JP4049194B2 - カラーフィルター - Google Patents
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まず、図2(a)に示すように、例えば無アルカリガラスからなる透明基板19上に、PECVD(Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition )法を用いて膜厚3600Å程度の酸化珪素膜20を形成する。この際、PECVDの条件としては、原料ガスをSiH4/N2Oとし、平行平板型PECVD装置を用い、RF周波数13.56MHz、RFパワー900W、電極間間隔24mm、圧力1.5Torr、SiH4ガス流量250sccm、N2Oガス流量7000sccm、デポレート1200Å/分、デポ時間3分、とする。なお、この酸化珪素膜20の膜厚は2000Å〜2μm程度の範囲とすることができる。
次に、酸化珪素膜20上に、PECVD法を用いて膜厚3μm程度の非晶質シリコン膜24(amorphous-Silicon,以下、a−Siと記す、半導体膜)を成膜する。この際、PECVDの条件としては、原料ガスをSiH4 /Arとし、平行平板型PECVD装置を用い、RF周波数13.56MHz 、RFパワー600W、電極間間隔12mm、圧力1.0Torr、SiH4ガス流量500sccm 、Arガス流量7000sccm、デポレート1800Å/分、とする。
その後、周知のフォトリソグラフィー技術を用いて、線状遮光体形成用のフォトレジストパターン25をa−Si膜24上に形成する。そして、図2(b)に示すように、CDE(Chemical Dry Etching)法を用いてa−Si膜24のテーパエッチングを行う。この際、CDEの条件としては、エッチングガスをCF4/O2とし、マイクロ波プラズマエッチング装置を用い、周波数2.54GHz、マイクロ波パワー700W、圧力30Pa、CF4ガス流量990sccm 、O2ガス流量90sccm、エッチングレート2500Å/分、エッチング時間12分、とする。この条件でエッチングを行うと、テーパ角が60°〜80°程度のテーパエッチングが可能となる。この工程により、a−Siからなる複数の線状遮光体21が完成する。その後、フォトレジストパターン25を除去する。
次に、図2(c)に示すように、複数の線状遮光体21間の開口部22内にR、G、Bの各インク26a,26b,26cをそれぞれ注入する。この際には、一般のインクジェットプリンタを用いることができるが、プリンタヘッド27のR、G、Bの各ノズル28a,28b,28cの間隔が、隣接する開口部22、22の中心間の距離に一致するように調整しておく。
次に、全面にシリコンを含有した液体を塗布した後、温度100〜200℃でこれを焼結させると(Spin-On-Glass, 以下、SOG法と記す )、複数の線状遮光体21と色素材23a,23b,23cを覆う酸化珪素膜からなる透明保護膜17が形成される。なお、ここで用いるシリコン含有液体(SOG液)の種類としては、Silicate-type, hydrosilicate-type, perhydrosilazane-type等、種々のものを用いることができる。
最後に、透明保護膜17上に画素電極と必要に応じてMIMやTFT等の駆動素子を形成する。本例では、MIM素子18を形成する。この具体的な方法は、まず、スパッタ法を用いて膜厚8000ÅのTa膜を全面に成膜する。スパッタ条件は、基板温度を150〜180℃程度とする。そして、フォトリソグラフィー、エッチング法によりTa膜をパターニングするが、この際、フォトリソグラフィー工程における露光時のアライメントは線状遮光体21に対して行う。次に、陽極酸化法によりTaパターン29の表面を酸化させて膜厚400〜650Å程度のTa2O5膜30を形成する。陽極酸化は、電圧20〜40V程度、温度40℃以下、クエン酸水溶液を用いて行う。その後、スパッタ法を用いてITO膜を形成し、これを画素電極31とする。以上の工程により、本実施の形態のカラー表示装置13が完成する。
Claims (7)
- 透明基板上に形成された複数の線状遮光体と前記複数の線状遮光体間の開口部に形成された色素材を有し、
前記色素材が当該色素材を含む液状材料を用いて形成され、
前記複数の線状遮光体の下層側に、前記線状遮光体とは異なる材料からなる下地膜が形成され、
前記下地膜の側面からなる第1の側面が前記液状材料に対して親液性を有し、前記下地膜の直上に積層された前記線状遮光体の側面からなる第2の側面が前記液状材料に対して撥液性を有することを特徴とするカラーフィルター。 - 請求項1に記載のカラーフィルターであって、
前記開口部の底面が前記液状材料に対して親液性を有することを特徴とするカラーフィルター。 - 請求項2に記載のカラーフィルターであって、
前記底面が親水性を有する透明基板の表面からなることを特徴とするカラーフィルター。 - 透明基板上に形成された複数の線状遮光体と、前記複数の線状遮光体間の開口部に形成された色素材を有し、
前記色素材が当該色素材を含む液状材料を用いて形成され、
前記透明基板が凸部と凹部とを有し、前記凸部上に線状遮光体を有し、
前記凹部の側面および底面が前記液状材料に対して親液性を有し、
前記複数の線状遮光体の下層側に、前記線状遮光体とは異なる材料からなる下地膜が形成され、
前記凸部の直上に積層された前記下地膜の側面からなる第1の側面が前記液状材料に対して親液性を有し、前記下地膜の直上に積層された前記線状遮光体の側面からなる第2の側面が前記液状材料に対して撥液性を有することを特徴とするカラーフィルター。 - 請求項1乃至4のいずれか1項に記載のカラーフィルターであって、
前記第2の側面が非晶質シリコン膜の側面からなることを特徴とするカラーフィルター。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載のカラーフィルターであって、
前記第1の側面が酸化珪素膜の側面からなることを特徴とするカラーフィルター。 - 請求項1乃至6いずれか1項に記載のカラーフィルターであって、
前記透明基板が溶融石英基板または無アルカリガラス基板であることを特徴とするカラーフィルター。
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