CN107056058B - 一种中温日用陶瓷装饰用花釉的应用方法 - Google Patents

一种中温日用陶瓷装饰用花釉的应用方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开一种中温日用陶瓷装饰用花釉的应用方法，其特征在于：所述花釉基础配方的重量百分比组成为：高岭土10～14%、石英20～40%、钠长石2～6%、钾长石2～6%、方解石7～14%、硅灰石7～12%、氧化锌2～6%、钛白粉2～6%、骨灰2～6%、磷酸钙2～6%、钼酸铵3～6%，外加限晶剂2～6%、着色氧化物2～5%；原料经混合、球磨、过筛后施于中温日用陶瓷泥坯上，最后通过中温一次性烧成获得产品。本发明制得花釉装饰的中温日用陶瓷，工艺简单、适应性强、效果独特，因此具有广阔的市场前景。

Description

一种中温日用陶瓷装饰用花釉的应用方法
技术领域
本发明属于陶瓷釉料领域，具体涉及一种中温日用陶瓷装饰用花釉的应用方法。
背景技术
随着生活水平的提高，人们越来越追求高品质的生活质量。日常生活中所用的物品也不再单纯满足于其使用的价值，还要求具有观赏价值。目前，在日用陶瓷外观装饰方面，已经有釉上贴花、浮雕、釉上彩、釉下彩、颜色釉及其综合装饰等一系列装饰。为了满足人们高品质的生活需求，作为艺术瓷装饰的花釉应用于日用陶瓷——花釉日用陶瓷应运而生，越来越受到人们的喜爱，市场前景非常好。
所谓花釉，就是通过配方研究，以石英、长石为主要原料，在釉料中加入色剂，采用不同的施釉方式与烧成制度，随着窑炉温度、气氛的微妙变化，使釉中各着色氧化物在高温下相互交融反应，形成五光十色、变化万千的各种色釉，使釉面产生一些意想不到的奇特装饰效果，但花釉产品生产控制难度很大，历史上有花釉产品独一无二的说法。
作为近年来亮相市场新品花釉日用陶瓷产品，大多都是多层反应花釉，其釉色丰富、柔和以及更有立体感而深受客户的青睐。多层反应花釉是利用多层釉之间的高温流动度的差别，形成釉层间错动的流动效果，从而形成花纹。多层反应花釉除了特殊的配方搭配外，施釉过程比较复杂，成本高；而且对烧成制度要求严格，烧成制度控制不合理，不但不能配套生产，而且会出现流釉、釉不平等缺陷，产品合格率很低。
发明内容
本发明要解决的技术问题是提供一种工艺简单、适应性强、效果独特的中温日用陶瓷装饰用花釉的应用方法。
本发明通过以下技术方案予以实现：一种中温日用陶瓷装饰用花釉的应用方法，其特征在于：所述花釉基础配方的重量百分比组成为：高岭土10～14%、石英20～40%、钠长石2～6%、钾长石2～6%、方解石7～14%、硅灰石7～12%、氧化锌2～6%、钛白粉2～6%、骨灰2～6%、磷酸钙2～6%、钼酸铵3～6%，外加限晶剂2～6%、着色氧化物2～5%；按上述花釉基础配方的重量百分比，将其原料混合、球磨、过筛后获得基础配方釉浆，然后将基础配方釉浆与限晶剂、着色氧化物进行混合均匀，再以浸釉的方式，将混合后的釉浆施于中温日用陶瓷泥坯上，最后通过中温一次性烧成的方式获得产品。
所述着色氧化物为Co2O3、Fe2O3、MnO2、CuO中的一种，其细度为过325目筛，筛余为0。
所述限晶剂为等量的氧化铈和氧化钇。
所述基础配方釉浆的颗粒直径为D50=3um。
所述氧化铈的颗粒直径为D50=1um，氧化钇的颗粒直径为D50=4um。
所述中温一次性烧成的温度为1180～1230℃。
所述釉浆施于中温日用陶瓷泥坯上的釉层厚度为2.5～3.5mm。
所述中温一次性烧成过程中采用正负压交叉烧制工艺，其烧成制度为：室温至800～950℃，升温速率6～8℃/min，并在800～950℃保温20 min，此过程中窑内处于负压状态；窑内温度从800～950℃至1080～1130℃，升温速率1.5～2℃/min，此过程中窑内处于正压状态；窑内温度从1080～1130℃至1180～1230℃，升温速率3～5℃/min保温40min，此过程中窑内处于正压状态；最后窑炉熄火，自然冷却至室温。
本发明通过控制原料的颗粒度，添加钛白粉、骨灰、磷酸钙作为分相剂，氧化锌、钼酸铵作为结晶剂，通过添加氧化铈、氧化钇作为限晶剂用于填补晶粒及缺陷，生成能阻碍晶粒继续生长的膜，从而在釉层内形成立体均匀的花色效果；通过正负压交叉还原烧成技术很好的解决了流釉、釉不平、花面大小不易控制、合格率低的问题；通过利用不同的陶瓷色料使得花釉呈现出色彩斑斓的艺术效果。
本发明中温日用陶瓷装饰用花釉通过选用合理配方组成，采用一次施釉、快速烧成，在釉层内产生立体花色、花面大小均匀的晶花，并可以根据需要加入不同的着色氧化物来调整晶花颜色，具体来说具有优点：
1、解决了两次施釉过程比较复杂，成本高以及合格率低的问题，一次施釉的反应花釉产品合格率将大幅度提高；
2、该釉有很高的观赏价值，深受市场的喜爱；
3、通过配方和烧成制度的调整，能够人为控制釉面的效果，包括花面以及花纹大小等；
4、该釉料配方中还有氧化铁、氧化锰、氧化铜等着色氧化物，遮盖能力强，对釉料和坯体的其他原料的白度无要求，从而可以大幅降低原料成本，从根本上解决优质原料紧缺的问题。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效，以下结合较佳实施例，对本发明进行详细说明：
实施例1
按重量百分比的花釉基础配方：高岭土12%、石英35%、钠长石3%、钾长石3%、方解石14%、硅灰石12%、氧化锌3%、钛白粉3%、骨灰5%、磷酸钙5%、钼酸铵5%，外加氧化铈3%、氧化钇3%、Co2O32%；
按上述花釉基础配方，将原料混合、球磨、过筛后获得基础配方釉浆，所述基础配方釉浆的颗粒直径为D50=3um；然后将基础配方釉浆与颗粒直径为D50=1um的氧化铈和颗粒直径为D50=4um的氧化钇及颗粒直径为D50=50nm的Co2O3进行混合均匀，再以浸釉的方式，将混合后的釉浆施于中温日用陶瓷泥坯上，釉层厚度2.5mm，将施釉后的泥坯在辊道窑中烧制获得产品。烧制制度为：室温至850℃，升温速率6℃/min，并在850℃，保温20min，此过程中窑内处于负压状态；窑内温度从850℃至1100℃，升温速率1.5℃/min，此过程中窑内处于正压状态；窑内温度从1100℃至1180℃，升温速率3℃/min，保温40min，此过程中窑内处于正压状态；最后窑炉熄火，自然冷却至室温。
实施例2
按重量百分比的釉料配方：高岭土13%、石英40%、钠长石5%、钾长石5%、方解石9%、硅灰石8%、氧化锌5%、钛白粉4%、骨灰4%、磷酸钙4%、钼酸铵3%，外加氧化铈2%、氧化钇2%、Fe2O33%；
按上述花釉基础配方，将原料混合、球磨、过筛后获得基础配方釉浆，所述基础配方釉浆的颗粒直径为D50=3um；然后将基础配方釉浆与颗粒直径为D50=1um的氧化铈和颗粒直径为D50=4um的氧化钇及颗粒直径为D50=50nm的Fe2O3进行混合均匀，再以浸釉的方式，将釉浆施于中温日用陶瓷泥坯上，釉层厚度3mm，将施釉后的泥坯在辊道窑中烧制获得产品。烧制制度为：室温至900℃，升温速率7℃/min，并在900℃，保温20min，此过程中窑内处于负压状态；窑内温度从900℃至1100℃，升温速率1.7℃/min，此过程中窑内处于正压状态；窑内温度从1100℃至1200℃，升温速率4℃/min，保温40min，此过程中窑内处于正压状态；最后窑炉熄火，自然冷却至室温。
实施例3
釉料配方：高岭土14%、石英28%、钠长石4%、钾长石4%、方解石14%、硅灰石11%、氧化锌4%、钛白粉5%、骨灰5%、磷酸钙5%、钼酸铵6%，外加氧化铈1%、氧化钇1%、MnO24%；
按上述花釉基础配方，将原料混合、球磨、过筛后获得基础配方釉浆，所述基础配方釉浆的颗粒直径为D50=3um；然后将基础配方釉浆与颗粒直径为D50=1um的氧化铈和颗粒直径为D50=4um的氧化钇及颗粒直径为D50=50nm的MnO2进行混合均匀，再以浸釉的方式，将釉浆施于中温日用陶瓷泥坯上，釉层厚度3.5mm，将施釉后的泥坯在辊道窑中烧制获得产品。烧制制度为：室温至950℃，升温速率8℃/min，并在950℃，保温20min，此过程中窑内处于负压状态；窑内温度从950℃至1120℃，升温速率2℃/min，此过程中窑内处于正压状态；窑内温度从1120℃至1230℃，升温速率5℃/min，保温40min，此过程中窑内处于正压状态；最后窑炉熄火，自然冷却至室温。

Claims (1)

1.一种中温日用陶瓷装饰用花釉的应用方法，其特征在于：按重量百分比的花釉基础配方：高岭土12%、石英35%、钠长石3%、钾长石3%、方解石14%、硅灰石12%、氧化锌3%、钛白粉3%、骨灰5%、磷酸钙5%、钼酸铵5%，外加氧化铈3%、氧化钇3%、Co2O32%；
按上述花釉基础配方，将原料混合、球磨、过筛后获得基础配方釉浆，所述基础配方釉浆的颗粒直径为D50=3um；然后将基础配方釉浆与颗粒直径为D50=1um的氧化铈和颗粒直径为D50=4um的氧化钇及颗粒直径为D50=50nm的Co2O3进行混合均匀，再以浸釉的方式，将混合后的釉浆施于中温日用陶瓷泥坯上，釉层厚度2.5mm，将施釉后的泥坯在辊道窑中烧制获得产品；烧制制度为：室温至850℃，升温速率6℃/min，并在850℃，保温20min，此过程中窑内处于负压状态；窑内温度从850℃至1100℃，升温速率1.5℃/min，此过程中窑内处于正压状态；窑内温度从1100℃至1180℃，升温速率3℃/min，保温40min，此过程中窑内处于正压状态；最后窑炉熄火，自然冷却至室温。
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