では徐々に照度が変化していることを踏まえながら、互いの照射光をオーバーラップ（合成）させたときに合成部付近で照度ムラが起きないように、オーバーラップ領域Ｘにおける照度が非オーバーラップ領域Ｙにおける照度と同じになるようシミュレーションでオーバーラップ位置を算出する必要がある。さらにその算出結果に基づいて隣り合う光源を互いに位置合わせ（アライメント）する必要がある。この位置合わせは、マージンのないピンポイントの位置合わせであり殆ど誤差が許されないものであるため、極めて高度なアライメント技術が必要となる。

その一方で実施形態１では、仕切り部材２０は、隣り合う２つの光源１０ａ，１０ｂによるそれぞれの照射光の照度の変化が、それぞれの照射可能範囲ＲＡａ、ＲＡｂにおいてそれぞれ所定の許容範囲内となっている位置、又は、隣り合う２つの光源１０ａ，１０ｂによるそれぞれの照射光の照度の値が、それぞれの照射可能範囲ＲＡａ，ＲＡｂにおいてそれぞれ凡そ飽和している位置に配置されている。つまり、そのような位置で隣り合う光源による照射可能範囲ＲＡを連結している。

ここで、照射光の照度の変化が、それぞれの照射可能範囲ＲＡａ、ＲＡｂにおいてそれぞれ所定の許容範囲内となっている位置、又は、照射光の照度の値が、それぞれの照射可能範囲ＲＡａ，ＲＡｂにおいてそれぞれ凡そ飽和している位置《例えば図２（ｂ）のＪ－Ｊ線上では－ｘ３，ｘ３のような位置》は、いわば前後左右の照度が安定している位置であるため、特許文献１に記載された露光装置や図１２に示した更に別の従来の露光装置９２のような高度なシミュレーションや光源の高度な位置合わせを行う必要がなく、簡便ながらも確実に照度ムラを抑えることができる。

（３）実施形態１に係る露光装置１では、仕切り部材２０の厚さｔは、仕切り部材２０の端面２３の頂部２３ａと光源１０ａ，１０ｂとの間を結んだ仮想線７１が露光面６８に垂直な方向に対してなす角θと、仕切り部材２０の端面２３と露光面６８との間隔Ｄと、に基づいて設定されている。

図３からも理解できるように、厚さｔを小さくすると実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔが大きくなる。逆に厚さｔを大きくし過ぎると実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔ域における照度が不足するという事情は考慮する必要がある。
間隔Ｄについては、仕切り部材２０の端面２３がフォトマスク５０に接しているときにはフォトマスク５０の厚みとほぼ同じになる。間隔Ｄは、露光にはフォトマスク５０が必ず嵌挿されるためフォトマスク５０の厚みよりも小さくすることはできない。
入射角θについては、光源１０ａ，１０ｂのビーム角や、光源１０ａ，１０ｂからの距離等によって変動するが、光源のアライメントは比較的繊細かつ高度な作業となるため、一旦装置化すると入射角θは、ある程度固定化されてしまう。
以上の事情を踏まえると、仕切り部材２０の厚さｔは、諸々のパラメータの中でも比較的変更し易い。こうしたことから、実施形態１に係る露光装置１のように、間隔Ｄ及び入射角θに基づいて仕切り部材２０の厚さｔを適切に設定することで比較的簡易に露光条件の最適化を図ることができる。

また、仕切り部材２０の厚さｔと間隔Ｄ及び入射角θとを、ｔ＝Ｄｔａｎθを満たす関係にすることで、仕切り部材２０直下の実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔの照度が、非オーバーラップ領域Ｙにおける照度と、概略同じにすることができる。
また、実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔの幅ｗは、仕切り部材２０の厚さｔと概略同じになることから、仕切り部材２０の厚さｔの直下のマスクパターン分だけを切り捨てパターンとしておく（マージンを取っておく）ようにフォトマスク５０と仕切り部材２０との関係を設定すればよく、露光計画が簡便化される。

［実施形態２］
図７は、実施形態２の仕切り部材２０のバリエーションを説明するための図である。各図は各仕切り部材２０を正面側から視たときの断面図である。なお、図７においては、仕切り部材２０における第２側壁２２側の照射光の状態が図示されているが、第１側壁２１側についても同様である。

実施形態２に係る露光装置２（図示を省略）は基本的には実施形態１に係る露光装置１と同様の構成を有するが、仕切り部材２０の具体的な構成において実施形態１に係る露光装置１とは異なる。

すなわち、実施形態２の仕切り部材２０の第１側壁２１及び第２側壁２２は、図７（ａ）で示すように吸光性を有する材で形成されていてもよい。吸光性を有する材は、照射光ＲＬａ，ＲＬｂのピーク波長を中心に吸収するような材料であることが好ましい。

もし、第１側壁２１及び第２側壁２２の材が、照射光を反射し易く且つ鏡面状になっていたとしたら、入射角θで入射した照射光ＲＬａ，ＲＬｂは第１側壁２１又は第２側壁２２で下方に反射してフォトマスク５０及び露光面６８に斜めに向かう指向性を持った光として進行する可能性がある。そうすると、非オーバーラップ領域Ｙにおいても、単一の光源１０ａ又は１０ｂからのビーム状の光ＢＬａ又はＢＬｂに加えて上記した反射光も入光することになり、通常は実用上問題にはならないが、場合によっては重畳的な露光の問題が顕在化することも考えられる。

ここで仕切り部材２０の第１側壁２１及び第２側壁２２を、吸光性を有する材で形成することにより、光源１０ａ，１０ｂから発せられた照射光ＲＬａ，ＲＬｂが第１側壁２１及び第２側壁２２に当たったとき、照射光が壁の内部で吸収されるため、上記した指向性の高い反射光の発生を抑制することができ、非オーバーラップ領域Ｙにおける重畳的な露光の発生をより確実に抑えることができる。

また、実施形態２の仕切り部材２０の第１側壁２１及び第２側壁２２は、図７（ｂ）で示すように散乱性を有する材で形成されていてもよい。このように形成することにより、光源１０ａ，１０ｂから発せられた照射光ＲＬａ，ＲＬｂが第１側壁２１及び第２側壁２２に当たったとき、露光面６８の側の下方に限らず多くの方向にランダムに微小な光として散乱するため、上記した指向性の高い反射光の発生を抑制することができ、非オーバーラップ領域Ｙにおける重畳的な露光の発生をより確実に抑えることができる。

さらに、実施形態２の仕切り部材２０の第１側壁２１ａ，２１ｂ及び第２側壁２２ａ，２２ｂは、図７（ｃ）及び図７（ｄ）で示すように入射した照射光ＲＬが反射したときに、反射した光が露光面６８から遠ざかる方向（ｚ方向のみに着目すると上方）に反射するように形成されていてもよい。このように形成することにより、光源１０ａ，１０ｂから発せられた照射光ＲＬａ，ＲＬｂが第１側壁２１ａ，２１ｂ及び第２側壁２２ａ，２２ｂに当たったとき、反射光が露光面６８から遠ざかる方向（ｚ方向のみに着目すると上方）に進行することとなり、オーバーラップ領域Ｙにおける重畳的な露光の発生をより確実に抑えることができる。

実施形態２に係る露光装置２（図示なし）は、仕切り部材２０の具体的な構成以外の点においては、実施形態１に係る露光装置１と基本的に同様の構成を有する。そのため、実施形態１に係る露光装置１が有する効果のうち該当する効果を同様に有する。

［実施形態３］
図８は、実施形態３に係る露光装置３を説明するために示す図である。図８（ａ）は露光装置３の断面を正面側から視たときの図である。図８（ｂ）は仕切り部材２０がフォトマスク５０に接触していないときの図であり、図８（ｃ）は仕切り部材２０が仕切り部材押下手段３０でフォトマスク５０に向けて押下されているときの図である。

実施形態３に係る露光装置３は基本的には実施形態１に係る露光装置１及び実施形態２に係る露光装置２（図示を省略）と同様の構成を有するが、仕切り部材押下手段３０を更に備える点で実施形態１に係る露光装置１及び実施形態２に係る露光装置２とは異なる。

すなわち図８（ａ）の符号３０で示すように、実施形態３に係る露光装置３は仕切り部材２０をフォトマスク５０に向けて押下する仕切り部材押下手段３０を更に備えている。仕切り部材押下手段３０は、実施形態３に係る露光装置３の作用・効果を奏する限りにおいて如何なる手段を適用してもよいが、例えば仕切り部材２０に接続されたエアシリンダ，電磁ソレノイド，ボールねじ及びサーボモータ等の手段を適宜採用することができる。

（１）上記したように、実施形態１に係る露光装置１及び実施形態２に係る露光装置２は、フォトマスク５０のパターン印刷部５４がワーク６０の露光面６８から離間した状態であっても、適切な露光計画を行うことで実用的な露光ができることを述べた。
ただし、マスク５０と仕切り部材２０との位置関係によっては不具合が生じる可能性もある。例えば図８（ｂ）に示すような場合では、露光面６８において、マスクＭＫ１の影、ＯＰ１の露光、マスクＭＫ２の影、ＯＰ２の露光という順で露光パターンが反映されることが期待されるところ、実際には、実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔにおいて図面左側からの照射光ＲＬａ及び図面右側からの照射光ＲＬｂが双方から入光するため、露光面６８ではマスクＭＫ２の影がかき消されることとなり、意図したパターンでの露光が実現できない。

一方で実施形態３に係る露光装置３によれば、このようなマスク５０と仕切り部材２０との位置関係であったとしても、仕切り部材押下手段３０で仕切り部材２０を矢印ｚ’方向に押下してフォトマスク５０を露光面６８に密着することができるため、露光面６８ではＭＫ１の影、ＯＰ１の露光、マスクＭＫ２の影、ＯＰ２の露光という順による意図したパターンで露光を実現できる《図８（ｃ）参照》。

（２）上記した事情もあり、一般にフォトマスク５０はワーク６０の露光面６８に出来るだけ密着していることが望ましい。そのため、ワーク６０とフォトマスク５０間の空間の空気を排気して（真空引き）フォトマスク５０全体をワーク６０に密着させる排気ステップを実施することがある。しかし、大判のワーク・大判のフォトマスクを扱う場合、空気を排気するのに長時間掛かる割に部分的にフォトマスクが浮くなどして、仕切り部材２０直下においても不揃い・不安定な状態になる可能性がある。そうした場合には、真空引きをする所期の目的を達成できない。

一方で、実施形態３に係る露光装置３によれば、仕切り部材押下手段３０で仕切り部材２０をフォトマスク５０に向けて押下することにより、仕切り部材２０の端面２３がフォトマスク５０の上面に当接し、更にフォトマスク５０がワーク６０に向けて押圧されることとなり、仕切り部材２０直下の実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔ付近においてフォトマスク５０を露光面６８に重点的かつ確実に密着させることができる。
さらに、露光装置３によれば、空気を排気する場合（排気ステップ）ほど時間を必要としないためサイクルタイムの短縮にも貢献できる。

（３）実施形態３に係る露光装置３によれば、仕切り部材２０の端面２３と露光面６８との間隔を最小の間隔Ｄ２とすることができ、重畳的な露光が生じうる実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔの幅ｗも確実に最小にすることができる。

例えば、仕切り部材２０がフォトマスク５０に接触していない場合においては、図８（ｂ）に示すように、仕切り部材２０の端面２３と露光面６８との間隔は「Ｄ１」であり、実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔの幅ｗは「ｗ１」である。一方、仕切り部材２０がフォトマスク５０を押下げて、フォトマスク５０を露光面６８に密着させた場合においては、図８（ｃ）に示すように、仕切り部材２０の端面２３と露光面６８との間隔は「Ｄ２」であり、実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔの幅ｗは「ｗ１」よりも小さい「ｗ２」となる。すなわち、フォトマスク５０を露光面６８に密着させた場合においては、仕切り部材２０の端面２３と露光面６８との間隔を最小の間隔Ｄ２とすることができ、実質的なオーバーラップ領域Ｘａｃｔの幅ｗも確実に最小の間隔ｗ２とすることができる。

また、仕切り部材押下げ手段３０を駆動させれば仕切り部材２０を介してフォトマスク５０が広い範囲で確実にワーク６０の露光面６８に密着することになり、従来の露光装置のような平行光ＰＬを用いずともビーム状の光ＢＬであったとしても、従来の露光装置と同様の高い解像度による露光を実現できる。

（４）実施形態３に係る露光装置３によれば、仕切り部材押下手段３０を駆動させることにより、フォトマスク５０と露光面６８との間隔を、フォトマスク５０の厚みで高精度に規定することができる。

なお、実施形態３に係る露光装置３を用いると、次のような方法で露光することができる。先ずワーク６０の上にフォトマスク５０を配置するフォトマスク配置ステップを実施する。その後、仕切り部材押下手段３０を駆動させて仕切り部材２０をフォトマスク５０に向けて押下する仕切り部材押下ステップを実施する。その後、光源１０ａ，１０ｂから光を照射して実際の露光を行う露光光照射ステップを実施する。その後、仕切り部材押下手段３０を開放してフォトマスク５０及びワーク６０に掛かった押圧力を開放する押圧力開放ステップを実施する。その後、フォトマスク５０の退避等の後工程ステップを実施する。なお、フォトマスク配置ステップと仕切り部材押下ステップの間に、ワーク６０とフォトマスク５０間の空間の空気を排気してフォトマスク５０全体をワーク６０に密着させる排気ステップを実施してもよい。

実施形態３に係る露光装置３は仕切り部材押下手段３０以外の点においては、実施形態１に係る露光装置１及び実施形態２に係る露光装置２と基本的に同様の構成を有する。そのため、実施形態１に係る露光装置１及び実施形態２に係る露光装置２が有する効果のうち該当する効果を同様に有する。

［実施形態４］
図９は、実施形態４に係る露光装置４を説明するために示す図である。図９において、上述した各実施形態の説明で用いた各図と同一部分には同一符号が付されている。実施形態４に係る露光装置４は、図９に示すように、仕切り部材２０における露光面６８の側の端部（仕切り部材２０の端面２３）と露光面６８との間隔Ｄを調整可能とする間隔調整手段４０を更に備えている。

すなわち、上述した実施形態３に係る露光装置３においては、仕切り部材押下手段３０によって、仕切り部材２０をフォトマスク５０に向けて押下を可能とする構成としたが、実施形態４に係る露光装置４においては、間隔調整手段４０を備え、当該間隔調整手段４０によって、仕切り部材２０と露光面６８との間隔を調整可能とする。なお、以下の説明においては、「仕切り部材２０における露光面６８の側の端部（仕切り部材２０の端面２３）と露光面６８との間隔Ｄ」を「仕切り部材２０と露光面６８との間隔Ｄ」というように簡略化した表記とする場合もある。

なお、間隔調整手段４０は、仕切り部材２０と露光面６８との間隔Ｄを所定範囲で任意の間隔に設定できる機構であれば特に限定されるものではない。例えば、図示は省略するが、ボールねじ及びサーボモータなどを用いて、仕切り部材２０を矢印ｚ－ｚ’方向（図９参照。）に往復動可能とする機構を例示できる。また、手動によって間隔を調整するような間隔調整手段であってもよい。この場合の間隔調整手段としては、例えば、仕切り部材２０をガイドレールに沿ってスライドさせて、所定の位置で仕切り部材をネジなどの固定手段で固定させるといった機構を例示できる。

このような間隔調整手段４０が備えられていることにより、仕切り部材２０と露光面６８との間隔Ｄを所定範囲で任意に調整することができる。それによって、露光面６８上でのオーバーラップ領域（実質的なオーバーラップ領域）Ｘａｃｔの幅ｗを制御できる。例えば、仕切り部材２０を矢印ｚ’方向（露光面６８に向かう方向）に移動させると、仕切り部材２０と露光面６８との間の間隔Ｄが小さくなり、露光面６８上でのオーバーラップ領域Ｘａｃｔの幅ｗが小さくなる。また、仕切り部材２０を矢印ｚ方向（露光面６８から離間する方向）に移動させることにより、仕切り部材２０と露光面６８との間の間隔が大きくなり、露光面６８上でのオーバーラップ領域Ｘａｃｔの幅ｗが大きくなる。

このように、仕切り部材２０と露光面６８との間の間隔Ｄを調整可能とすることによって、露光面６８上でのオーバーラップ領域の幅ｗを制御できるため、露光条件に応じた最適な露光を行うことができる。この場合、実施形態３に係る露光装置３と同様に、仕切り部材２０をフォトマスク５０に当接させた状態でさらに押し下げることもでき、それによって、前述した実施形態３に係る露光装置３と同様の露光を行うことができる。なお、前述した実施形態３に係る露光装置３に設けられている仕切り部材押下手段３０は、仕切り部材２０をフォトマスク５０に向けて押下することにより、仕切り部材２０の端面２３と露光面６８との間隔を調整できることから、仕切り部材押下手段３０も実施形態４に係る露光装置４の間隔調整手段４０といえるものである。

実施形態４に係る露光装置４は間隔調整手段４０以外の点においては、実施形態１に係る露光装置１及び実施形態２に係る露光装置２と基本的に同様の構成を有する。そのため、実施形態１に係る露光装置１及び実施形態２に係る露光装置２が有する効果のうち該当する効果を同様に有する。

以上、本発明を上記の実施形態に基づいて説明したが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではない。その趣旨を逸脱しない範囲において種々の態様において実施することが可能であり、例えば、次のような変形も可能である。

（１）各実施形態においては、光源が２個並んだ態様を例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、光源が直列に３個以上並んでいてもよいし、複数の光源がｘ方向に列をなし且つｙ方向に行をなすようにして行列状に並ぶようにして露光装置を構成してもよい。

（２）各実施形態において、仕切り部材２０の形状は、矩形の平板状のものを例に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるものではない。
仕切り部材２０の形状は、単一の光源による照度分布《例えば図２（ｂ）に示すような照度分布》を踏まえて設計された形状としてもよい。例えば、仕切り部材を入れるべき（照射可能範囲ＲＡを連結する境界とすべき）箇所の照度が高い部分では、端面２３がフォトマスク５０により接近するようにして伸延し、照度が低い部分では端面２３がフォトマスク５０からより離れた位置となるような形状で仕切り部材２０を構成してもよい。
そのような考え方で仕切り部材２０を構成することにより、仕切り部材２０は、矩形の平板状ではなく、視る面によって凹状であったり凸状であったりするよう構成することができる。

（３）各実施形態においては、フォトマスク５０は透明な平板（ガラス板５２）にマスクパターンが印刷されたもので構成されており、当該フォトマスク５０がワーク６０の露光面６８とは別体として配置されている場合を示したが、本発明はこれに限定されるものではない。

例えば、図示は省略するが、マスクパターンが印刷された薄いフィルム状のフォトマスクであってもよく、このようなフィルム状のフォトマスクがワーク６０の露光面６８に対して剥離可能に密着状態で添付されているものも本発明でいうフォトマスク５０に含まれるものとする。また、ワーク６０の露光面６８にマスクパターンが剥離可能に添付されているものであってもよく、このようなものも本発明でいうフォトマスク５０に含まれるものとする。

（４）各実施形態においては、図１などに示すように、露光面６８が上向きとなるようにワーク６０を水平に配置して、当該上向きとなっている露光面６８に向けてビームが下方向に照射されるように光源（実施形態においては光源１０ａ，１０ｂ）を配置する構成としたが、本発明これに限定されるものではない。

例えば、図示は省略するが、露光面６８が下向きとなるようにワーク６０を水平に配置して、当該下向きとなっている露光面６８に向けてビームが上方向に照射されるように光源を配置する構成としてもよい。また、露光面６８が横向きとなるようにワーク６０を垂直に配置して、当該横向きとなっている露光面６８に向けてビームが横方向（水平方向）に照射されるように光源を配置する構成としてもよい。また、ワーク６０は傾斜を持たせて斜めに配置されていてもよい。この場合、光源はビームが斜めに配置されているワーク６０の露光面６８に適切に照射されるように配置すればよい。

１，２，３，９０，９１，９２…露光装置、３ａ，３ｂ，３ｃ，１０，１０ａ，１０ｂ…光源、１２…投光面、２０…仕切り部材、２１，２１ａ，２１ｂ…第１側壁、２２，２２ａ，２２ｂ…第２、２３…仕切り部材２０の端面（仕切り部材２０の端部）、２３ａ…頂部、２９…仕切り板、３０…仕切り部材押下手段、４０…間隔調整手段、５０…フォトマスク、５２…ガラス板、５４…パターン印刷部、５６，５６ａ，５６ｂ…サブ・パターン、５８…マスクパターン、５９，５９ａ，５９ｂ…露光パターン、６０…ワーク、６２…感光材、６３…基部、６４…導電材、６６…基材、６８…露光面、７１…仮想線，９００…コリメート手段、９１０…コリメーション・ミラー、ＢＬ，ＢＬａ，ＢＬｂ…ビーム状の光、ＭＫ，ＭＫ１，ＭＫ２…マスク、ＯＰ，ＯＰａ，ＯＰｂ…開口、ＰＬ…平行光、ＲＡ，ＲＡａ，ＲＡｂ…単一の光源による照射可能範囲、ＲＡｓｕｍ…結合された全体としての照射可能範囲、ＲＬ，ＲＬａ，ＲＬｂ…照射光、Ｘ…オーバーラップ領域、Ｘａｃｔ…実質的なオーバーラップ領域（極小化されて限定された領域）、Ｙ…非オーバーラップ領域

Claims (2)

1. 光源とワークとの間に配置されるフォトマスクで当該ワークの露光面にマスクパターンを露光する露光装置であって、
   それぞれの照射可能範囲の一部が互いにオーバーラップするような位置関係で配置された複数の前記光源を備え、
   第１側壁と該第１側壁と反対側の第２側壁とを有し、隣り合う２つの前記光源による前記照射可能範囲が互いにオーバーラップするオーバーラップ領域の内側であって、前記露光面からみて前記光源が配置された側に配置された仕切り部材を更に備え、
   前記仕切り部材の前記第１側壁により一方の前記光源からの照射光が前記第２側壁の側へ進行するのを遮断し、前記仕切り部材の前記第２側壁により他方の前記光源からの照射光が前記第１側壁の側へ進行するのを遮断するように構成され、
   前記仕切り部材における前記露光面の側の端部と前記露光面との間隔を調整可能とする間隔調整手段を更に備えたことを特徴とする露光装置。
2. 請求項１に記載の露光装置において、
   前記第１側壁及び前記第２側壁は、
   吸光性を有する材で形成されている、
   又は、散乱性を有する材で形成されている、
   又は、前記第１側壁及び前記第２側壁に対し入射した照射光が反射したときに、反射した光が前記露光面から遠ざかる方向に反射するように形成されている、
   ことを特徴とする露光装置。

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