CN110040872A - 铜离子处理系统及其废水处理系统 - Google Patents

铜离子处理系统及其废水处理系统 Download PDF

Info

Publication number
CN110040872A
CN110040872A CN201910288975.1A CN201910288975A CN110040872A CN 110040872 A CN110040872 A CN 110040872A CN 201910288975 A CN201910288975 A CN 201910288975A CN 110040872 A CN110040872 A CN 110040872A
Authority
CN
China
Prior art keywords
copper
copper ion
waste water
etchant solution
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201910288975.1A
Other languages
English (en)
Inventor
李金城
吴豪旭
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TCL China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Shenzhen China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201910288975.1A priority Critical patent/CN110040872A/zh
Priority to PCT/CN2019/095968 priority patent/WO2020206860A1/zh
Publication of CN110040872A publication Critical patent/CN110040872A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/001—Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/58—Treatment of water, waste water, or sewage by removing specified dissolved compounds
    • C02F1/62—Heavy metal compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F1/66—Treatment of water, waste water, or sewage by neutralisation; pH adjustment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
    • C02F2001/007—Processes including a sedimentation step
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2101/00—Nature of the contaminant
    • C02F2101/10—Inorganic compounds
    • C02F2101/20—Heavy metals or heavy metal compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
    • C02F2103/00—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated
    • C02F2103/16—Nature of the water, waste water, sewage or sludge to be treated from metallurgical processes, i.e. from the production, refining or treatment of metals, e.g. galvanic wastes

Abstract

一种铜离子处理系统及其废水处理系统，铜离子处理系统包括：蚀刻机台，用以利用铜蚀刻液进行蚀刻制程；中和单元，与蚀刻机台连通，用以收集并中和来自蚀刻机台的铜蚀刻液；铜离子去除单元，与中和单元连通，用于收集来自中和单元之经中和的铜蚀刻液，将铜离子自铜蚀刻液中分离；以及铜蚀刻液的补充单元，与铜离子去除单元以及蚀刻机台连通，用以接收来自铜离子去除单元的铜蚀刻液，并调整铜蚀刻液的比例后，传送回蚀刻机台以进行蚀刻制程；废水处理系统，包括：废水回收单元；废水中和单元；以及废水铜离子去除单元。

Description

铜离子处理系统及其废水处理系统
技术领域
本发明涉及一种铜离子处理系统及其废水处理系统，尤其涉及一种利用轮烷类化合物的铜离子处理系统及其废水处理系统。
背景技术
大尺寸TFTLCD由于性能要求，需要使用铜制程工艺。其中，铜蚀刻液一直存在寿命短及废液处理难的问题。寿命可以利用多剂型铜酸配合添加设备，只能一定程度延长铜蚀刻液使用寿命。废液处理部分，高金属离子浓度废液可以利用电解方式转换成铜金属，低金属离子浓度稀释排放或利用交换树脂析出或加入盐类生成沉淀形式，对环境有一定污染且效益输出较低。
为了解决现有技术所存在的问题，亟需一种延长铜蚀刻液使用寿命以及去除铜蚀刻液及其废液中离子的系统。
发明内容
基于上述，本发明的目的在于提供一种铜离子处理系统及其废水处理系统，籍由利用轮烷类物质结合铜蚀刻液中的铜离子，生成金属架构材料所需原材料，以去除铜蚀刻液中的铜离子，并利用添行各组份对系统进行补充，从而达到延长铜蚀刻液使用寿命以及去除铜蚀刻液及其废液中离子、同时节省废液处理费用的目的，且所生成金属架构材料原材料，具有产业经济价值，可用于各种组件或材料的制造。
为了实现上述目的，本发明提供一种铜离子处理系统，包括：一蚀刻机台，用以利用一铜蚀刻液进行一蚀刻制程；一中和单元，与所述蚀刻机台连通，用以收集并中和来自所述蚀刻机台的所述铜蚀刻液；一铜离子去除单元，与所述中和单元连通，用于收集来自所述中和单元之经中和的铜蚀刻液，其中，所述铜离子去除单元包括一轮烷类化合物，所述轮烷类化合物与经中和的铜蚀刻液中的铜离子结合后，形成一产物，使该产物自铜蚀刻液中分离；以及一铜蚀刻液的补充单元，与所述铜离子去除单元以及所述蚀刻机台连通，用以接收来自所述铜离子去除单元的铜蚀刻液，并调整所述铜蚀刻液的比例后，传送回所述蚀刻机台以进行所述蚀刻制程。
本发明另提供了一种废水处理系统，包括：一废水回收单元，与一蚀刻机台连通，用于收集来自所述蚀刻机台的废水；一废水中和单元，与所述废水回收单元连通，用以收集并中和来自所述废水回收单元的废水；以及一废水铜离子去除单元，与所述废水中和单元连通，用于收集来自所述废水中和单元之经中和的废水，其中，所述铜离子去除单元包括一轮烷类化合物，所述轮烷类化合物与经中和的废水中的铜离子结合后，形成一产物，将所述产物自废水中分离出来。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统及所述废水处理系统中，所述轮烷类化合物包括下列化合物1。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统及所述废水处理系统中，所述铜离子处理单元及/或废水铜离子去除单元更包括下列化合物2。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统及所述废水处理系统中，所述产物包括下列化合物3。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统中，所述中和单元包括胺类。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统中，所述铜蚀刻液的补充单元更用来过滤来自所述铜离子去除单元的铜蚀刻液中的杂质。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统中，所述铜蚀刻液的补充单元更用来检测来自所述铜离子去除单元中铜蚀刻液的各成分组成比例，并且根据检测结果，调整铜蚀刻液的各成分组成比例达到一预定配比，再将达到预定配比的铜蚀刻液输送至所述蚀刻机台，进行所述蚀刻制程。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统的铜离子处理单元中，将所述产物自铜蚀刻液中分离出来的方法包括沉淀过滤。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理中，自所述铜蚀刻液的补充单元传送至所述蚀刻机台以进行所述蚀刻制程的所述铜蚀刻液的酸碱度为pH 4-5。
有益效果
本发明所提供之一种铜离子处理系统及其废水处理系统，籍由利用轮烷类物质结合铜蚀刻液中的铜离子，生成金属架构材料所需原材料，以去除铜蚀刻液中的铜离子，并利用添行各组份对系统进行补充，从而达到延长铜蚀刻液使用寿命以及去除铜蚀刻液及其废液中离子、同时节省废液处理费用的目的，且所生成金属架构材料原材料，具有产业经济价值，可用于各种组件或材料的制造。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为依据本发明一实施例之铜处理系统的示意图；
图2为依据本发明一实施例之废水处理系统的示意图；以及
图3为依据本发明一实施例，在铜离子去除单元中，轮烷类化合物与经中和的铜蚀刻液中的铜离子结合的化学反应过程示意图。
具体实施方式
在本文中提及“实施例”意味着，结合实施例描述的特定特征、结构或特性可以包含在本发明的至少一个实施例中。在说明书中的各个位置出现该短语并不一定均是指相同的实施例，也不是与其它实施例互斥的独立的或备选的实施例。本领域技术人员显式地和隐式地理解的是，本文所描述的实施例可以与其它实施例相结合。
图1为依据本发明一实施例之铜处理系统的示意图。具体的，如图1所示，本发明提供一种铜离子处理系统1，包括：一蚀刻机台11，用以利用一铜蚀刻液进行一蚀刻制程；一中和单元12，与所述蚀刻机台11连通，用以收集并中和来自所述蚀刻机台11的所述铜蚀刻液；一铜离子去除单元13，与所述中和单元12连通，用于收集来自所述中和单元12之经中和的铜蚀刻液，其中，所述铜离子去除单元13包括一轮烷类化合物，所述轮烷类化合物与经中和的铜蚀刻液中的铜离子结合后，形成一产物，使该产物自铜蚀刻液中分离；以及一铜蚀刻液的补充单元14，与所述铜离子去除单元13以及所述蚀刻机台11连通，用以接收来自所述铜离子去除单元13的铜蚀刻液，并调整所述铜蚀刻液的比例后，传送回所述蚀刻机台11以进行所述蚀刻制程。
在一实施例中，蚀刻机台11可以是用以进行显示面板蚀刻的机台，但本发明并不以此为限。蚀刻机台11也可以是用以进行集成电路或太阳能面板制造的蚀刻机台。
图2为依据本发明一实施例之废水处理系统的示意图。具体的，一并参见图1及图2，本发明另提供了一种废水处理系统2，包括：一废水回收单元21，与一蚀刻机台连通(例如图1的蚀刻机台11)，用于收集来自所述蚀刻机台11的废水；一废水中和单元22，与所述废水回收单元21连通，用以收集并中和来自所述废水回收单元21的废水；以及一废水铜离子去除单元23，与所述废水中和单元22连通，用于收集来自所述废水中和单元22之经中和的废水，其中，所述铜离子去除单元包括一轮烷类化合物，所述轮烷类化合物与经中和的废水中的铜离子结合后，形成一产物，将所述产物自废水中分离出来，分离出来的产物包括一金属架构材料原材料，具有产业经济价值，可用于各种组件或材料的制造。
当可理解的是，本发明的废水处理系统2并不限于应用于蚀刻机台11的废水处理。事实上，本发明的废水处理系统2可以应用于其他任何含有铜离子废水的机台，包括但不限于：各种蚀刻机台、沉积机台、清洗机台等。依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统及所述废水处理系统中，所述轮烷类化合物包括下列化合物1。
依据本发明的一实施例，在化合物1中的氢原子可被1～5杂环烃基取代。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统及所述废水处理系统中，所述铜离子处理单元及/或废水铜离子去除单元更包括下列化合物2。
依据本发明的一实施例，在化合物2中的氢原子可被1～5杂环烃基取代。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统及所述废水处理系统中，所述产物包括下列化合物3，化合物3属于一种金属架构材料原材料，具有产业经济价值，可用于各种组件或材料的制造。
依据本发明的一实施例，在化合物3中的氢原子可被1～5杂环烃基取代。
图3为依据本发明一实施例，在铜离子去除单元中，轮烷类化合物与经中和的铜蚀刻液中的铜离子结合的化学反应过程示意图。具体的，如图3所示，在本发明之铜离子去除单元中，化合物1与经中和的铜蚀刻液中的铜离子结合成一过渡产物，所述过渡产物与化合物2反应的化学反应形成化合物3，将化合物3自铜蚀刻液中沉淀分离出来，再将铜蚀刻液传送至铜蚀刻液的补充系统。由于化合物3属于一种金属架构材料原材料，具有产业经济价值，可用于各种组件或材料的制造。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理中，自所述铜蚀刻液的补充单元传送至所述蚀刻机台以进行所述蚀刻制程的所述铜蚀刻液的酸碱度为pH 4-5。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统中，所述中和单元包括胺类，可中和酸性的铜蚀刻液。在中性的铜蚀刻液中，铜离子较易与环烷类化合物结合析出，故可在铜离子去除单元中自铜蚀刻液中的分离出来。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统中，所述铜蚀刻液的补充单元更用来过滤来自所述铜离子去除单元的铜蚀刻液中的杂质。在一具体实施例中，可利用网目大小0.45μm的滤膜过滤来自所述铜离子去除单元的铜蚀刻液中的杂质。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统中，所述铜蚀刻液的补充单元在过滤来自所述铜离子去除单元的铜蚀刻液中的杂质后，可用来检测来自所述铜离子去除单元中铜蚀刻液的各成分组成比例，并且根据检测结果，调整铜蚀刻液的各成分组成比例达到一预定配比，再将达到预定配比的铜蚀刻液输送至所述蚀刻机台，进行所述蚀刻制程。
依据本发明的一实施例，在所述铜离子处理系统的铜离子处理单元中，将所述产物自铜蚀刻液中分离出来的方法包括沉淀过滤。
本发明所提供之一种铜离子处理系统及其废水处理系统，籍由利用轮烷类物质结合铜蚀刻液中的铜离子，生成金属架构材料所需原材料，以去除铜蚀刻液中的铜离子，并利用添行各组份对系统进行补充，从而达到延长铜蚀刻液使用寿命以及去除铜蚀刻液及其废液中离子、同时节省废液处理费用的目的，且所生成金属架构材料原材料，具有产业经济价值，可用于各种组件或材料的制造。
虽然本发明结合其具体实施例而被描述，应该理解的是，许多替代、修改及变化对于那些本领域的技术人员将是显而易见的。因此，其意在包含落入所附权利要求书的范围内的所有替代、修改及变化。

Claims (10)

1.一种铜离子处理系统，包括：
一蚀刻机台，用以利用一铜蚀刻液进行一蚀刻制程；
一中和单元，与所述蚀刻机台连通，用以收集并中和来自所述蚀刻机台的所述铜蚀刻液；
一铜离子去除单元，与所述中和单元连通，用于收集来自所述中和单元之经中和的铜蚀刻液，其中，所述铜离子去除单元包括一轮烷类化合物，所述轮烷类化合物与经中和的铜蚀刻液中的铜离子结合后，形成一产物，使该产物自铜蚀刻液中分离；以及
一铜蚀刻液的补充单元，与所述铜离子去除单元以及所述蚀刻机台连通，用以接收来自所述铜离子去除单元的铜蚀刻液，并调整所述铜蚀刻液的比例后，传送回所述蚀刻机台以进行所述蚀刻制程。
2.根据权利要求1所述的铜离子处理系统，其中，所述轮烷类化合物包括下列化合物1
。
3.根据权利要求2所述的铜离子处理系统，其中，所述铜离子处理单元更包括下列化合物2
。
4.根据权利要求3所述的铜离子处理系统，其中，所述产物包括下列化合物3
。
5.根据权利要求1所述的铜离子处理系统，其中所述中和单元包括胺类。
6.根据权利要求1所述的铜离子处理系统，其中所述铜蚀刻液的补充单元更用来过滤来自所述铜离子去除单元的铜蚀刻液中的杂质。
7.根据权利要求1所述的铜离子处理系统，其中所述铜蚀刻液的补充单元更用来检测来自所述铜离子去除单元中铜蚀刻液的各成分组成比例，并且根据检测结果，调整铜蚀刻液的各成分组成比例达到一预定配比，再将达到预定配比的铜蚀刻液输送至所述蚀刻机台，进行所述蚀刻制程。
8.根据权利要求1所述的铜离子处理系统，其中在所述铜离子处理单元中，将所述产物自铜蚀刻液中分离出来的方法包括沉淀过滤。
9.根据权利要求1所述的铜离子处理系统，其中自所述铜蚀刻液的补充单元传送至所述蚀刻机台以进行所述蚀刻制程的所述铜蚀刻液的酸碱度为pH4-5。
10.一种废水处理系统，包括：
一废水回收单元，与一蚀刻机台连通，用于收集来自所述蚀刻机台的废水；
一废水中和单元，与所述废水回收单元连通，用以收集并中和来自所述废水回收单元的废水；以及
一废水铜离子去除单元，与所述废水中和单元连通，用于收集来自所述废水中和单元之经中和的废水，其中，所述铜离子去除单元包括一轮烷类化合物，所述轮烷类化合物与经中和的废水中的铜离子结合后，形成一产物，将所述产物自废水中分离出来。
CN201910288975.1A 2019-04-11 2019-04-11 铜离子处理系统及其废水处理系统 Pending CN110040872A (zh)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910288975.1A CN110040872A (zh) 2019-04-11 2019-04-11 铜离子处理系统及其废水处理系统
PCT/CN2019/095968 WO2020206860A1 (zh) 2019-04-11 2019-07-15 铜离子处理系统及其废水处理系统

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201910288975.1A CN110040872A (zh) 2019-04-11 2019-04-11 铜离子处理系统及其废水处理系统

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN110040872A true CN110040872A (zh) 2019-07-23

Family

ID=67276751

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201910288975.1A Pending CN110040872A (zh) 2019-04-11 2019-04-11 铜离子处理系统及其废水处理系统

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN110040872A (zh)
WO (1) WO2020206860A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111394730A (zh) * 2020-04-29 2020-07-10 Tcl华星光电技术有限公司 蚀刻液再生装置及蚀刻液再生方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1584129A (zh) * 2003-08-20 2005-02-23 李德良 从含铜废液中分离铜的方法及其设备
CN108948100A (zh) * 2018-07-16 2018-12-07 哈尔滨理工大学 两种三维准轮烷型多酸基金属有机框架材料的制备及应用
US20190051902A1 (en) * 2017-08-14 2019-02-14 Nanotek Instruments, Inc. Alkali Metal-Sulfur Secondary Battery Containing a Protected Sulfur Cathode Material and Manufacturing Method

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1156766A (zh) * 1996-02-03 1997-08-13 深圳市工业废物处理站 再生碱性蚀刻补充液的制备方法及其装置系统
CN1854343A (zh) * 2005-04-26 2006-11-01 李德良 一种铜蚀刻液及其循环使用方法
WO2011100757A2 (en) * 2010-02-15 2011-08-18 The University Of Houston System Knotty polymers via supramolecularly templated macroinitiators and living polymerization and methods for making and using same
EP3277712A4 (en) * 2015-03-30 2018-09-26 City of Hope Mechanically interlocking complexes
CN107383381B (zh) * 2017-07-13 2020-09-18 南方科技大学 一种剪切增稠水凝胶及其制备方法和应用
CN108359990A (zh) * 2018-04-12 2018-08-03 长沙利洁环保科技有限公司 一种碱性蚀刻液及其循环使用方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1584129A (zh) * 2003-08-20 2005-02-23 李德良 从含铜废液中分离铜的方法及其设备
US20190051902A1 (en) * 2017-08-14 2019-02-14 Nanotek Instruments, Inc. Alkali Metal-Sulfur Secondary Battery Containing a Protected Sulfur Cathode Material and Manufacturing Method
CN108948100A (zh) * 2018-07-16 2018-12-07 哈尔滨理工大学 两种三维准轮烷型多酸基金属有机框架材料的制备及应用

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
ALI COSKUN 等: "Metal-Organic Frameworks Incorporating Copper-Complexed Rotaxanes", 《ANGEWANDTE CHEMIE-INTERNATIONAL EDITION》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111394730A (zh) * 2020-04-29 2020-07-10 Tcl华星光电技术有限公司 蚀刻液再生装置及蚀刻液再生方法
CN111394730B (zh) * 2020-04-29 2022-06-07 Tcl华星光电技术有限公司 蚀刻液再生装置及蚀刻液再生方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2020206860A1 (zh) 2020-10-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2397444A1 (en) Method for processing waste water containing fluorine and silicon, method for producing calcium fluoride, and facility for processing fluorine-containing waste water
KR100264643B1 (ko) 수산화유기사급암모늄을 함유하는 폐액의 처리방법
CN101948133B (zh) 一种利用退锡液联产锡酸钠和二氧化锡的方法
CN105439360A (zh) 一种含镍废水的处理方法及其处理系统
CN109678196B (zh) 一种微蚀刻废液阴阳离子全回收利用方法
CZ20024119A3 (cs) Způsob výroby hydroxidů kovů nebo zásaditých uhličitanů kovů
CN110040872A (zh) 铜离子处理系统及其废水处理系统
US20110293506A1 (en) Method for processing waste water containing fluorine and silicon, method for producing calcium fluoride, and facility for processing fluorine-containing waste water
CN113636672A (zh) 含镍废水的回收方法
JP2008127266A (ja) 銅エッチング廃液から酸化第２銅を製造する方法
EP1930296A1 (en) Method for producing high purity caustic potash
JP2013044052A (ja) 無電解ニッケルメッキ廃水の処理方法
US20240116002A1 (en) Systems and methods for direct lithium hydroxide production
JP2013253273A (ja) ニッケルの回収方法
CN214653680U (zh) 一种利用烟气干法脱硫废渣联产硫酸钠及氯化钠的系统
JP2011125812A (ja) フッ素およびケイ素を含む排水の処理方法、フッ化カルシウムの製造方法、およびフッ素含有排水処理設備
CN108483481A (zh) 一种利用废酸性蚀刻液生产高纯结晶硫酸铜的方法
CN103827037B (zh) 用于从苛性碱洗涤器废液流中除去碳酸盐的方法
JP6417963B2 (ja) 回収ボイラ捕集灰の処理方法及び処理装置
JP2688009B2 (ja) 廃液から水酸化有機第四アンモニウムを回収する方法
CN108002581B (zh) 一种含金属离子的高氨氮废水清洁处理的方法
CN210505915U (zh) 一种高浓废水零排放处理装置
CN103911513A (zh) 退锡废液的处理方法
CN209456209U (zh) 一种阳极液回收处理系统
CN102730744B (zh) 高纯电镀级硫酸铜除钙镁工艺

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20190723

WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication