CN110106471A - 一种导流机构、坩埚装置、蒸镀设备及蒸镀方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种导流机构、坩埚装置、蒸镀设备及蒸镀方法，其中导流机构包括：收集管，所述收集管为两端开口的管状结构，所述收集管包括第一端部和用于盖设在蒸发源上的第二端部；回收组件，所述回收组件盖设在所述收集管的所述第一端部；导流组件，所述导流组件设置于所述收集管内，所述导流组件的进气口朝向所述第二端部，所述导流组件的出气口朝向所述第一端部，所述导流组件用于将所述蒸发源释放的气体粒子导流至所述回收组件内。这样，通过增设导流机构吸收预设阶段时备用的坩埚装置释放的气体分子，避免释放的气体粒子影响蒸镀工艺的成膜质量。

Description

一种导流机构、坩埚装置、蒸镀设备及蒸镀方法

技术领域

本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种导流机构、坩埚装置、蒸镀设备及蒸镀方法。

背景技术

为满足半导体器件的精细化需求，针对半导体器件的制备工艺及制备环境的要求也较为严苛。制备工艺多在高真空环境中进行，而真空环境中同时存在的蒸镀坩埚会释放杂质粒子，影响当前工艺的制备精度。例如，在高真空环境利用蒸镀系统制备有机材料膜层时，需要利用蒸镀坩埚蒸镀有机材料，由于单个蒸镀坩埚的蒸镀时间较短，需要同时在高真空环境内预热蒸镀坩埚作为备用，蒸镀坩埚盛放的蒸镀材料在预热过程中会释放气体粒子，影响有机材料膜层的质量。

可见，现有的制备工艺存在无法回收蒸镀坩埚释放的气体粒子的技术问题。

发明内容

本发明实施例提供一种导流机构、坩埚装置、蒸镀设备及蒸镀方法，以解决现有制备工艺存在无法回收蒸镀坩埚释放的气体粒子的技术问题。

为了达到上述目的，本发明实施例提供的具体方案如下：

第一方面，本发明实施例提供了一种导流机构，包括：

收集管，所述收集管为两端开口的管状结构，所述收集管包括第一端部和用于盖设在蒸发源上的第二端部；

回收组件，所述回收组件盖设在所述收集管的所述第一端部；

导流组件，所述导流组件设置于所述收集管内，所述导流组件的进气口朝向所述第二端部，所述导流组件的出气口朝向所述第一端部，所述导流组件用于将所述蒸发源释放的气体粒子导流至所述回收组件内。

可选的，所述导流组件包括导流套板和反射板；其中，

所述导流套板的进气口朝向所述第二端部，所述导流套板的出气口朝向所述反射板，所述反射板朝向所述第二端部；

气体粒子经由所述导流套板导流至所述反射板上，再经由所述反射板的反射作用后朝向所述回收组件流动。

可选的，所述收集管包括第一管段和第二管段，所述第一管段与所述第二管段垂直；

所述导流套板设置于所述第一管段内，所述反射板设置于所述第一管段和所述第二管段的贯通直角区域，所述反射板与所述第一管段的夹角，以及所述反射板与所述第二管段的夹角均为45°；

所述导流套板用于沿所述第一管段的轴向，将气体粒子准直导流至所述反射板上，气体粒子在所述反射板表面发生反射后沿所述第二管段的轴向进入所述回收组件内。

可选的，所述导流套板包括多个不同内径的环形圆台状的导流板，多个导流板在垂直于所述第一管段的中轴线的圆形承载面上，沿从中心至边缘的方向依次套接成圆台状结构。

可选的，每个所述导流板的远离所述第一端部的第一圈边缘在所述圆形承载面内的投影，与外侧邻接的导流板的靠近所述第一端部的第二圈边缘在所述圆形承载面内的投影重合；

每个所述导流板与所述圆形承载面的夹角小于与其外侧相邻的导流板与所述圆形承载面的夹角。

可选的，还包括：

气缸和传动轴，所述气缸与所述传动轴的一端连接，所述传动轴的另一端与所述收集管连接，所述传动轴用于在所述气缸的控制下，带动所述收集管盖设或者远离所述蒸发源。

可选的，所述收集管的靠近所述第一端部的管段为波纹管，所述传动轴带动所述波纹管伸长以盖设所述蒸发源，或者带动所述波纹管收缩以远离所述蒸发源。

可选的，所述收集管的第一端部还设置有密封罩。

可选的，所述回收组件为高真空泵。

可选的，所述收集管、所述回收组件和所述导流组件中的至少一者的制成材料为钛或者不锈钢。

第二方面，本发明实施例还提供了一种坩埚装置，包括：蒸镀坩埚以及如第一方面中任一项所述的导流机构；其中，

所述蒸镀坩埚内盛放有蒸镀材料，所述导流机构的收集管的第二端部盖设在所述蒸镀坩埚开口侧。

第三方面，本发明实施例还提供了一种蒸镀设备，包括：蒸镀腔室，以及如第二方面所述的坩埚装置；其中，

在预热阶段，所述蒸镀坩埚和所述导流机构均设置于所述蒸镀腔室外，所述导流机构的收集管的第二端部盖设在所述蒸镀坩埚开口侧；

在蒸镀阶段，所述蒸镀坩埚设置于所述蒸镀腔室内。

第四方面，本发明实施例还提供了一种蒸镀方法，所述蒸镀方法包括：

在预热阶段，控制导流机构移到蒸镀坩埚开口侧，所述导流机构的收集管的第一端部盖设在所述蒸镀坩埚的开口侧；

在蒸镀阶段，控制所述导流机构远离所述蒸镀坩埚。

本发明实施例中，通过在蒸镀设备的坩埚装置上盖设导流机构，导流机构包括收集管、回收组件和导流组件，收集管的第二端部盖设在蒸发源上，蒸发源上释放的气体粒子经由导流组件的导流作用进入回收组件内。这样，通过增设导流机构吸收预设阶段时备用的坩埚装置释放的气体分子，避免释放的气体粒子影响蒸镀工艺的成膜质量。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种导流机构的结构示意图；

图2为本发明实施例提供的一种坩埚装置的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的导流机构的导流套板的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的导流机构的导流套板的部分结构示意图；

图5为本发明实施例提供的一种蒸镀设备的结构示意图；

图6为本发明实施例提供的一种蒸镀方法的流程示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

参见图1，图1为本发明实施例提供的一种导流机构的结构示意图。如图1所示，所述导流机构100包括：

收集管110，所述收集管110为两端开口的管状结构，所述收集管110包括第一端部111和用于盖设在蒸发源上的第二端部112；

回收组件120，所述回收组件120盖设在所述收集管110的所述第一端部111；

导流组件130，所述导流组件130设置于所述收集管110内，所述导流组件130的进气口朝向所述第二端部112，所述导流组件130的出气口朝向所述第一端部111，所述导流组件130用于将所述蒸发源释放的气体粒子导流至所述回收组件120内。

本实施例提供的导流机构100，应用于坩埚装置200等蒸发源上，如图2所示，用于实现导流回收蒸发源所释放的气体粒子的功能，所述蒸发源可以为坩埚装置200中的蒸镀坩埚210。导流机构100包括：收集管110、回收组件120和导流组件130，收集管110盖设在蒸发源上，蒸发源释放的气体粒子进入收集管110；导流组件130设置于收集管110内，用于将进入收集管110内的气体粒子导流至回收组件120内。

具体的，收集管110为两端开口的管状结构，其两端开口所在的端部可分别定义为第一端部111和第二端部112。其中，收集管110的第二端部112盖设在蒸发源上，使得蒸发源释放的气体粒子进入从第二端部112的开口进入收集管110内。收集管110的第一端部111盖设在回收组件120上，以收集从第二端部112进入收集管110内的气体粒子。导流组件130设置于收集管110内，可选的，导流组件130设置于收集管110内靠近第二端部112的管段，便于改变进入收集管110内的气体粒子的流动方向，以使气体粒子从第二端部112流动至第一端部111，并进入回收组件120。

考虑到本实施例所提供的导流机构100多用于回收高温状态的蒸发源上的气体粒子，气体粒子的温度可能高达五百度或者六百度。导流机构100的制成材材料可以选择能够耐高温的材料，以避免高温的气体粒子对导流机构100造成损坏。可选的，所述收集管110、所述回收组件120和所述导流组件130中的至少一者的制成材料为钛或者不锈钢。

利用钛或者不锈钢等耐高温材料制作导流机构100，在应用于高温气体粒子的回收过程中时，导流机构100的性能稳定，不易过热损坏。当然，在其他实施方式中，也可以根据所要回收的粒子的具体特性，选择对应的高耐受性材料，例如对应腐蚀性粒子的耐腐蚀性材料等，不作限定。

可选的，所述回收组件120可以为高真空泵。

高真空泵是指利用机械、物理、化学或物理化学的方法对被抽容器进行抽气而获得、改善和维持真空的设备，高真空泵具备抽吸力强、抽气口可带大负载、长寿命、低功耗等特点。利用高真空泵作为回收组件120，回收真空蒸镀腔室310的气体粒子的同时，还能较好地维持真空环境。真空环境中气体粒子的平均自由程为60米～600米，气体粒子间发生碰撞的几率很低，可以根据弹性碰撞理论设计导流组件130，将坩埚设备等蒸发源以扇形蒸发出的气体分子定向引导至高真空泵，从而直接被真空泵排走，不影响当前正在蒸镀的蒸镀流程。

上述本发明实施例提供的导流机构，收集管的第二端部盖设在蒸发源上，这样，蒸发源上释放的气体粒子经由导流组件的导流作用进入回收组件内。这样，通过增设导流机构吸收预设阶段时备用的坩埚装置释放的气体分子，避免释放的气体粒子影响蒸镀工艺的成膜质量等问题。

在一种具体实施方式中，如图1和图2所示，所述导流组件130包括导流套板132和反射板131；其中，

所述导流套板132的进气口朝向所述第二端部112，所述导流套板132的出气口朝向所述反射板131，所述反射板131朝向所述第二端部112；

气体粒子经由所述导流套板132导流至所述反射板131上，再经由所述反射板131的反射作用后朝向所述回收组件120流动。

本实施方式中，对导流组件130的具体结构作了进一步限定。具体的，导流组件130包括导流套板132和反射板131，导流套板132的出气口朝向反射板131。导流套板132作为主要的导流部件，具有多个导流气孔。导流套板132的进气口朝向第二端部112盖设的蒸发源，这样，蒸发源释放的气体粒子即可由第二端部112开口进入导流套板132的导流气孔，并经导流套板132的导流气孔改变流动方向，流动至反射板131上。反射板131还朝向第二端部112盖设的回收组件120，流动至反射板131上的气体粒子在反射板131表面发生碰撞反射后改变流动方向，流动至回收组件120内。

在一种具体实施方式中，如图1和图2所示，所述导流组件130包括导流套板132和反射板131；其中，

所述导流套板132的进气口朝向所述第二端部112，所述导流套板132的出气口朝向所述反射板131，所述反射板131朝向所述第二端部112；

气体粒子经由所述导流套板132导流至所述反射板131上，再经由所述反射板131的反射作用后朝向所述回收组件120流动。

本实施方式中，对导流组件130的具体结构作了进一步限定。具体的，导流组件130包括导流套板132和反射板131，导流套板132的出气口朝向反射板131。导流套板132作为主要的导流部件，具有多个导流气孔。导流套板132的进气口朝向第二端部112盖设的蒸发源，这样，蒸发源释放的气体粒子即可由第二端部112开口进入导流套板132的导流气孔，并经导流套板132的导流气孔改变流动方向，流动至反射板131上。反射板131还朝向第二端部112盖设的回收组件120，流动至反射板131上的气体粒子在反射板131表面发生碰撞反射后改变流动方向，流动至回收组件120内。

进一步的，如图1和图2所示，所述收集管110包括第一管段113和第二管段114，所述第一管段113与所述第二管段114垂直；

所述导流套板132设置于所述第一管段113内，所述反射板131设置于所述第一管段113和所述第二管段114的贯通直角区域，所述反射板131与所述第一管段113的夹角，以及所述反射板131与所述第二管段114的夹角均为45°；

所述导流套板132用于沿所述第一管段113的轴向，将气体粒子准直导流至所述反射板131上，气体粒子在所述反射板131表面发生反射后沿所述第二管段114的轴向进入所述回收组件120内。

本实施方式中，收集管110包括相互垂直的第一管段113和第二管段114，导流套板132设置于第一管段113内，反射板131则设置于所述第一管段113和第二管段114之间，通过导流套板132和反射板131的配合，改变气体粒子在收集管110内的流动方向，进而使得蒸发源释放的气体粒子从各个方向进入第一管段113后，沿第二管段114流动至回收组件120内。

如图1至图3所示，在第一管段113内定义一个圆形承载面133，用于承载导流套板132。具体的，该圆形承载面133垂直于第一管段113的轴向设置，圆形承载面133可以完全覆盖所述第一管段113的横截面，也可以仅覆盖所述第一管段113的靠近中心的大部分横截面区域，具体根据收集管110所盖设的蒸发源的气体粒子的辐射面来确定。

导流套板132设置在所述圆形承载面133上，这样，导流套板132能够完全覆盖蒸发源释放的气体粒子的辐射面。蒸发源上释放的粒子沿各个方向流动到导流套板132上，经由导流套板132的导流气孔的准直后，全部气体粒子均统一沿所述第一管段113的轴向流动至反射板131上。

反射板131设置于第一管段113和第二管段114的贯通直角区域，且反射板131与第一管段113的夹角，以及反射板131与第二管段114的夹角均为45°。这样，气体粒子沿第一管段113的轴向流动至反射板131上之后，在反射板131表面发生碰撞反射后，气体粒子的流动方向与第二管段114的轴向平行，气体粒子即沿第二管段114的轴向流动，进入回收组件120内。

在一种具体实施方式中，如图3所示，所述导流套板132包括多个不同内径的环形圆台状的导流板134，多个导流板134在垂直于所述第一管段113的中轴线的圆形承载面133上，沿从中心至边缘的方向依次套接成圆台状结构。

本实施方式中，对实现气体粒子导流的导流套板132的结构作了进一步限定。具体的，导流套板132包括多个导流板134，该多个导流板134均设置于第一管段113内的圆形承载面133上，且多个导流板134的内径不同。每个导流板134均呈环形圆台状，即每个导流板134的两圈边缘的内径不同。在所述圆形承载面133上，多个导流板134沿从中心至边缘的方向，按照导流板134的内径从小到大的顺序依次套接，即形成如图2所示的圆台状结构的导流套板132。相邻导流板134之间形成导流气孔，进入导流气孔内的气体粒子在相邻导流板134的相互靠近的表面上发生至少两次碰撞反射，经过至少两次碰撞反射之后，气体粒子的流动方向准直，即均沿第一管段113的轴向流动。

可选的，如图3和图4所示，每个所述导流板134的远离所述第一端部111的第一圈边缘135在所述圆形承载面133内的投影，与外侧邻接的导流板134的靠近所述第一端部111的第二圈边缘136在所述圆形承载面133内的投影重合；

每个所述导流板134与所述圆形承载面133的夹角小于与其外侧相邻的导流板134与所述圆形承载面133的夹角。

本实施方式中，对构成导流套板132的导流板134的装配方式作了进一步限定，主要是对相邻两导流板134之间的相对位置进行限定。设定相邻的两个导流板134分别为第一导流板1341和第二导流板1342，将所述第一导流板1341的靠近所述第二导流板1342的表面定义为第一表面，将所述第二导流板1342的靠近所述第一导流板1341的表面定义为第二表面。经由蒸发源释放的气体粒子先沿第一方向F1流动到第一导流板1341的第一表面，在第一表面发生碰撞反射后，沿第二方向F2流动至第二导流板1342的第二表面上，在第二表面发生碰撞反射后，沿第三方向F3流出，第三方向F3即平行于第一管段113的轴向。

将全部导流板134的远离第一端部111的边缘定义为第一圈边缘135，将靠近第一端部111的边缘定义为第二圈边沿。为保证气体粒子在第一表面和第二表面连续发生两次碰撞反射，且经由两次连续碰撞反射后能够沿第一管段113的轴向输出，限定第一导流板1341第一圈边缘135在圆形承载面133内的投影，与第二导流板1342的第二圈边缘136在圆形承载面133内的投影重合，且所述第一导流板1341与所述圆形承载面133的夹角小于所述第二导流板1342与所述圆形承载面133的夹角。需要说明的是，此处所涉及的导流板134与圆形承载面133之间的夹角，是指导流板134所在面与圆形承载面133之间的锐角，而非与锐角互补的钝角。

上述本发明实施方式提供的导流机构100，根据气体粒子碰撞和平均自由程理论，即气体粒子在真空中的运动由直线运动和弹性碰撞运动的理论，根据坩埚装置200等蒸发源释放气体粒子的辐射面，以及所使用的导流板134的高度，确定每一个导流板134的角度，以使气体粒子平行于第一管段113的轴向流动至反射板131，再经由反射板131的反射作用后沿第二管段114的轴向流动至高真空泵等回收组件120内，气体粒子不会再因碰撞而逆流回腔室，从而实现真空腔室内的气体粒子回收过程。

在其他实施方式中，如图1和图2所示，所述导流机构100还可以包括：

气缸140和传动轴150，所述气缸140与所述传动轴150的一端连接，所述传动轴150的另一端与所述收集管110连接，所述传动轴150用于在所述气缸140的控制下，带动所述收集管110盖设或者远离所述蒸发源。

本实施方式中，增设气缸140和传动轴150，配合实现导流机构100与收集管110的盖设状态的切换。具体的，导流机构100包括气缸140和传动轴150，气缸140固定设置于所处腔室内，例如，可以将气缸140固定设置在蒸镀腔室310的顶壁上。传动轴150的一端与气缸140的传动轴150连接，传动轴150的另一端与导流机构100的收集管110连接。需要说明的是，若收集管110为可伸缩的弹性管，则可以仅将传动轴150的端部与收集管110的第一端部111连接，通过带动第一端部111上下移动实现收集管110盖设或者远离蒸发源。若收集管110为不可伸缩的管道，则可以将传动轴150与收集管110、导流组件130和回收组件120这一整体结构连接，实现导流机构100的整体上移或者下移。

在使用时，若需要进行气体粒子回收操作，气缸140通过传动轴150带动收集管110向下移动至收集管110的第一端部111盖设在蒸发源上，使得蒸发源释放的气体粒子经由收集管110内的导流组件130的导流作用流动至回收组件120内。若需要结束气体粒子回收操作，气缸140通过传动轴150带动收集管110向上移动至收集管110的第一端部111远离所述蒸发源即可。这样，即可实现蒸发源在预热阶段时回收气体粒子与蒸镀阶段时远离蒸发源的便捷控制，提高了导流回收流程和蒸镀流程的便捷性控制。

可选的，如图1和图2所示，所述收集管110的靠近所述第一端部111的管段为波纹管115，所述传动轴150带动所述波纹管115伸长以盖设所述蒸发源，或者带动所述波纹管115收缩以远离所述蒸发源。

本实施方式中，收集管110的靠近第一端部111的管段为可伸缩的波纹管115，波纹管115是指用可折叠皱纹片沿折叠伸缩方向连接成的管状弹性敏感元件，能够提供较大的伸缩量。这样，传动轴150仅需要上提波纹管115或者下移波纹管115即可实现收集管110盖设或者远离蒸发源，无需整体移动导流机构100，简化了控制操作。

可选的，还可以在所述传动轴150的靠近所述气缸140的端部也设置波纹管115等弹性件，以进一步增加传动轴150与收集管110之间的弹性，增大伸缩量。

此外，如图1所示，所述收集管110的第一端部111还可以设置有密封罩160。

在收集管110的第一端部111设置密封罩160，这样，收集管110的第一端部111盖设在蒸发源上时，气密性更强，蒸发源释放的气体粒子基本不会释放到真空腔室中，提高了气体粒子回收效率，减少所处真空腔室的杂质粒子含量。

参见图2，图2为本发明实施例提供的一种坩埚装置200的结构示意图，应用于蒸镀设备300中。如图2所示，所述坩埚装置200主要包括：

蒸镀坩埚210以及所述的导流机构100；其中，

所述蒸镀坩埚210内盛放有蒸镀材料，所述导流机构100的收集管110的第二端部112盖设在所述蒸镀坩埚210开口侧。

本发明实施例提供的坩埚装置200在使用时，通过在坩埚装置200的蒸镀坩埚210上盖设导流机构100，导流机构100包括收集管110、回收组件120和导流组件130，收集管110的第二端部112盖设在蒸发源上，这样，蒸发源上释放的气体粒子经由导流组件130的导流作用进入回收组件120内。

提供的坩埚装置，通过增设导流机构吸收预设阶段时备用的坩埚装置释放的气体分子，避免释放的气体粒子影响蒸镀工艺的成膜质量。本发明实施例提供的坩埚装置的具体实施过程，可以参见上述图1所示的实施例提供的导流机构的具体实施过程，在此不再一一赘述。

参见图5，图5为本发明实施例提供的一种蒸镀设备300的结构示意图。如图5所示，所述蒸镀设备300主要包括：蒸镀腔室310，以及坩埚装置，所述坩埚装置可以为上述图2所示的实施例提供的坩埚装置200。其中，

在预热阶段，所述蒸镀坩埚210和所述导流机构100均设置于所述蒸镀腔室310外，所述导流机构100的收集管110的第二端部112盖设在所述蒸镀坩埚210开口侧；

在蒸镀阶段，所述蒸镀坩埚210设置于所述蒸镀腔室310内。

本发明实施例提供的蒸镀设备300在使用时，坩埚装置200设置在蒸镀腔室310内，坩埚装置200的导流机构100盖设在蒸镀坩埚210上，导流机构100包括收集管110、回收组件120和导流组件130，收集管110的第二端部112盖设在蒸发源上，这样，蒸发源上释放的气体粒子经由导流组件130的导流作用进入回收组件120内。

上述本发明实施例提供的坩埚装置，通过增设导流机构吸收预设阶段时备用的坩埚装置释放的气体分子，避免释放的气体粒子进入蒸镀腔室内影响蒸镀工艺的成膜质量。通过导流机构将蒸镀坩埚释放的气体粒子导入高真空泵内，起到提高设备稼动率和稳定工艺环境的作用，放置蒸镀材料预加热时释放的气体粒子影响镀膜工艺中的膜层性能和膜层厚度。本发明实施例提供的蒸镀设备的具体实施过程，可以参见上述图1所示的实施例提供的导流机构的具体实施过程，在此不再一一赘述。

参见图6，图6为本发明实施例提供的一种蒸镀方法的流程示意图。如图6所示，所述蒸镀方法主要包括：

步骤601，在预热阶段，控制导流机构移到蒸镀坩埚开口侧，所述导流机构的收集管的第一端部盖设在所述蒸镀坩埚的开口侧；

步骤602，在蒸镀阶段，控制所述导流机构远离所述蒸镀坩埚。

本发明实施例提供的蒸镀方法，针对蒸镀坩埚所处的状态进行不同处理。在预热阶段，控制导流机构盖设在蒸镀坩埚上，使得导流机构能够回收蒸镀坩埚预热时释放的气体粒子。而在蒸镀管过处于蒸镀阶段时，就可以将导流机构移开，蒸镀坩埚即可进行蒸镀作业。

上述本发明实施例提供的蒸镀方法，通过增设导流机构吸收预设阶段时备用的坩埚装置释放的气体分子，避免释放的气体粒子进入蒸镀腔室内影响蒸镀工艺的成膜质量。通过导流机构将蒸镀坩埚释放的气体粒子导入高真空泵内，起到提高设备稼动率和稳定工艺环境的作用，放置蒸镀材料预加热时释放的气体粒子影响镀膜工艺中的膜层性能和膜层厚度。本发明实施例提供的蒸镀方法的具体实施过程，可以参见上述图1所示的实施例提供的导流机构的具体实施过程，在此不再一一赘述。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

Claims (13)

1.一种导流机构，其特征在于，包括：

收集管，所述收集管为两端开口的管状结构，所述收集管包括第一端部和用于盖设在蒸发源上的第二端部；

回收组件，所述回收组件盖设在所述收集管的所述第一端部；

导流组件，所述导流组件设置于所述收集管内，所述导流组件的进气口朝向所述第二端部，所述导流组件的出气口朝向所述第一端部，所述导流组件用于将所述蒸发源释放的气体粒子导流至所述回收组件内。

2.根据权利要求1所述的导流机构，其特征在于，所述导流组件包括导流套板和反射板；其中，

所述导流套板的进气口朝向所述第二端部，所述导流套板的出气口朝向所述反射板，所述反射板朝向所述第二端部；

气体粒子经由所述导流套板导流至所述反射板上，再经由所述反射板的反射作用后朝向所述回收组件流动。

3.根据权利要求2所述的导流机构，其特征在于，所述收集管包括第一管段和第二管段，所述第一管段与所述第二管段垂直；

所述导流套板设置于所述第一管段内，所述反射板设置于所述第一管段和所述第二管段的贯通直角区域，所述反射板与所述第一管段的夹角，以及所述反射板与所述第二管段的夹角均为45°；

所述导流套板用于沿所述第一管段的轴向，将气体粒子准直导流至所述反射板上，气体粒子在所述反射板表面发生反射后沿所述第二管段的轴向进入所述回收组件内。

4.根据权利要求3所述的导流机构，其特征在于，所述导流套板包括多个不同内径的环形圆台状的导流板，多个导流板在垂直于所述第一管段的中轴线的圆形承载面上，沿从中心至边缘的方向依次套接成圆台状结构。

5.根据权利要求4所述的导流机构，其特征在于，每个所述导流板的远离所述第一端部的第一圈边缘在所述圆形承载面内的投影，与外侧邻接的导流板的靠近所述第一端部的第二圈边缘在所述圆形承载面内的投影重合；

每个所述导流板与所述圆形承载面的夹角小于与其外侧相邻的导流板与所述圆形承载面的夹角。

6.根据权利要求1至5中任一项所述的导流机构，其特征在于，还包括：

气缸和传动轴，所述气缸与所述传动轴的一端连接，所述传动轴的另一端与所述收集管连接，所述传动轴用于在所述气缸的控制下，带动所述收集管盖设或者远离所述蒸发源。

7.根据权利要求6所述的导流机构，其特征在于，所述收集管的靠近所述第一端部的管段为波纹管，所述传动轴带动所述波纹管伸长以盖设所述蒸发源，或者带动所述波纹管收缩以远离所述蒸发源。

8.根据权利要求7所述的导流机构，其特征在于，所述收集管的第一端部还设置有密封罩。

9.根据权利要求8所述的导流机构，其特征在于，所述回收组件为高真空泵。

10.根据权利要求9所述的导流机构，其特征在于，所述收集管、所述回收组件和所述导流组件中的至少一者的制成材料为钛或者不锈钢。

11.一种坩埚装置，其特征在于，包括：蒸镀坩埚以及如权利要求1至10中任一项所述的导流机构；其中，

所述蒸镀坩埚内盛放有蒸镀材料，所述导流机构的收集管的第二端部盖设在所述蒸镀坩埚开口侧。

12.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：蒸镀腔室，以及如权利要求11所述的坩埚装置；其中，

在预热阶段，所述蒸镀坩埚和所述导流机构均设置于所述蒸镀腔室外，所述导流机构的收集管的第二端部盖设在所述蒸镀坩埚开口侧；

在蒸镀阶段，所述蒸镀坩埚设置于所述蒸镀腔室内。

13.一种蒸镀方法，其特征在于，所述蒸镀方法包括：

在预热阶段，控制导流机构移到蒸镀坩埚开口侧，所述导流机构的收集管的第一端部盖设在所述蒸镀坩埚的开口侧；

在蒸镀阶段，控制所述导流机构远离所述蒸镀坩埚。