CN109848773A - 一种用于轴承制造的抛光设备 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种用于轴承制造的抛光设备，其结构包括：抛光罩、散热网、精抛滚轴、基座壳体、启动面板、防尘盖、粗抛去粒机构、制动器，本发明的有益效果：通过研发出粗抛去粒机构，在轴承粗抛阶段时采用不同于常规研磨抛光的方式去除氧化物颗粒，由轴承支架固定抛光用的轴承，环面直切架通过刨切的方式对轴承外圈切面进行高速削切，刨切能直接将颗粒物从与轴承相连处高速截断，刨切完后通过轴承支架的球座将轴承倾向于精抛滚轴，将表面颗粒去除完毕的轴承放置于两根精抛滚轴中间并通过精抛滚轴的滚动对轴承表面进行二次研磨以达到更为光洁的抛光精度。

Description

一种用于轴承制造的抛光设备

技术领域

本发明涉及轴承制造技术领域，尤其是涉及到一种用于轴承制造的抛光设备。

背景技术

轴承制造抛光都是采用研磨的方法使其表面光洁，光洁的程度与轴承材料的品质、热处理工艺、抛光技术及工艺设备有关，通常认为抛光设备是最重要的影响因素，恰当的抛光技术及工艺设备配合品质优良的工具钢材和正确的热处理工艺才能得到上佳的光洁度，否则即使采用最优质的钢材也不会达到高度镜面的效果，而且热处理在很多方面会影响到抛光性能，轴承表面硬化钢材则会由于表面碳成分增加导致轴承表面的小氧化物颗粒增加使抛光困难，而传统的抛光机都是先粗抛后精抛，为了达到粗抛的目的，要求转盘转速较低，所以采用研磨的方式无法有效去除轴承表面的氧化物颗粒，如果在粗抛时无法去除轴承表面的颗粒物则会影响最后的抛光精度，基于以上前提，本案研发了一种用于轴承制造的抛光设备，能够有效去除轴承表面的氧化物颗粒物，提高轴承表面的抛光精度。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明是通过如下的技术方案来实现：一种用于轴承制造的抛光设备，其结构包括：抛光罩、散热网、精抛滚轴、基座壳体、启动面板、防尘盖、粗抛去粒机构、制动器，所述抛光罩设有散热网与启动面板，抛光罩与基座壳体相连，所述基座壳体内腔设有精抛滚轴与粗抛去粒机构，防尘盖嵌合抛光罩，制动器贯穿基座壳体并与其相连，散热网用于发散基座壳体内的热量，启动面板用于设备的启动控制，精抛滚轴用于轴承粗抛后的二次精细抛光使用，其目的是去除粗抛产生的表层损伤，使轴承抛光损伤减到最小。

作为本发明进一步技术补充，所述基座壳体设有底脚与转子，转子连接精抛滚轴，底脚分设于底部四角与基座壳体为一体化结构，底脚能够有效增强设备的贴地稳固性。

作为本发明进一步技术补充，所述防尘盖设有把手，由于抛光必须在清洁无尘的环境中进行，因为硬尘粒会污染研磨材料，损害已接近完成抛光的轴承表面，抛光罩及防尘盖可防止灰土及其他杂物在设备不使用时落在结构部件上而影响使用效果，把手能方便防尘盖的开启与闭合。

作为本发明进一步技术补充，所述粗抛去粒机构由轴承支架、环面直切架组成，所述环面直切架设有两个并分别位于轴承支架两侧，轴承支架与环面直切架相连，轴承支架可根据轴承的直径及尺寸进行调节并固定轴承避免在抛光的过程中产生偏移，环面直切架围绕轴承支架两侧且可扩张缩放，两个环面直切架彼此的间距可调节为常规轴承的适用尺寸。

作为本发明进一步技术补充，所述轴承支架由调节环、摇杆、限位块、电极柱、球座、旋转器、转杆组成，所述调节环连接并贯穿于摇杆，摇杆上设有限位块，所述摇杆尾端连接球座，球座与旋转器相连，旋转器顶端设有电极柱且底部连接有转杆，旋转器可带动球座向精抛滚轴方向实现90°的转折并与在转折后与精抛滚轴呈水平状接触。

作为本发明进一步技术补充，所述环面直切架由刨切块、伸缩杆、拉杆、活塞杆、凸轴、涡轮、电机、滑轨组成，所述刨切块连接伸缩杆并与滑轨相互嵌合，伸缩杆通过拉杆与活塞杆相连，活塞杆设有凸轴，凸轴一端贯穿涡轮，所述涡轮连接电机，刨切块优选为立方氮化硼，其硬度超过金刚石单晶，能够有效去除轴承表面的氧化物颗粒，伸缩杆主要用于延展刨切块的长度以达到调节两个刨切块的距离匹配需要抛光的轴承管径，滑轨主要提供伸缩杆上下位移的通道，涡轮为电机增强其所输出的动力。

有益效果

本发明应用于轴承制造方面的抛光工艺，主要是为了解决轴承抛光在粗抛阶段时无法有效去除其表面由于热处理工艺残留的氧化物颗粒影响轴承成品精度的问题；

本发明通过研发出粗抛去粒机构，在轴承粗抛阶段时采用不同于常规研磨抛光的方式去除氧化物颗粒，由轴承支架固定抛光用的轴承，环面直切架通过刨切的方式对轴承外圈切面进行高速削切，不同于常规研磨方式对同一个位置持续打磨抛光，常规抛光不仅不能磨掉氧化物颗粒，还会损伤颗粒周围的平滑面，刨切能直接将颗粒物从与轴承相连处高速截断，刨切完后通过轴承支架的球座将轴承倾向于精抛滚轴，将表面颗粒去除完毕的轴承放置于两根精抛滚轴中间并通过精抛滚轴的滚动对轴承表面进行二次研磨以达到更为光洁的抛光精度。

附图说明

通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1为本发明一种用于轴承制造的抛光设备的外部结构示意图。

图2为本发明一种用于轴承制造的抛光设备的结构正剖图。

图3为本发明一种用于轴承制造的抛光设备的结构侧剖图。

图4为本发明一种用于轴承制造的抛光设备的粗抛去粒机构结构剖面图。

图5为本发明一种用于轴承制造的抛光设备的粗抛去粒机构的轴承支架结构图。

图6为本发明一种用于轴承制造的抛光设备的粗抛去粒机构的环面直切架结构图。

图7为本发明一种用于轴承制造的抛光设备的粗抛去粒机构运行原理示意图。

图中：抛光罩-1、散热网-2、精抛滚轴-3、基座壳体-4、启动面板-5、防尘盖-6、粗抛去粒机构-7、制动器-8、底脚-40、转子-41、把手-60、轴承支架-70、环面直切架-71、调节环-700、摇杆-701、限位块-702、电极柱-703、球座-704、旋转器-705、转杆-706、刨切块-710、伸缩杆-711、拉杆-712、活塞杆-713、凸轴-714、涡轮-715、电机-716、滑轨-717。

具体实施方式

为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式以及附图说明，进一步阐述本发明的优选实施方案。

实施例

请参阅图1、图3，本发明提供一种用于轴承制造的抛光设备，其结构包括：抛光罩1、散热网2、精抛滚轴3、基座壳体4、启动面板5、防尘盖6、粗抛去粒机构7、制动器8，所述抛光罩1设有散热网2与启动面板5，抛光罩1与基座壳体4相连，所述基座壳体4内腔设有精抛滚轴3与粗抛去粒机构7，防尘盖6嵌合抛光罩1，制动器8贯穿基座壳体4并与其相连，所述防尘盖6设有把手60，需要对轴承进行抛光时，通过防尘盖6的把手60将防尘盖6提起至抛光罩1的顶端然后放入粗抛去粒机构7中，按下启动面板5运转设备并通过制动器8控制设备停机。

请参阅图2，本发明提供一种用于轴承制造的抛光设备，其结构包括：所述基座壳体4设有底脚40与转子41，转子41连接精抛滚轴3，转子41设有两根输出轴并由电机716进行供电带动精抛滚轴3旋转。

请参阅图4，本发明提供一种用于轴承制造的抛光设备，其结构包括：所述粗抛去粒机构7由轴承支架70、环面直切架71组成，所述环面直切架71设有两个并分别位于轴承支架70两侧，轴承支架70与环面直切架71相连，通过环面直切架71对轴承支架70两侧夹持处理轴承表面的碳氧化物颗粒进行削切。

请参阅图5、图7，本发明提供一种用于轴承制造的抛光设备，其结构包括：所述轴承支架70由调节环700、摇杆701、限位块702、电极柱703、球座704、旋转器705、转杆706组成，所述调节环700连接并贯穿于摇杆701，摇杆701上设有限位块702，所述摇杆701尾端连接球座704，球座704与旋转器705相连，旋转器705顶端设有电极柱703且底部连接有转杆706，调节环700分为上下两部分，逆时针拧动上部的调节环700将其拿掉，然后将需要抛光的轴承穿过摇杆701直至与下部的调节环700相接触，限位块702限制调节环700继续下滑，上下两个调节环700调节至轴承两端，摇杆701可上下升降继而带动轴承移动，球座704配合旋转器705可带动摇杆701进行90°的转折，由转杆706带动相连接的部件联动。

请参阅图6、图7，本发明提供一种用于轴承制造的抛光设备，其结构包括：所述环面直切架71由刨切块710、伸缩杆711、拉杆712、活塞杆713、凸轴714、涡轮715、电机716、滑轨717组成，所述刨切块710连接伸缩杆711并与滑轨717相互嵌合，伸缩杆711通过拉杆712与活塞杆713相连，活塞杆713设有凸轴714，凸轴714一端贯穿涡轮715，所述涡轮715连接电机716，在粗抛阶段时由伸缩杆711向内探入直至与轴承表面的氧化物颗粒相抵，电机716通过涡轮715增强动力并带动活塞杆713上下提升，拉杆712与活塞杆713相联动并带动刨切块710在滑轨717上高速推移，在刨切块710上下移动的过程中形成高速的削切力将轴承表面的氧化物颗粒物整个截断。

在需要对轴承进行抛光时，通过防尘盖6的把手60将防尘盖6提起至抛光罩1的顶端，将需要抛光的轴承放入并穿过粗抛去粒机构7的摇杆701直至与下部的调节环700相接触，限位块702限制调节环700继续下滑，上下两个调节环700调节至轴承两端，按下启动面板5运转设备，由电机716通过涡轮715增强动力并带动活塞杆713上下提升，拉杆712与活塞杆713相联动并带动刨切块710在滑轨717上高速推移，在刨切块710上下移动的过程中形成高速的削切力将轴承表面的氧化物颗粒物截断，颗粒物刨切完成后通过球座704配合旋转器705可带动摇杆701进行90°的转折，将轴承水平置于精抛滚轴3上进行二次精抛，去除轴承表面由于粗抛造成的损伤层。

以上显示和描述了本发明的基本原理、主要特征和本发明的优点，本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神或基本特征的前提下，不仅能够以其他的具体形式实现本发明，还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围，因此本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等同物界定，而不是上述说明限定。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (6)

1.一种用于轴承制造的抛光设备，其结构包括：抛光罩(1)、散热网(2)、精抛滚轴(3)、基座壳体(4)、启动面板(5)、防尘盖(6)、粗抛去粒机构(7)、制动器(8)，所述抛光罩(1)设有散热网(2)与启动面板(5)，抛光罩(1)与基座壳体(4)相连，其特征在于：

所述基座壳体(4)内腔设有精抛滚轴(3)与粗抛去粒机构(7)，防尘盖(6)嵌合抛光罩(1)，制动器(8)贯穿基座壳体(4)并与其相连。

2.根据权利要求1所述一种用于轴承制造的抛光设备，其特征在于：所述基座壳体(4)设有底脚(40)与转子(41)，转子(41)连接精抛滚轴(3)。

3.根据权利要求所述1一种用于轴承制造的抛光设备，其特征在于：所述防尘盖(6)设有把手(60)。

4.根据权利要求1所述一种用于轴承制造的抛光设备，其特征在于：所述粗抛去粒机构(7)由轴承支架(70)、环面直切架(71)组成，所述环面直切架(71)设有两个并分别位于轴承支架(70)两侧，轴承支架(70)与环面直切架(71)相连。

5.根据权利要求4所述一种用于轴承制造的抛光设备，其特征在于：所述轴承支架(70)由调节环(700)、摇杆(701)、限位块(702)、电极柱(703)、球座(704)、旋转器(705)、转杆(706)组成，所述调节环(700)连接并贯穿于摇杆(701)，摇杆(701)上设有限位块(702)，所述摇杆(701)尾端连接球座(704)，球座(704)与旋转器(705)相连，旋转器(705)顶端设有电极柱(703)且底部连接有转杆(706)。

6.根据权利要求4所述一种用于轴承制造的抛光设备，其特征在于：所述环面直切架(71)由刨切块(710)、伸缩杆(711)、拉杆(712)、活塞杆(713)、凸轴(714)、涡轮(715)、电机(716)、滑轨(717)组成，所述刨切块(710)连接伸缩杆(711)并与滑轨(717)相互嵌合，伸缩杆(711)通过拉杆(712)与活塞杆(713)相连，活塞杆(713)设有凸轴(714)，凸轴(714)一端贯穿涡轮(715)，所述涡轮(715)连接电机(716)。