CN109721887A - 高分子纳米复合材料的制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种高分子纳米复合材料的制备方法，包括：(1)溶解聚氯乙烯；(2)溶解聚乙烯；(3)溶解聚氯乙烯‑聚乙烯嵌段共聚物；(4)向溶液中加入表面活性剂；(5)向溶液中加入光增透材料；(6)向溶液中加入增强材料；(7)将溶液进行超声波混合；(8)将溶液进行旋蒸；本发明提供的新型高分子纳米复合材料可以明显降低指纹脊的反射率，从而指纹谷和脊反射率之比增加，使得超声波指纹识别的效果得到明显提升。

Description

高分子纳米复合材料的制备方法
技术领域
本发明涉及指纹识别材料的制备领域，尤其涉及一种提高指纹识别的高分子纳米复合材料的制备方法。
背景技术
目前，超声波指纹识别技术由于不受水和油污干扰，具有更强的环境适应能力，可以用于更加复杂的环境。从而逐渐得到广泛的重视，被越来越多地被用于各个领域，如提升手机、电脑、平板和门禁系统等电子产品的安全性，相比于传统的数字密码，由于指纹解锁的快速性，给人们的生活带来很多的便利。
但是目前所采用超声波指纹识别技术并不是很成熟，超声波指纹识别模组的识别效果并不理想，比如手指的谷和脊的信号对比度并不高，还有信噪比不高，造成了后期信号处理困难，难以精确地识别出手机的纹路。这是由于当超声波在保护玻璃与手机之间的节目发生反射，指纹谷和脊的反射率很接近，给指纹识别造成了很大的困难。
因此，寻找一种材料替代传统的保护玻璃来提高指纹谷和脊反射率之比和超声波指纹识别的效果对于科学研究和工程应用都显得尤为重要。
发明内容
本发明提出一种指纹识别保护层材料的制备方法，通过合成一种新型的高分子纳米复合材料用来替换传统的保护层材料(如玻璃，蓝宝石，金属或金属合金等)，来提高指纹谷和脊反射率之比和超声波指纹识别的效果，进而提高指纹识别的识别速率。
为解决目前超声波指纹识别模组的识别效果不理想的问题，本发明提供的技术方案如下：
一种高分子纳米复合材料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一、将分子量为50000～110000的聚氯乙烯在室温下溶解在四氢呋喃溶液中；
步骤二、将分子量为50000～500000的聚乙烯在60℃～120℃下溶解在苯溶液中；
步骤三、将分子量为10000～100000的聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物在20℃～100℃的温度下溶解在另一四氢呋喃溶液中；
步骤四、将所述步骤一、所述步骤二、所述步骤三中取得的多种溶液混合到一起，加入表面活性剂；
步骤五、向所述步骤四所获得的溶液中加入光增透材料；
步骤六、向所述步骤五所获得的溶液中加入增强材料；
步骤七、将所述步骤六所获得的溶液进行超声处理1～3小时，温度为60℃～100℃；
步骤八、将所述步骤七所获得的溶液进行旋蒸，所述旋蒸的温度为80℃～120℃，以形成高分子纳米复合材料。
根据本发明实施例所提供的高分子纳米复合材料的制备方法，所述步骤一中的聚氯乙烯的质量分数为5％～90％，聚氯乙烯和四氢呋喃的质量比为1:3～1:10。
根据本发明实施例所提供的高分子纳米复合材料的制备方法，所述步骤二中的所述聚乙烯的质量分数为5％～90％，所述聚乙烯和苯的质量比为1:3～1:10。
根据本发明实施例所提供的高分子纳米复合材料的制备方法，所述步骤三中的所述聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物的质量分数为5％～90％，所述聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物和所述另一四氢呋喃的质量比为1:3～1:10。
根据本发明实施例所提供的高分子纳米复合材料的制备方法，所述步骤四中的所述表面活性剂为硬脂酸或十二烷基苯磺酸钠。
根据本发明实施例所提供的高分子纳米复合材料的制备方法，所述步骤五中的所述光增透材料为氟化镁、氧化钛、硫化铅和硒化铅中的一种，所述光增透材料的质量分数为1％～5％。
根据本发明实施例所提供的高分子纳米复合材料的制备方法，所述步骤六中的所述增强材料为富勒烯、碳纳米管、蒙脱土或其它纳米粒子，所述增强材料的质量分数为1％～5％。
根据本发明实施例所提供的高分子纳米复合材料的制备方法，在所述步骤一中的所述聚氯乙烯和步骤二中的所述聚乙烯均替换成聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、橡胶和尼龙中的至少一种。
本发明还提供了一种高分子纳米复合材料的制备方法，包括以下步骤：
步骤一、分别将分子量为50000～110000，质量分数为5％～90％的聚氯乙烯材料、分子量为50000～500000，质量分数为5％～90％的聚乙烯材料、以及分子量为10000～100000的聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物材料混合到一起形成混合材料，加热至100～120℃，使得所述混合材料在高温下发生熔融；
步骤二、在所述混合材料中加入光增透材料，所述光增透材料的质量分数为1％～5％；
步骤三、在所述混合材料中加入增强材料，所述增强材料的质量分数为1％～5％，所述混合材料、所述光增透材料和所述增强材料构成复合材料；
步骤四、将所述复合材料加入到双螺杆挤出机进行共混挤出，使得所述复合材料均匀混合，温度为100～130℃，时间为5～60分钟，然后出料；
步骤五、于所述步骤四后，使所述复合材料冷却至-10～10℃，时间为10秒～2分钟，以形成高分子纳米复合材料。
根据本发明实施例所提供的高分子纳米复合材料的制备方法，在所述步骤一中的所述聚氯乙烯材料和步骤二中的所述聚乙烯材料均替换成聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、橡胶和尼龙中的至少一种。
本发明的有益效果为：本发明将聚乙烯，聚氨酯，聚苯乙烯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚碳酸酯、橡胶和尼龙等材料中的两种或几种的高分子采用溶剂混合或者双螺杆挤出机共混得到声阻抗和指纹脊相匹配的复合材料，所以可以明显降低指纹脊的反射率，从而指纹谷和脊反射率之比增加，超声波指纹识别的效果得到明显提升。并且通过骤冷和加入添加剂等措施来抑制高分子材料的结晶，可以降低材料的结晶度，最终透光率和力学性能得到提升。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为超声波指纹识别模组的结构示意图。
图2为本发明提供的高分子纳米复合材料的制备方法实施例一的流程示意图。
图3为本发明提供的高分子纳米复合材料的制备方法实施例二的流程示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有技术的超声波指纹识别模组中，对手指的谷和脊的信号对比度并不高，还有信噪比不高，造成了后期信号处理困难，难以精确地识别出手指的纹路。而本实施例提供了一种新型的高分子纳米复合材料用来替换传统的指纹模组的保护层材料，来提高指纹谷和脊反射率之比和超声波指纹识别的效果。
如图1所示为超声波指纹识别模组100的结构示意图。
在超声波指纹识别模组100的最底层是一层薄膜晶体管基板110，在所述薄膜晶体管基板110上是一层显示层120，显示层120之上涂覆有一层粘合剂130，触控层140通过粘合剂130粘合在显示层120之上，触控层140之上还设置有一层压电薄膜层150，最后在压电薄膜层150上设置有一层高分子保护层160。
本实施例提出一种保护层材料的制备方法，通过合成一种新型的高分子纳米复合材料用来替换传统的保护层材料(如玻璃，蓝宝石，金属或金属合金等)，来提高指纹谷和脊反射率之比和超声波指纹识别的效果。
实施例一：
本实施例一提出一种新型的高分子纳米复合材料的制备方法，所述制备方法所需要的材料包括：聚甲基丙烯酸甲酯，聚氯乙烯，聚乙烯，聚氨酯，聚苯乙烯，聚碳酸酯，橡胶和尼龙等材料中的两种或几种，溶剂、表面活性剂、光增透材料和增强材料等。
如图2所示为本实施例一以聚氯乙烯材料和聚乙烯材料为例来阐述制备方法200：
步骤一210、将分子量为50000～110000的聚氯乙烯在室温下溶解在四氢呋喃溶液中，其中所述聚氯乙烯的质量分数为5％～90％，所述聚氯乙烯和所述四氢呋喃的质量之比为1:3～1:10，其中溶剂的加入量影响溶解的速度和蒸发时间；
步骤二220、将分子量为50000～500000的聚乙烯在60℃～120℃的温度下溶解在苯溶液中，所述聚乙烯的质量分数为5％～90％，所述聚乙烯和所述苯的质量比为1:3～1:10，其中溶剂加入量影响溶解速度和蒸发时间；
步骤三230、将分子量为10000～100000的聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物在20℃～100℃的温度下溶解在另一四氢呋喃溶液中，所述聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物的质量分数为5％～90％，所述聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物和所述另一四氢呋喃的质量比为1:3～1:10，其中溶剂加入量影响溶解速度和蒸发时间；
步骤四240、将上述三个步骤中的多种溶液混合到一起，加入表面活性剂，来降低体系的表面张力，增大混合物的溶解性，其中的所述表面活性剂为硬脂酸，十二烷基苯磺酸钠等；
步骤五250、向步骤四中的溶液加入氟化镁、氧化钛、硫化铅、硒化铅中的一种光增透材料，来提升复合材料透光率，所述光增透材料的质量分数为1％～5％；
步骤六260、向步骤五中的溶液加入富勒烯、碳纳米管、蒙脱土或其它纳米粒子来提高材料的力学性能的增强材料，所述增强材料的质量分数为为1％～5％；
步骤七270、将步骤六中的溶液在温度为60℃～100℃下，进行超声波处理1～3小时，使溶液中的各个组分都分散均匀，防止分子聚集(分子之间发生聚集会明显降低材料的性能)；
步骤八280、将步骤七中获得的溶液在温度为80℃～120℃下进行旋蒸，使溶液快速蒸发，抑制材料结晶，最终待溶剂蒸发完毕，以形成高分子纳米高分子纳米复合材料。
实施例二：
本实施例二提出一种新型的高分子纳米复合材料的制备方法，所述制备方法所需要的材料包括：聚甲基丙烯酸甲酯，聚氯乙烯，聚乙烯，聚氨酯，聚苯乙烯，聚碳酸酯，橡胶和尼龙等材料中的两种或几种，光增透材料和增强材料等。
如图3所示为本实施例二以聚氯乙烯材料和聚乙烯材料为例来阐述制备方法300：
步骤一310、分别将分子量为50000～110000，质量分数为5％～90％的聚氯乙烯材料、分子量为50000～500000，质量分数为5％～90％的聚乙烯材料、以及分子量为10000～100000的聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物材料混合到一起形成混合材料，加热至100～120℃，使得所述混合材料在高温下发生熔融；
步骤二320、加入氟化镁、氧化钛、硫化铅、硒化铅中的一种光增透材料，来提升复合材料透光率，所述光增透材料的质量分数为1％～5％；
步骤三330、加入富勒烯、碳纳米管、蒙脱土或其它纳米粒子来提高材料的力学性能的增强材料，所述增强材料的质量分数为1％～5％，所述混合材料、所述光增透材料和所述增强材料构成复合材料；
步骤四340、将所述复合材料加入到双螺杆挤出机进行共混挤出，使得所述复合材料均匀混合，温度为100～130℃，时间为5～60分钟，然后出料；
步骤五350、于所述步骤四后，使所述复合材料冷却至-10～10℃，时间为10s～2min，以形成高分子纳米复合材料。
本发明实施例将聚乙烯，聚氨酯，聚苯乙烯，聚甲基丙烯酸甲酯，聚碳酸酯、橡胶和尼龙等材料中的两种或几种的高分子采用溶剂混合或者双螺杆挤出机共混得到声阻抗和指纹脊相匹配的高分子纳米复合材料，所以可以明显降低指纹脊的反射率，从而指纹谷和脊反射率之比增加，超声波指纹识别的效果得到明显提升。并且通过骤冷和加入添加剂等措施来抑制高分子材料的结晶，可以降低材料的结晶度，最终透光率和力学性能得到提升。
本发明实施例提供了一种新型的高分子纳米复合材料的制备方法，而且该方法可以根据产品的需要，来调整材料的配方以及性能。使用本发明提供的高分子纳米复合材料制程的超声波指纹识别模组可以提升指纹谷和脊的反射率之比，来提升指纹识别效果，并且还提升了保护层材料的力学性能，延长使用寿命。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种高分子纳米复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、将分子量为50000～110000的聚氯乙烯在室温下溶解在四氢呋喃溶液中；
步骤二、将分子量为50000～500000的聚乙烯在60℃～120℃下溶解在苯溶液中；
步骤三、将分子量为10000～100000的聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物在20℃～100℃的温度下溶解在另一四氢呋喃溶液中；
步骤四、将所述步骤一、所述步骤二、所述步骤三中取得的多种溶液混合到一起，加入表面活性剂；
步骤五、向所述步骤四所获得的溶液中加入光增透材料；
步骤六、向所述步骤五所获得的溶液中加入增强材料；
步骤七、将所述步骤六所获得的溶液进行超声处理1～3小时，温度为60℃～100℃；
步骤八、将所述步骤七所获得的溶液进行旋蒸，所述旋蒸的温度为80℃～120℃，以形成高分子纳米复合材料。
2.根据权利要求1所述的高分子纳米复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤一中的聚氯乙烯的质量分数为5％～90％，聚氯乙烯和四氢呋喃的质量比为1:3～1:10。
3.根据权利要求1所述的高分子纳米复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤二中的所述聚乙烯的质量分数为5％～90％，所述聚乙烯和苯的质量比为1:3～1:10。
4.根据权利要求1所述的高分子纳米复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤三中的所述聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物的质量分数为5％～90％，所述聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物和所述另一四氢呋喃的质量比为1:3～1:10。
5.根据权利要求1所述的高分子纳米复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤四中的所述表面活性剂为硬脂酸或十二烷基苯磺酸钠。
6.根据权利要求1所述的高分子纳米复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤五中的所述光增透材料为氟化镁、氧化钛、硫化铅和硒化铅中的一种，所述光增透材料的质量分数为1％～5％。
7.根据权利要求1所述的高分子纳米复合材料的制备方法，其特征在于，所述步骤六中的所述增强材料为富勒烯、碳纳米管、蒙脱土或其它纳米粒子，所述增强材料的质量分数为1％～5％。
8.根据权利要求1所述的高分子纳米复合材料的制备方法，其特征在于，在所述步骤一中的所述聚氯乙烯和步骤二中的所述聚乙烯均替换成聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、橡胶和尼龙中的至少一种。
9.一种高分子纳米复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、分别将分子量为50000～110000，质量分数为5％～90％的聚氯乙烯材料、分子量为50000～500000，质量分数为5％～90％的聚乙烯材料、以及分子量为10000～100000的聚氯乙烯-聚乙烯嵌段共聚物材料混合到一起形成混合材料，加热至100～120℃，使得所述混合材料在高温下发生熔融；
步骤二、在所述混合材料中加入光增透材料，所述光增透材料的质量分数为1％～5％；
步骤三、在所述混合材料中加入增强材料，所述增强材料的质量分数为1％～5％，所述混合材料、所述光增透材料和所述增强材料构成复合材料；
步骤四、将所述复合材料加入到双螺杆挤出机进行共混挤出，使得所述复合材料均匀混合，温度为100～130℃，时间为5～60分钟，然后出料；
步骤五、于所述步骤四后，使所述复合材料冷却至-10～10℃，时间为10秒～2分钟，以形成高分子纳米复合材料。
10.根据权利要求9所述的高分子纳米复合材料的制备方法，其特征在于，在所述步骤一中的所述聚氯乙烯材料和步骤二中的所述聚乙烯材料均替换成聚甲基丙烯酸甲酯、聚氨酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、橡胶和尼龙中的至少一种。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110862629A (zh) * 2019-12-02 2020-03-06 江苏龙汇纳米科技有限公司 一种新型耐高温、抗阻燃的高分子纳米复合材料制备方法

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109815838A (zh) * 2018-12-29 2019-05-28 武汉华星光电技术有限公司 高分子复合材料的制备方法及指纹识别的显示面板

Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050196552A1 (en) * 2003-11-18 2005-09-08 Lehmann Maria J. Anti-reflective optical film for display devices
CN1919920A (zh) * 2006-09-05 2007-02-28 武汉理工大学 一类类流体无机纳米粒子与聚合物的复合材料及制备
KR20080017969A (ko) * 2006-08-23 2008-02-27 주식회사 엘지화학 인쇄를 이용한 표면층 및 무기질 보드를 포함하는 건식바닥재
CN101654524A (zh) * 2008-03-10 2010-02-24 财团法人工业技术研究院 驻极体材料、驻极体扬声器及其制造方法
KR20100075224A (ko) * 2008-12-24 2010-07-02 경북대학교 산학협력단 지문 검출 또는 인식용 고분자 필름, 및 이를 이용한 지문검출 또는 인식방법
CN101861352A (zh) * 2007-09-14 2010-10-13 拉夫伯勒大学 方法
CN103124770A (zh) * 2010-09-28 2013-05-29 阿克马法国公司 基于包含聚醚嵌段和聚酰胺嵌段的共聚物的组合物和其用于制造具有抗高速冲击性的透明制品的用途
CN103304935A (zh) * 2013-07-11 2013-09-18 常熟市慧丰塑料制品有限公司 一种聚氯乙烯和聚乙烯复合改性塑料
CN104553113A (zh) * 2014-12-11 2015-04-29 业成光电（深圳）有限公司 声波式指纹识别组件及其制造方法
CN104779223A (zh) * 2015-04-10 2015-07-15 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 具有单边沟槽的指纹识别芯片封装结构与制作方法
CN106565981A (zh) * 2015-10-12 2017-04-19 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 抗静电膜及其制备方法
CN107245199A (zh) * 2017-05-23 2017-10-13 江阴华东装饰材料有限公司 仿幕墙彩色玻璃pvc硬质片材的制备方法
CN107977602A (zh) * 2017-10-10 2018-05-01 成都安瑞芯科技有限公司 超声波指纹识别模块、模组、器件及电子设备
CN108373847A (zh) * 2016-10-19 2018-08-07 上海和辉光电有限公司 一种柔性触摸屏基材及其制备方法

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050196552A1 (en) * 2003-11-18 2005-09-08 Lehmann Maria J. Anti-reflective optical film for display devices
KR20080017969A (ko) * 2006-08-23 2008-02-27 주식회사 엘지화학 인쇄를 이용한 표면층 및 무기질 보드를 포함하는 건식바닥재
CN1919920A (zh) * 2006-09-05 2007-02-28 武汉理工大学 一类类流体无机纳米粒子与聚合物的复合材料及制备
CN101861352A (zh) * 2007-09-14 2010-10-13 拉夫伯勒大学 方法
CN101654524A (zh) * 2008-03-10 2010-02-24 财团法人工业技术研究院 驻极体材料、驻极体扬声器及其制造方法
KR20100075224A (ko) * 2008-12-24 2010-07-02 경북대학교 산학협력단 지문 검출 또는 인식용 고분자 필름, 및 이를 이용한 지문검출 또는 인식방법
CN103124770A (zh) * 2010-09-28 2013-05-29 阿克马法国公司 基于包含聚醚嵌段和聚酰胺嵌段的共聚物的组合物和其用于制造具有抗高速冲击性的透明制品的用途
CN103304935A (zh) * 2013-07-11 2013-09-18 常熟市慧丰塑料制品有限公司 一种聚氯乙烯和聚乙烯复合改性塑料
CN104553113A (zh) * 2014-12-11 2015-04-29 业成光电（深圳）有限公司 声波式指纹识别组件及其制造方法
CN104779223A (zh) * 2015-04-10 2015-07-15 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司 具有单边沟槽的指纹识别芯片封装结构与制作方法
CN106565981A (zh) * 2015-10-12 2017-04-19 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 抗静电膜及其制备方法
CN108373847A (zh) * 2016-10-19 2018-08-07 上海和辉光电有限公司 一种柔性触摸屏基材及其制备方法
CN107245199A (zh) * 2017-05-23 2017-10-13 江阴华东装饰材料有限公司 仿幕墙彩色玻璃pvc硬质片材的制备方法
CN107977602A (zh) * 2017-10-10 2018-05-01 成都安瑞芯科技有限公司 超声波指纹识别模块、模组、器件及电子设备

Non-Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
C. THONGPIN，等: "Degradation Mechanism and Mechanical Properties of PVC in PVC-PE Melt Blends: Effects of Molecular Architecture, Content, and MFI of PE", 《JOURNAL OF VINYL & ADDITIVE TECHNOLOGY》 *
QIU GUANMING，等: "Study on Preparation and Properties of PVC Film Modified by Rare Earth", 《JOURNAL OF RARE EARTHS》 *
宋谋道，等: "PVC/PE交联共混体系的动态力学研究", 《高等学校化学学报》 *
王久芬，等: "《高聚物合成工艺》", 31 January 2013, 国防工业出版社 *
王国全，等: "《聚合物改性》", 31 May 2016, 中国轻工业出版社 *
许承威，等: "PVC/PE共混体系相态形貌分析新方法", 《中国塑料》 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110862629A (zh) * 2019-12-02 2020-03-06 江苏龙汇纳米科技有限公司 一种新型耐高温、抗阻燃的高分子纳米复合材料制备方法

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