CN109928622A - 一种日式中温陶瓷釉 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种日式中温陶瓷釉,所述日式中温陶瓷釉原料配方的重量百分比组成为:黄蜡石:18%、江东土:15%、瓷石20%、方解石:12%、钾长石25%、石英7%、氧化铝:3%,本发明通过科学的原料配比和制备工艺研制出了瓷质釉面柔和、典雅的日式中温陶瓷产品,因此具有广阔的市场前景。
Description
技术领域
本发明属无机非金属材料(陶瓷)领域,具体涉及一种日式中温陶瓷釉。
背景技术
日式中温反应釉作为一种新釉种,釉面柔和、典雅、新奇,其细小反应晶体均匀分布组成,其反应晶体是一种颜色,釉面是另一种颜色,类似于高温颜色釉,但又不相同,此种釉技术含量高,适用性强,工艺易于控制,已成为陶瓷产品中新型高档釉种,因此具有极高的研发意义。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种工艺简单、釉面柔和、典雅的日式中温陶瓷釉。
本发明通过以下技术方案予以实现:一种日式中温陶瓷釉,其特征在于:所述日式中温陶瓷釉原料配方的重量百分比组成为:黄蜡石:18%、江东土:15%、瓷石20%、方解石:12%、钾长石25%、石英7%、氧化铝:3%。
本发明发的日式中温陶瓷釉摒弃了传统的上一次底釉再上一次面釉的工艺,采用廉价的生料釉一次性施釉,而且不添加昂贵且复杂的熔块,大大降低了釉料的生产成本,并且产品一致性好,釉面柔和、典雅,产品合格率高,因此可以大大降低生产成本。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明、为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合较佳实施例,对本发明进行详细说明:
实施例1
釉料配方:黄蜡石:18%、江东土:15%、瓷石20%、方解石:12%、钾长石25%、石英7%、氧化铝:3%;
按下述釉料配方,将原料混合球磨后过250目筛,筛余0.1%,以浸釉的方式在经750℃素烧后的具有高透光性的高白泥素坯上施釉,釉层厚度2mm,将施釉后的高白泥素坯在梭式窑中于1200℃烧制获得日式中温陶瓷产品。
Claims (1)
1.一种日式中温陶瓷釉,其特征在于:所述日式中温陶瓷釉原料配方的重量百分比组成为:黄蜡石:18%、江东土:15%、瓷石20%、方解石:12%、钾长石25%、石英7%、氧化铝:3%。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201711355873.4A CN109928622A (zh) | 2017-12-16 | 2017-12-16 | 一种日式中温陶瓷釉 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN201711355873.4A CN109928622A (zh) | 2017-12-16 | 2017-12-16 | 一种日式中温陶瓷釉 |
Publications (1)
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CN109928622A true CN109928622A (zh) | 2019-06-25 |
Family
ID=66981046
Family Applications (1)
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CN201711355873.4A Pending CN109928622A (zh) | 2017-12-16 | 2017-12-16 | 一种日式中温陶瓷釉 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN109928622A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108083645A (zh) * | 2017-12-26 | 2018-05-29 | 湖南港鹏实业有限公司 | 日式陶瓷釉、日式陶瓷产品及其制备方法 |
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2017
- 2017-12-16 CN CN201711355873.4A patent/CN109928622A/zh active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN108083645A (zh) * | 2017-12-26 | 2018-05-29 | 湖南港鹏实业有限公司 | 日式陶瓷釉、日式陶瓷产品及其制备方法 |
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Legal Events
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PB01 | Publication | ||
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WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20190625 |