CN110095898A - 显示面板及制造显示面板顶基材的方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种显示面板及制造显示面板顶基材的方法，该显示面板具有第一区以及与该第一区紧邻的第二区，并且包括顶基材，底基材以及配置于该顶基材与该底基材之间的显示介质层。顶基材包括支撑板，其具有外表面、图案化遮光层，配置于支撑板的外表面并且位于第一区内、以及图案化抗反射层，配置于支撑板的外表面并且空出第一区。显示面板的图案化遮光层通过湿式制作工艺形成于支撑板的外表面，并且图案化遮光层一具有锐边以及良好的边缘线性，以提供所需的遮光效果。

Description

显示面板及制造显示面板顶基材的方法
技术领域
本发明涉及一种电子装置，且特别是涉及一种显示面板。
背景技术
显示面板中通常会加入图案化遮光层以划分显示区域。图案化遮光层可以是黑色矩阵光致抗蚀剂，其具有框状图案或阵列图案，其中被框状图案或阵列图案包围的区域为显示区。除了定义显示区域之外，图案化遮光层也可防止非预期的漏光。
在传统的液晶显示面板中，液晶材料被顶基材与底基材包夹。顶基材与底基材通过密封层或粘着层接合，形成液晶胞。当晶胞组装完成后，遮光层可通过湿制作工艺如喷墨、网印或Asahi光敏树脂印刷(APR)等制作工艺形成于顶基材的外表面。图案化的遮光层配置于显示面板的非显示区上，以避免漏光并增进显示面板的对比度。与能够形成边缘为笔直且尖锐的图案化遮光层的制作方法相比，湿制作工艺中所形成的图案化遮光层在边缘的线性以及尖锐度上并不理想，其导致较差的遮光效果以及对比度。
发明内容
本发明提供一种显示面板，其包括具有锐边图案的遮光层，以提供所需的遮光效果从而避免漏光。
本发明提供一种制造显示面板顶基材的方法，其中遮光层形成于顶基材之上以提供所需的遮光效应从而避免漏光。
本发明的显示面板具有第一区以及与第一区紧邻的第二区，并且包括顶基材、底基材以及显示介质层配置于顶基材与底基材之间。顶基材包括支撑板具有外表面，图案化遮光层配置于支撑板的外表面且位于第一区内。图案化抗反射层配置于支撑板的外表面并且空出第一区。
在本发明的一实施例中，上述的显示面板还包括保护层，配置于支撑板上且覆盖图案化遮光层。
在本发明的一实施例中，保护层位于第一区与第二区。
在本发明的一实施例中，保护层在第一区中具有第一厚度以及在第二区中具有第二厚度且第一厚度大于第二厚度。
在本发明的一实施例中，保护层的顶表面与图案化抗反射层的顶表面共平面。
在本发明的一实施例中，顶基材在第二区的疏水性大于在第一区的疏水性。
在本发明的一实施例中，图案化抗反射层的顶表面经改质，且疏水层形成于图案化抗反射层的顶表面。
在本发明的一实施例中，顶基材还包括下伏层，其配置于图案化遮光层与支撑板之间。
在本发明的一实施例中，下伏层的顶表面经改质，且疏水层形成于下伏层与图案化遮光层之间。
在本发明的一实施例中，图案化抗反射层的材料与下伏层的材料不同。
在本发明的一实施例中，图案化遮光层与支撑板直接接触。
在本发明的一实施例中，支撑板于第一区中具有凹陷且图案化遮光层配置于凹陷中。
在本发明的一实施例中，图案化遮光层的底表面与图案化抗反射层的底表面共平面。
在本发明的一实施例中，图案化遮光层的顶表面与图案化抗反射层的底表面共平面。
在本发明提供一种制造显示面板顶基材的方法，该显示面板包括顶基材、底基材以及配置于顶基材与底基材之间的显示介质层。制造显示面板顶基材的方法包括提供支撑板，其上配置有抗反射层，移除抗反射层位于第一区的部分以形成图案化抗反射层，以及形成图案化遮光层于第一区的支撑板上，其中位于第一区的支撑板上的图案化抗反射层已移除。
在本发明的一实施例的制造显示面板顶基材的方法还包括在形成图案化遮光层前，通过疏水性改质形成一水层于支撑板上，支撑板上配置图案化抗反射层。
在本发明的一实施例的制造显示面板顶基材的方法还包括在形成图案化遮光层前移除位于第一区的疏水层。
在本发明的一实施例的制造显示面板顶基材的方法还包括在进行疏水性改质前，形成下伏层于第一区的支撑板上。在疏水性改质过程中，疏水层同样形成于下伏层上，并且下伏层中的疏水性材料的分布密度小于图案化抗反射层的疏水性材料的分布密度。
在本发明的一实施例的制造显示面板顶基材的方法还包括形成下伏层于第一区的支撑板上，图案化遮光层形成于下伏层上。
在本发明的一实施例的制造显示面板顶基材的方法还包括在将抗反射层图案化而形成图案化抗反射层时，部分移除第一区的支撑板而形成凹陷。
在本发明的一实施例的制造显示面板顶基材的方法还包括形成一保护层覆盖图案化遮光层。
在本发明的一实施例的制造显示面板顶基材的方法还包括使保护层覆盖该第二区的抗反射层。
在本发明的一实施例的制造显示面板顶基材的方法还包括通过进行喷墨印刷制作工艺将图案化遮光层形成于第一区的支撑板上。
在本发明提供一种制造显示面板顶基材的方法还包括通过进行超级喷墨印刷制作工艺将图案化遮光层形成于第一区的支撑板上。
基于上述，图案化遮光层配置于显示面板的第一区的支撑板的外表面上。第一区可以被位于支撑板的图案化抗反射层所曝露，或者可以由支撑板的凹陷画出。显示面板的图案化遮光层通过湿式制作工艺形成于顶基材之上，图案化遮光层可以具有锐边以及良好的边缘线性。据此，显示面板的图案化遮光层可以提供所需遮光功能，而有助于提升显示影像的对比度，从而增进显示面板的品质。
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附的附图作详细说明如下。
附图说明
图1A为本发明一实施例的显示面板100的上视图；
图1B为本发明一实施例的显示面板100的剖视图；
图2A为本发明另一实施例的显示面板顶基材的剖面示意图的放大图；
图2B为本发明另一实施例的显示面板顶基材的剖面示意图的放大图；
图2C至图2E为本发明一实施例的显示面板的顶基材的部分制造过程的剖视图；
图2F至图2G为本发明一实施例的显示面板的顶基材的部分制造过程的剖视图；
图3A为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图；
图3B为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图；
图4A为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图；
图4B为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图；
图4C为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图；
图5A为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图；
图5B为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图；
图5C至5F为本发明另一实施例的显示面板的顶基材部分制造过程的剖视图；
图6A为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图；
图6B为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图；
图6C为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图；
图6D为本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图。
符号说明
100：显示面板
101：第一区
102：第二区
103：图案化遮光层
104、204A、204B、304A、304B、304A、304B、304C、504A、504B、604A、604B、604C、604D：顶基材
105：底基材
106：显示介质层
107：密封层
108：电极层
109、109’：支撑板
110：图案化抗反射层
110’：平坦抗反射层
111、111’、114：疏水层
112、112’、112a、112b：保护层
113、113’：下伏层
A：区域
R：凹陷
T1、T2：厚度
S0、S1、S2、S3、S4、S5、S6、S7、S8：表面
具体实施方式
下文将会附加标号以对本发明优选实施例进行详细描述，并以附图说明。在可能的情况下，相同或相似的构件在附图中将以相同的标号显示。
在本发明所揭露的内容中，用来描述位置关系的语句「元件A配置于元件B之上」可以包括一个或多个其它元件配置于元件A与元件B之间的态样，也可以包括并无任何元件配置于元件A与元件B之间。
图1A与图1B分别为依本发明一实施例的显示面板100上视图以及剖视图。显示面板100可以包括第一区101以及与第一区101紧邻的第二区102。当从上方观看时，第一区101可以具有一框状图案并且包围第二区102。此外，显示面板100可以具有一图案化遮光层103配置于第一区101中。具体来说，在本实施例中，图案化遮光层103可以具有一框状图案。第一区101可以视为图案化遮光层103所配置的区域。图案化遮光层103具有遮光效果。因此，显示面板100的显示光被图案化遮光层103阻碍或遮蔽，所以可以在视为显示区域的第二区102呈现显示影像。在另一实施例中，图案化遮光层103可以依据设计需求，以其它图案或层的方式配置。
请参照图1B的剖视图，显示面板100包括顶基材104、与顶基材104相对的底基材105以及配置于顶基材104与底基材105之间的显示介质层106和密封层107。显示介质层106配置于顶基材104与底基材105之间，并且被密封层107包围。显示介质层106可以由液晶所组成，因此顶基材104、底基材105、显示介质层106以及密封层107可以视为液晶胞，但并不以此为限。顶基材104可以包括图案化遮光层103、电极层108、支撑板109以及图案化抗反射层110。图案化遮光层103以及图案化抗反射层110配置于支撑板109的同一表面。图案化抗反射层110并没有配置于第一区101，而图案化遮光层103则被配置于第一区101中。电极层108配置于较接近显示介质层106的一侧。另外，即便附图中所示的底基材105为一板状结构，底基材105可以是一晶体管阵列基底，其包含另一支撑基材例如是玻璃板或是硅背板(未显示)以及晶体管阵列如薄膜晶体管阵列或互补式金属氧化物半导体(CMOS)装置阵列(未显示)，其中晶体管阵列以及电极层108可以用来提供一驱动电场以驱动显示介质层106。据此，显示面板100可以是一薄膜晶体管液晶显示(TFT-LCD)面板或是一硅基液晶(Liquid Crystal on Silicon，LCoS)显示面板。在另一些实施例中，可以依据显示面板100的驱动电路的设计可以省略电极层108。电极层108可以包括氧化铟锡(ITO)或其他可导电和可容许光线穿透的导电材料，并且支撑板109可以由玻璃组成，但并不以此为限。形成于第一区101中的图案化遮光层103具有锐边以及良好的边缘线性，可以使显示面板100的品质得到提升，其中图案化抗反射层110空出第一区101。
图2A为依本发明另一实施例的显示面板顶基材的剖面示意图的放大图。图2A中所示的顶基材204A放大图所呈现的部分与图1B中绘示的区域A相对应。图2A中所示的顶基材204A的结构可以是显示面板100的顶基材104的一个示范性例子。在图2A中，显示面板的顶基材204A可以包括具有外表面S0的支撑板109、图案化遮光层103以及图案化抗反射层110。图案化遮光层103以及图案化抗反射层110可以配置于支撑板109的外表面S0之上，并且图案化遮光层103的底表面S1可以与图案化抗反射层110的底表面共平面。此外，顶基材204A还可以包括一保护层112，其形成于图案化遮光层103之上并且位于显示面板的第一区101。
在本实施例中，图案化抗反射层110的顶表面S2可以通过疏水性改质，例如是硅烷表面处理，而形成一疏水性材料层。在微观角度下，图案化抗反射层110的顶表面S2可以被疏水性材料官能基化而形成一疏水层111，因而得到疏水性质。形成疏水层111的材料包括硅烷、氟代硅烷、长链醇类或酸类，但并不以此为限。具体地说，疏水层111的形成材料可以包含羟基以与图案化抗反射层110的顶表面S2反应。图案化抗反射层110的材料可以是氧化硅(SiOx)、氧化钛(TiOx)或两者的组合，其曝露出可以与疏水材料形成疏水层111的表面羟基。图案化抗反射层110可以是堆叠式多层薄膜，举例来说，其可以是SiOx-TiOx-SiOx-TiOx-SiOx的堆叠结构，但并不以此为限。在堆叠式多层薄膜中，每一层SiOx层的厚度范围为5纳米至300纳米，而每一层TiOx层的厚度范围为5纳米至100纳米。在入射光光源为550纳米时，氧化硅层与氧化钛层的反射系数(reflective indexes)分别可以是接近1.5以及2.3。
图案化抗反射层110被图案化成只配置于第二区102中，并且暴露位于第一区101中的支撑板109。图案化遮光层103可以通过例如是喷墨印刷、网印、Asahi光敏树脂(APR)印刷以及超级喷墨印刷等制作工艺形成于显示面板的第一区101中的支撑板109的外表面S0上以与其直接接触。图案化遮光层103的材料可以包括有机染料，但并不以此为限。此外，图案化抗反射层110露出第一区101，因此图案化光层103的底表面S1可以与图案化抗反射层110的底表面共平面。在另一些实施例中，图案化遮光层103的底表面S1可以低于图案化抗反射层110的底表面，或存在薄层的抗反射层于第一区101，所以图案化遮光层103的底表面S1可以高于图案化抗反射层110的底表面。
保护层112配置于支撑板109上并覆盖图案化遮光层103。保护层112的材料可以是氧化物。更进一步地说，保护层112可以由TiO2、SiO2、Al2O3、ITO或ZnO组成，但不以此为限。配置于图案化遮光层103上的保护层112的厚度可以调整，所以在一些实施例中，保护层112的顶表面S3可以与图案化抗反射层110的顶表面S2共平面。而在另一些实施例中，保护层112的顶表面S3可以位于由图案化抗反射层110的顶表面S2以及疏水层111的顶表面S4之间所定义的平面。在附图中，为清楚显示的缘故，疏水层111的厚度相较于实施例中其他构件明显被放大。一般来说，疏水层111的厚度范围可以从数纳米到数十纳米，例如是0.1至90纳米。
图2B为依本发明另一实施例的显示面板顶基材的剖面示意图的放大图。图2B中所示的顶基材204B放大图所呈现的部分与图1B中绘示的区域A相对应。图2B中所示的顶基材204B的结构可以是显示面板100的顶基材104的一个示范性例子。图2B所示的顶基材204B与图2A所示的顶基材204A相似，并且在两实施例中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件。图2B所示的顶基材204B与图2A所示的顶基材204A的不同之处在于保护层112’的部分112b可以配置于第二区102的疏水层111之上，并且保护层112’的部分112a配置于图案化遮光层103之上。保护层112’的部分112a以及部分112b可以具有相同的厚度。另一方面，保护层112’的厚度可以调整，因此在一些实施例中，部分112a顶表面S3可以在疏水层111之上而与部分112b的顶表面S5共平面。在本实施例中，保护层112’同时配置于第一区101与第二区102，因而顶基材204B的最外表面可以具有视乎保护层112’而定的均匀性质。相比之下，顶基材204A在第二区102中的疏水性大于在第一区101中的疏水性。然而，本发明并不以此为限。
图2C至图2E为依本发明一实施例的一显示面板的顶基材的部分制造过程的剖视图。在如图2C所示的实施例中，毯覆式抗反射层110’可以被形成于支撑板109之上，并且以例如是硅烷等的疏水性材料将毯覆表面官能基化，以形成一疏水层111’于整个毯覆式抗反射层110’上。
接着，如图2D所示，移除配置于第一区101的毯覆式抗反射层110’以及于其上的疏水层111，把配置于支撑板109之上的毯覆式抗反射层110’图案化成图案化抗反射层110。因此，图案化抗反射层110空出第一区101。在此步骤中，将毯覆式抗反射层110’图案化的方式可以是使用掩模遮蔽在第二区102的毯覆式抗反射层110’，并对第一区101的毯覆式抗反射层110’进行移除，移除的方式可以是通过干蚀刻制作工艺，例如是等离子轰击，或者是湿式蚀刻制作工艺。干式或湿式蚀刻制作工艺为现有技术，本发明并不以此为限。
此后，如图2E所示，形成图案化遮光层103于支撑板109的第一区101中，形成图案化遮光层103的方法可以是喷墨、超级喷墨(super ink-jet)、网印或Asahi光敏树脂印刷(APR)等制作工艺。在本实施例中，图案化抗反射层110的顶表面S2比位于第一区101并暴露在外的支撑板109外表面S0更具疏水性，导致墨料可以均匀地分布于第一区101，而避免其进入第二区102。据此，墨料可以是均匀地分布并只会停留在第一区101。此后，还可以进行固化制作工艺(curing process)以固化墨料，而形成图案化遮光层103。具体地说，图案化遮光层103可以具有锐利的边缘以及良好的边缘线性。在本实施例中，因为图2D的移除步骤可以付予第一区101的支撑板109具有粗糙的外表面S0的缘故，形成图案化遮光层103的墨料可以与支撑板109的外表面S0以更大的接触面接触，从而增加图案化遮光层103的墨料与支撑板109之间的连接附着性。
在图2E的步骤之后，可以进一步将如图2A所示的保护层112或如图2B的所示的保护层112’形成于图案化遮光层103之上以将其覆盖。形成保护层112或保护层112’的方法可以是溅镀、蒸镀或原子层沉积法。可采用的沉积流程为现有技术，但本发明并不以此为限。在另一些实施例中，在形成图案化遮光层103之后，还可以移除位于图案化抗反射层110之上的疏水层111，从而疏水层111不会出现在第一区101与第二区102。因此，图2B所示的保护层112’的部分112b可以是与位于第二区102的图案化抗反射层110接触，而无疏水层111处于两者之间。
图2F至图2G为依本发明一实施例的显示面板的顶基材的部分制造过程的剖视图。在如图2F所示的实施例中，图案化抗反射层110形成于支撑板109之上，形成的方法为对未进行疏水性改质的抗反射层进行图案化。接着，如图2G所示，对图案化抗反射层110进行疏水性改质以形成疏水层111于其上。在形成疏水层111之后，可以进行图2E所示的形成图案化遮光层103的步骤以及进一步进行形成保护层112或112’的步骤以分别形成顶基材204A或顶基材204B。
进一步地说，在如图2G的步骤中，疏水层111可以不形成于位于第一区101的支撑板109上。举例来说，可以在进行疏水性改质时使用掩模遮蔽第一区101，后续于改直步骤完成后再将掩模移除，从而疏水层111不会延伸至第一区101。在另一实施例，也可以同时于第一区101以及第二区102以例如是硅烷的疏水性材料对整个表面进行官能基化，接着，更进行图案化制作工艺以移除位于第一区101的疏水性材料。举例而言，移除位于第一区101的疏水性材料的方法包括以波长为200nm的UV光照射第一区101并遮蔽第二区102。因此第一区101中的疏水性材料被降解或分解，而第二区102的疏水性材料则被保留。
图3A为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材304A的剖视图的放大图。在图3A中所示的顶基材304A的放大图所呈现部位与图1B中绘示的区域A相对应。图3A中所示的顶基材304A的结构可以是显示面板100的顶基材104的一个示范性例子。图3A所示的顶基材304A与图2A所示的顶基材204A相似，并且在两实施例中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件。更进一步地说，顶基材304A可以包括支撑板109’、图案化遮光层103、图案化抗反射层110、保护层112。图案化抗反射层110可以具有经疏水层111改质的顶表面S2。进一步地说，顶基材304A可以依照如图2C至2E的步骤或如图2F至2G的步骤制造，其中如图2D的步骤或如图2F的步骤中的移除程序还移除了位于第一区101的部分支撑板109’。在本实施例中，图案化遮光层103被镶嵌于顶基材304A的支撑板109’中。支撑板109’位于第一区101的厚度T1比起位于第二区102的厚度T2小。换句话说，支撑板109’具有凹陷R，从而支撑板109’在第一区101的外表面S0低于图案化抗反射层110的底表面S6，其中图案化遮光层103位于支撑板109’在第一区101的外表面S0。据此，图案化遮光层103的底表面S1低于图案化抗反射层110的底表面S6。在某些实施例中，图案化遮光层103的厚度可以调整，从而图案化遮光层103的顶表面S7可以与图案化抗反射层110的底表面S6共平面，但本发明并不以此为限。因为图案化抗反射层110与凹陷R可以在同一图案化步骤中被图案化的缘故，图案化抗反射层110的侧壁可以与凹陷R的侧壁共平面；或是在形成图案化抗反射层110的侧壁与形成凹陷R的侧壁之间，并未存在明显的额外分阶结构。
图3B为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图。在图3B中所示的顶基材304B的放大图所呈现部位与图1B中绘示的区域A相对应。图3B中所示的顶基材304B的结构可以是显示面板100的顶基材104的一个示范性例子。图3B所示的顶基材304B与图3A所示的顶基材304A相似，并且在两实施例中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件。如图3B所示，顶基材304B与顶基材304A的差别在于，保护层112’的部分112b可以配置于位于第二区102的疏水层111之上，而保护层112’的部分112a则配置于图案化遮光层103之上。保护层112’的部分112a以及部分112b可以具有相同的厚度。在另一些实施例中，保护层112’的厚度可以变化，从而在某些实施例中，部分112a的顶表面S3可以与部分112b的顶表面S5都在疏水层111之上并且共平面。
图4A为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图。在图4A中所示的顶基材404A的放大图所呈现部位与图1B中绘示的区域A相对应。图4A所示的顶基材404A与顶基材304A相似，并且在两实施例中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件。进一步地说，顶基材404A可以包括支撑板109’、图案化遮光层103、图案化抗反射层110、保护层112以及下伏层113。支撑板109’于第一区101中可以具有凹陷R，其中下伏层113以及图案化遮光层103依序配置于凹陷R中。然而，在另一些实施例中，支撑板109’被如图2中所示的支撑板109所取代。也就是说，在某些实施例中并不会有凹陷R，从而下伏层113配置于与图案化抗反射层110同一平面。
下伏层113配置于图案化遮光层103与位于第一区101的支撑板109’之间。更进一步地说，下伏层113可以在凹陷R中与支撑板109的外表面S0直接接触，并且具有与图案化遮光层103直接接触的顶表面S8。下伏层113的材料可以是氧化物，举例来说，下伏层113可以是SiO2，但并不以此为限。
在本实施例中，支撑板109’位于第一区101的厚度T1比起位于第二区102的厚度T2小。换句话说，支撑板109’具有一凹陷R。支撑板109’的外表面S0低于图案化抗反射层110的底表面S6，其中支撑板109’的外表面S0上配置下伏层113与图案化遮光层103。下伏层113与图案化遮光层103被镶嵌于顶基材404A的支撑板109’中。在某些实施例中，图案化遮光层103的顶表面S7可以与图案化抗反射层110的底表面S6共平面。
在本实施例中，顶基材404A可以依照如图2C至图2E的步骤制造，其中进行如图2D的步骤实可更移除部分位于第一区101的支撑板109’以及在进行如图2E的步骤前可以先形成下伏层113。此外，在如图2E的步骤前，下伏层113被形成于第一区101的凹陷R中。在一些实施例中，顶基材404A可以依照如图2F至图2G的步骤制造，其中进行如图2F的步骤时更移除部分位于第一区101的支撑板109。此外，如图2G的步骤之后，可以于第一区101的凹陷R中形成下伏层113的步骤，并且后续进行形成图案化遮光层103的步骤。在另一些实施例中，如图2G的步骤(形成疏水层111于第二区102中)之前，还可以在于第一区101的凹陷R中形成下伏层113，并且可以在如图2G的步骤之后进行形成图案化遮光层103的步骤。因为图案化抗反射层110与凹陷R可以在同一图案化步骤中被图案化的缘故，图案化抗反射层110的侧壁可以与凹陷R的侧壁共平面；或是在形成图案化抗反射层110的侧壁与形成凹陷R的侧壁之间，并未存在明显的额外分阶结构。
图4B为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图。在图4B中所示的顶基材404B的放大图所呈现部位与图1B中绘示的区域A相对应。图4B中所示的顶基材404B的结构可以是显示面板100的顶基材104的一个示范性例子。图4B所示的顶基材404B与图4A所示的顶基材404A相似，并且在两实施例中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件。如图4B所示，顶基材404B与顶基材404A的差别在于，保护层112’的部分112b可以配置于位于第二区102的疏水层111之上，而保护层112’的部分112a则配置于图案化遮光层103之上。
图4C为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的局部放大图。顶基材404C与顶基材404B的差别在于下伏层113厚度不同。如图4C所示的顶基材404C，下伏层113’的顶表面S8可以与抗反射层110的底表面S6共平面，或同样地，图案化遮光层103的底表面S1可以与抗反射层110的底表面S6共平面。也就是说，图案化遮光层103配置于与图案化抗反射层110相同的平面并且下伏层113’的厚度基本上与凹陷R的厚度相同。
图5A为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的局部放大图。在图5A中所示的顶基材504A的放大图与图1B中绘示的区域A相对应。图5A中所示的顶基材504A的结构可以是显示面板100的顶基材104的一个示范性例子。图5A所示的顶基材504A与顶基材404A相似，并且在两实施例中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件。顶基材504A可以包括支撑板109’、图案化遮光层103、图案化抗反射层110、保护层112以及下伏层113。
下伏层113的顶表面S8可以经改质，从而疏水层114可以形成于下伏层113之上。在一实施例中，形成疏水层114的疏水性材料包括硅烷、氟代硅烷、长链醇类或酸类，但并不以此为限。在一实施例中，形成疏水层114的疏水性材料可以是由与配置图案化抗反射层110的顶表面S2的疏水层111相同的材料构成。然而在另一些实施例中，疏水层114与111可由不同的材料构成。
图5B为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图。在图5B中所示的顶基材504B的放大图所呈现部位与图1B中绘示的区域A相对应。图5B中所示的顶基材504B的结构可以是显示面板100的顶基材104的一个示范性例子。图5B所示的顶基材504B与顶基材504A相似，并且在两实施例中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件。图5B所示的顶基材504B与图5A所示顶基材504A的差别在于，保护层112’的部分112b可以配置于位于第二区102的疏水层111之上，而保护层112’的部分112a则配置于图案化遮光层103之上。保护层112’的部分112a以及112b可以具有相同的厚度。此外，保护层112’的厚度可以变化，从而在某些实施例中，部分112a的顶表面S3可以与部分112b的顶表面S5都在疏水层111之上并且共平面。
图5C至图5F为依本发明一实施例的一显示面板的顶基材部分制造过程的剖视图。在如图5C所示的实施例中，毯覆式抗反射层110’可以被形成于支撑板109之上。接着，如图5D所示，可以对配置于支撑板109之上的毯覆式抗反射层110’进行图案化制作工艺，而形成图案化抗反射层110，并同时移除部分位于第一区101的支撑板109。因此，形成了在第一区101具有凹陷R的支撑板109’与空出第一区101的图案化抗反射层110。换句话说，在将平坦抗反射层110’图案化的步骤中，位于第一区101的支撑板109的厚度同时也会变薄，从而使位于第一区101的支撑板109的厚度小于位于第一区101的支撑板109的厚度，进而定义凹陷R。
此后，如图5E所示，将下伏层113形成于第一区101的支撑板109上，并且将疏水层114与疏水层111分别形成于下伏层113与图案化抗反射层110之上。位于下伏层113上的疏水材料的分布密度小于位于图案化抗反射层110上的疏水材料的分布密度。也就是说，疏水层114的疏水性小于疏水层111的疏水性。
在一些实施例中，下伏层113的材料与图案化抗反射层110的材料可以是不相同，疏水层114与疏水层111可以通过同一道疏水性改质制作工艺同时形成于下伏层113和图案化抗反射层110上。举例来说，下伏层113的顶表面S8的自由的羟基可以与疏水性分子反应，然而相较于图案化抗反射层110顶表面S2之下，下伏层113的顶表面S8在表面官能基反应中的反应程度较低。图案化抗反射层110的材料可以在表面处理或是改质制作工艺中更具反应活性。因此，在经过同样的疏水性改质程序后，位于下伏层113上的疏水材料的分布密度低于位于图案化抗反射层110上的疏水材料的分布密度。
在另一些实施例中，图案化抗反射层110的顶表面S2比下伏层113的顶表面S8所受到疏水性改质的程度更高，使位于下伏层113上的疏水材料的分布密度低于位于图案化抗反射层110上的疏水材料的分布密度。举例来说，当下伏层113的顶表面S8受到一次疏水性改质时，图案化抗反射层110顶表面S2已受到两次或更多次疏水性改质。
如图5F所示，在形成疏水层114与疏水层111的步骤之后，以湿式制作工艺的方式形成图案化遮光层103于下伏层113之上。因为位于下伏层113上的疏水材料的分布密度低于位于图案化抗反射层110上的疏水材料的分布密度的缘故，具有疏水层114于其上的下伏层113的顶表面S8相较具有疏水层111于其上的图案化抗反射层110的顶表面S2呈现较差的疏水性质。因此，以湿式制作工艺形成的图案化遮光层103具有呈线状的锐利边缘。在形成图案化遮光层103之后，图5A所示的保护层112或图5B的所示的保护层112’可以形成于图案化遮光层103以完成顶基材504A或504B。
图6A为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图。在图6A中所示的顶基材604A的放大图所呈现部位与图1B中绘示的区域A相对应。图6A中所示的顶基材604A的结构可以是显示面板100的顶基材104的一个示范性例子。图6A所示的顶基材604A与顶基材204A相似，并且在两实施例中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件。更进一步地说，顶基材604A可以包括支撑板109’、图案化遮光层103、图案化抗反射层110以及保护层112。图案化遮光层103的底表面S1可以与图案化抗反射层110的底表面S6共平面。在一些实施例中，保护层112的顶表面S3与图案化抗反射层110的顶表面S2可共平面。在本实施例中，可以没有疏水性材料形成于图案化抗反射层110之上。举例来说，顶基材604A可以依照如图2F的步骤制造，接着直接于第一区101中的支撑板109的外表面S0进行一超级喷墨法。超级喷墨法为喷墨法的改良方法，其产生小于1飞升(femto-liter，1fL＝10-15L)的墨滴，因而在打印图案时可达到次微米(submicron)的分辨率。因此在缺少例如是疏水性改质等表面处理的情况下，图案化遮光层103仍可以达到其所需要的呈线性锐利边缘。然而，在一些实施例中，顶基材604A可以依照如图2C至图2E的步骤制造，并且在形成图案化遮光层103之后，移除位于图案化抗反射层110之上的疏水层111。此外，在任何上述实施例中，形成图案化遮光层103的方法可以改为以超级喷墨法形成，从而有助于使图案化遮光层103具备所需的边缘线性。
图6B为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图。顶基材604B与顶基材604A的差别在于，保护层112’的部分112b可以配置于位于第二区102的疏水层111之上，而保护层112’的部分112a则配置于图案化遮光层103之上。保护层112’的部分112a以及112b可以具有相同的厚度。在其他的实施例中，保护层112’的厚度可以变化，从而在某些实施例中，部分112a的顶表面S3可以与部分112b的顶表面S5都在图案化抗反射层110之上并且共平面。在本实施例中，保护层112’直接与图案化抗反射层110以及图案化遮光层103接触。
图6C为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图。在图6C中所示的顶基材604C的放大图与顶基材604A相似，并且在两实施例中，相同或相似的标号表示相同或相似的构件。更进一步地说，图6C中所示的顶基材604C可以包括具有凹陷R的支撑板109’、图案化遮光层103、图案化抗反射层110及保护层112。在本实施例中，图案化遮光层103被镶嵌于顶基材604C的支撑板109’中。支撑板109’位于第一区101的厚度T1比起第二区102的厚度T2小。换句话说，支撑板109’具有凹陷R，从而支撑板109’在第一区101的外表面S0低于图案化抗反射层110的底表面S6，其中支撑板109’在第一区101的外表面S0上配置有图案化遮光层103。据此，图案化遮光层103的底表面S1低于图案化抗反射层110的底表面S6。在本实施例中，可以没有疏水性材料形成于图案化抗反射层110之上。举例来说，顶基材604C可以依照如图5D的步骤制造，接着直接于第一区101中的支撑板109的外表面进行一超级喷墨制作工艺，后续再形成保护层112于图案化遮光层103。因此，疏水性改质可以被省略以提升生产效率。
图6D为依本发明另一实施例的显示面板的顶基材的剖视图的放大图。图6D所示的顶基材604D与604C的差别在于，保护层112’的部分112b可以配置于位于第二区102的疏水层111之上，而保护层112’的部分112a则配置于图案化遮光层103之上。保护层112’的部分112a以及112b可以具有相同的厚度。在另一些实施例中，保护层112’的厚度可以变化，从而在某些实施例中，部分112a的顶表面S3可以与部分112b的顶表面S5都在图案化抗反射层110之上并且共平面。于此，保护层112’的部分112b可以直接与抗反射层110直接接触而没有疏水性材料于其间。
综上所述，依本发明一实施例的显示面板包括位于顶基材的支撑板上的图案化遮光层以及图案化抗反射层。图案化抗反射层被配置于没有图案化遮光层之处。图案化抗反射层可以经疏水性材料修饰，或是图案化遮光层可以通过超级喷墨法制作工艺形成。据此，显示面板的图案化遮光层可以通过湿式制作工艺形成于显示面板之上，并具有锐边图案以提供遮光效果。
虽然结合以上实施例公开了本发明，然而其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围应当以附上的权利要求所界定的为准。

Claims (24)

1.一种显示面板，具有第一区以及与该第一区紧邻的第二区，其特征在于，该显示面板包括：
顶基材，包括：
支撑板，具有一外表面；
图案化抗反射层，配置于该支撑板的该外表面并且空出该第一区；
图案化遮光层，配置于该支撑板的该外表面并且位于该第一区内；
底基材；以及
显示介质层，配置于该顶基材与该第二基材之间。
2.如权利要求1所述的显示面板，其中该顶基材还包括保护层，配置于该支撑板上且覆盖该图案化遮光层。
3.如权利要求2所述的显示面板，其中该保护层位于该第一区与该第二区。
4.如权利要求3所述的显示面板，其中该保护层在该第一区中具有一第一厚度以及在该第二区中具有一第二厚度且该第一厚度大于该第二厚度。
5.如权利要求2所述的显示面板，其中该保护层的一顶表面与该图案化抗反射层的一顶表面共平面。
6.如权利要求1所述的显示面板，其中该顶基材在该第二区的疏水性大于在该第一区的疏水性。
7.如权利要求1所述的显示面板，其中该图案化抗反射层的一顶表面经改质，且一疏水层形成于该图案化抗反射层的该顶表面。
8.如权利要求1所述的显示面板，其中该顶基材还包括下伏层，配置于该图案化遮光层与该支撑板之间。
9.如权利要求8所述的显示面板，其中该下伏层的一顶表面经改质，且一疏水层形成于该下伏层与该图案化遮光层之间。
10.如权利要求8所述的显示面板，其中该图案化抗反射层的材料与该下伏层的材料不同。
11.如权利要求1所述的显示面板，其中该图案化遮光层与该支撑板直接接触。
12.如权利要求1所述的显示面板，其中该支撑板于该第一区中具有一凹陷且该图案化遮光层配置于该凹陷中。
13.如权利要求1所述的显示面板，其中该图案化遮光层的一底表面与该图案化抗反射层的一底表面共平面。
14.如权利要求1所述的显示面板，其中该图案化遮光层的一顶表面与该图案化抗反射层的一底表面共平面。
15.一种制造显示面板的一顶基材的方法，其中该显示面板包括该顶基材、一底基材以及配置于该顶基材与该底基材之间的一显示介质层，其特征在于，该方法包括：
提供一支撑板，其上配置一抗反射层；
移除该抗反射层位于一第一区的一部分以形成一图案化抗反射层；以及
形成一图案化遮光层于该第一区的该支撑板上，其中位于该第一区中该图案化抗反射层已移除。
16.如权利要求15所述的方法，还包括在形成该图案化遮光层前，通过疏水性改质形成一疏水层于配置有该图案化抗反射层的该支撑板上。
17.如权利要求16所述的方法，其中在形成该图案化遮光层前移除位于该第一区的该疏水层。
18.如权利要求16所述的方法，还包括在进行疏水性改质前，形成一下伏层于该第一区的该支撑板上，在疏水性改质过程中，该疏水层同样形成于该下伏层上，并且该下伏层上的疏水性材料的一分布密度小于该图案化抗反射层上的疏水性材料的一分布密度。
19.如权利要求15所述的方法，还包括形成一下伏层于该第一区的该支撑板上，该图案化遮光层形成于该下伏层上。
20.如权利要求15所述的方法，其中在对该抗反射层进行图案化而形成该图案化抗反射层时，部分地移除该第一区的该支撑板而形成一凹陷。
21.如权利要求15所述的方法，还包括形成一保护层覆盖该图案化遮光层。
22.如权利要求21所述的方法，其中该保护层还覆盖该抗反射层。
23.如权利要求15所述的方法，其中进行喷墨印刷制作工艺以将该图案化遮光层形成于该第一区的该支撑板上。
24.如权利要求15所述的方法，其中进行超级喷墨印刷制作工艺以将该图案化遮光层形成于该第一区的该支撑板上。
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