CN109761503A - 手机镜片蚀刻液、制备及应用方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种手机镜片蚀刻液,其包括以下重量百分比的原料:2~12%氟化氢盐、35~70%强酸,余量为水;本发明还公开了一种手机镜片蚀刻液的制备方法,其包括以下步骤:重量百分比为13~55%的水、2~12%的氟化氢盐及35~70%的强酸依次加入配液槽中,获得混合液;搅拌混合液至少30分钟以上,获得蚀刻液;本发明还公开了一种手机镜片蚀刻液的应用方法,其包括以下步骤:制备手机镜片蚀刻液,其浓度为1~7mol/L;手机镜片蚀刻液以1~8um/min的速率蚀刻手机镜片。本发明的手机镜片蚀刻液可抑制蚀刻过程中放大激光加工后手机镜片表面产生的凹点和划伤等缺陷,蚀刻直通率高;本发明提供的手机镜片蚀刻液制备及应用方法简单、易操作,易于工业化推广应用。
Description
技术领域
本发明涉及蚀刻液技术领域,具体地,涉及手机镜片蚀刻液、制备及应用方法。
背景技术
激光技术具有速度快、精度高和效率高等优点,近几年逐渐用于手机镜片的加工领域,激光加工后的手机镜片需要进行减薄处理。通常使用的减薄方法有两种,一种是物理方法,即使用抛光粉进行研磨抛光,这种方法减薄时间长,精度不好控制,产品良率低;另一种方法为化学蚀刻法,这种方法减薄时间短,设备投入小,产品良率高,且减薄液的成分简单,成本低,逐渐成为了减薄的主流技术方法。现有技术中的蚀刻液,在蚀刻过程中,会把激光加工过程中手机镜片表面产生的凹点和划伤等缺陷放大,直通率低,后期全部需要再次经过研磨处理手机镜片,才能克服其表面缺陷。
发明内容
针对现有技术的不足本发明提供一种手机镜片蚀刻液、制备及应用方法。
本发明公开的一种手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料2~12%氟化氢盐、35~70%强酸,余量为水。
根据本发明的一实施方式,35~70%强酸包括以下重量百分比的原料:25~65%硫酸、3~6%盐酸、1.5~5%柠檬酸及0~2%硝酸。
根据本发明的一实施方式,手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料:12%氟化氢盐、25%硫酸、5%盐酸、3.5%柠檬酸、2%硝酸,余量为水。
根据本发明的一实施方式,手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料:10%氟化氢盐、35%硫酸、6%盐酸、3.5%柠檬酸、2%硝酸,余量为水。
根据本发明的一实施方式,手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料:8%氟化氢盐、45%硫酸、4%盐酸、5%柠檬酸及2%硝酸,余量为水。
根据本发明的一实施方式,手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料6%氟化氢盐、55%硫酸、5%盐酸、2.5%柠檬酸及2%硝酸,余量为水。
根据本发明的一实施方式,手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料:2%氟化氢盐、65%硫酸、3%盐酸及1.5%柠檬酸,余量为水。
本发明提供的手机镜片蚀刻液的制备方法包括如下步骤:
重量百分比为13~55%的水、2~12%的氟化氢盐及35~70%的强酸依次加入配液槽中,获得混合液;搅拌混合液至少30分钟以上,获得蚀刻液;配液槽的温度保持在30~40℃。
本发明提供的手机镜片蚀刻液的应用方法包括如下步骤:
制备手机镜片蚀刻液,其浓度为1~7mol/L;
手机镜片蚀刻液以1~8um/min的速率蚀刻手机镜片。
与现有技术相比,本发明可以获得包括以下效果:
1)本发明提供的手机镜片蚀刻液采用氟化氢盐、强酸及水作为基本成分,成分简单可抑制蚀刻过程中放大激光加工后手机镜片表面产生的凹点和划伤等缺陷,蚀刻直通率高。
2)本发明提供的手机镜片蚀刻液制备及应用方法简单、易操作,易于工业化推广应用。
具体实施方式
以下将揭露本申请的多个实施方式,为明确说明起见,许多实务上的细节将在以下叙述中一并说明。然而,应了解到,这些实务上的细节不应用以限制本申请。也就是说,在本申请的部分实施方式中,这些实务上的细节是非必要的。
实施例1
本实施例提供的手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料:2~12%氟化氢盐、35~70%强酸,余量为水。优选地,氟化氢盐为氟化氢氨,其质量百分数为98%。
本实施例中35~70%强酸包括以下重量百分比的原料:25~65%硫酸、3~6%盐酸、1.5~5%柠檬酸及0~2%硝酸。优选地,硫酸的质量百分数为30%、盐酸的质量百分数为36.5%、柠檬酸的质量百分数为99.5%及硝酸的质量百分数为65%。
本实施例提供的手机镜片蚀刻液的制备方法,包括以下步骤:
重量百分比为13~55%的水、2~12%的氟化氢盐及35~70%的强酸依次加入配液槽中,获得混合液;搅拌混合液至少30分钟以上,获得蚀刻液;配液槽的温度保持在30~40℃。
本实施例提供的手机镜片蚀刻液的应用方法,包括以下步骤:
制备手机镜片蚀刻液,其浓度为1~7mol/L;
手机镜片蚀刻液以1~8um/min的速率蚀刻手机镜片。
实施例2
本实施例与实施例1的不同之处在于手机镜片蚀刻液还包括十二烷基磺酸钠;本实施例包括以下重量百分比的原料:12%氟化氢铵、25%硫酸、5%盐酸、3.5%柠檬酸、2%硝酸及0.3%十二烷基磺酸钠,余量为水。优选地,十二烷基磺酸钠的质量百分数为97%。
本实施例提供的手机镜片蚀刻液的制备方法包括以下步骤:
重量百分比为52.2%的水、12%的氟化氢钠、2%的硝酸、25%的硫酸、5%的盐酸、3.5%的柠檬酸及0.3%的十二烷基磺酸钠依次加入配液槽中,获得混合液;搅拌混合液至少30分钟以上,获得蚀刻液;配液槽的温度保持在30~40℃。
本实施例提供的手机镜片蚀刻液的应用方法,包括以下步骤:
制备手机镜片蚀刻液,其浓度为1.5mol/L;
手机镜片蚀刻液以8um/min的速率蚀刻手机镜片。
实施例3
本实施例与实施例2的不同之处在于手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料:10%氟化氢铵、35%硫酸、6%盐酸、3.5%柠檬酸、2%硝酸及0.3%十二烷基磺酸钠,余量为水。
本实施例提供的手机镜片蚀刻液的应用方法,包括以下步骤:
制备手机镜片蚀刻液,其浓度为2.5mol/L;
手机镜片蚀刻液以6.5um/min的速率蚀刻手机镜片。
实施例4
本实施例与实施例2的不同之处在于手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料:8%氟化氢铵、45%硫酸、4%盐酸、5%柠檬酸及2%硝酸,余量为水。
本实施例提供的手机镜片蚀刻液的应用方法,包括以下步骤:
制备手机镜片蚀刻液,其浓度为3.5mol/L;
手机镜片蚀刻液以5.5um/min的速率蚀刻手机镜片。
实施例5
本实施例与实施例2的不同之处在于手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料:6%氟化氢铵、55%硫酸、5%盐酸、2.5%柠檬酸及2%硝酸,余量为水。
本实施例提供的手机镜片蚀刻液的应用方法,包括以下步骤:
制备手机镜片蚀刻液,其浓度为4.5mol/L;
手机镜片蚀刻液以4.7um/min的速率蚀刻手机镜片。
实施例6
本实施例与实施例2的不同之处在于手机镜片蚀刻液包括以下重量百分比的原料:2%氟化氢铵、65%硫酸、3%盐酸及1.5%柠檬酸,余量为水。
本实施例提供的手机镜片蚀刻液的应用方法,包括以下步骤:
制备手机镜片蚀刻液,其浓度为5.5mol/L;
手机镜片蚀刻液以1um/min的速率蚀刻手机镜片。
各实施例2-6蚀刻液对应的评价结果如表1所示,其中,表内各名词解释如下:蚀刻直通率是指一次蚀刻后的良率;返修通过率是指研磨处理表面缺陷后的良率。
表1
综上所述,本申请手机镜片蚀刻液组分简单,可抑制蚀刻过程中放大激光加工后手机镜片表面产生的凹点和划伤等缺陷,蚀刻直通率高达70%以上,后期需要研磨返修的比较少,且蚀刻清洗后手机镜片的外表美观,不存在污迹和水迹;且本申请的手机镜片蚀刻液的制备及应用方法简单、易操作,易于工业化推广应用。
以上所述仅为本发明的实施方式而已,并不用于限制本发明。对于本领域技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原理内作的任何修改、等同替换、改进等,均应包括在本发明的权利要求范围内。
Claims (9)
1.手机镜片蚀刻液,其特征在于,包括以下重量百分比的原料:2~12%氟化氢盐、35~70%强酸,余量为水。
2.根据权利要求1所述的手机镜片蚀刻液,其特征在于,所述35~70%强酸包括以下重量百分比的原料:25~65%硫酸、3~6%盐酸、1.5~5%柠檬酸及0~2%硝酸。
3.根据权利要求2所述的手机镜片蚀刻液,其特征在于,包括以下重量百分比的原料:12%氟化氢盐、25%硫酸、5%盐酸、3.5%柠檬酸、2%硝酸,余量为水。
4.根据权利要求2所述的手机镜片蚀刻液,其特征在于,包括以下重量百分比的原料:10%氟化氢盐、35%硫酸、6%盐酸、3.5%柠檬酸、2%硝酸,余量为水。
5.根据权利要求2所述的手机镜片蚀刻液,其特征在于,包括以下重量百分比的原料:8%氟化氢盐、45%硫酸、4%盐酸、5%柠檬酸及2%硝酸,余量为水。
6.根据权利要求2所述的手机镜片蚀刻液,其特征在于,包括以下重量百分比的原料:6%氟化氢盐、55%硫酸、5%盐酸、2.5%柠檬酸及2%硝酸,余量为水。
7.根据权利要求2所述的手机镜片蚀刻液,其特征在于,包括以下重量百分比的原料:2%氟化氢盐、65%硫酸、3%盐酸及1.5%柠檬酸,余量为水。
8.一种手机镜片蚀刻液的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
重量百分比为13~55%的水、2~12%的氟化氢盐及35~70%的强酸依次加入配液槽中,获得混合液;搅拌所述混合液至少30分钟以上,获得蚀刻液;所述配液槽的温度保持在30~40℃。
9.一种手机镜片蚀刻液的应用方法,其特征在于,包括以下步骤:
制备手机镜片蚀刻液,其浓度为1~7mol/L;
所述手机镜片蚀刻液以1~8um/min的速率蚀刻手机镜片。
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