CN109564867A - 纳米突起表面形成方法及具有通过该方法形成的纳米突起表面的母材 - Google Patents

纳米突起表面形成方法及具有通过该方法形成的纳米突起表面的母材 Download PDF

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Abstract

本发明涉及纳米突起形成方法及具有通过该方法形成的纳米突起表面的母材，其特征在于，在不使用纳米掩模(mask)的情况下，通过使用酸溶液的湿式蚀刻工序来形成包括具有数nm～数十nm的宽度的纳米突起的抗反射层和/或包括数十nm～数μm的宽度的突起的防眩光层。

Description

纳米突起表面形成方法及具有通过该方法形成的纳米突起表 面的母材
技术领域
本发明涉及在母材(玻璃或具有玻璃特性的聚合物薄膜基板)上形成纳米突起的方法，并且涉及不使用作为选择性抗蚀刻单元的掩模(mask)而通过湿式蚀刻工序在母材表面上形成具有数nm～数十nm或数十nm～数μm的宽度的突起非掩模湿法纳米图案化方法及具有通过该方法形成的纳米突起表面的母材。
背景技术
在半导体工序中，蚀刻工序可区分为湿式蚀刻和干式蚀刻。通常，湿式蚀刻通过具有腐蚀溶解性质的蚀刻溶液与作为待蚀刻对象的母材之间的化学反应来实现。湿式蚀刻为垂直方向、水平方向的蚀刻速度相同的各向同性蚀刻。干式蚀刻为利用气体等离子体或通过活化气体的反应的蚀刻工序。干式蚀刻为垂直方向及水平方向的蚀刻速度不同的各向异性蚀刻。
在现有的表面处理中，为了形成具有数nm～数十nm的宽度的图案，需使用上述的干式蚀刻。然而，与湿式蚀刻相比，干式蚀刻的成本高，工序管理困难，而且大量生产也不容易。并且，由于工序特性，干式蚀刻难以适用于曲面玻璃及大面积玻璃。
与干式蚀刻相比，现有的湿式蚀刻的工序管理容易，更有利于大量生产，但通过湿式蚀刻形成的图案具有平均3μm以上的宽度。
近年来，在包括如智能手机等的移动设备在内的各种显示器领域中，光学玻璃及光学薄膜的抗反射处理的重要性渐增，用于体现抗反射的纳米图案化技术备受瞩目，但需要技术要求高的高成本的纳米掩模，并且因曲面或大面积处理困难而无法被实用化。
作为用于解决这些多个问题的方法，要求无需掩模并可通过非干式蚀刻的湿式蚀刻工序来实现具有数nm～数μm的宽度的图案的技术。
发明内容
技术问题
所提出的发明所要解决的一技术问题在于，通过湿式蚀刻工序来形成具有数nm～数十nm或数十nm～数μm的宽度的纳米突起。
所提出的发明所要解决的再一技术问题在于，通过湿式蚀刻工序来生产防眩光的玻璃或具有玻璃特性的聚合物薄膜。
所提出的发明所要解决的另一技术问题在于，通过湿式蚀刻工序来生产抗反射的玻璃或具有玻璃特性的聚合物薄膜。
所提出的发明所要解决的又一技术问题在于，通过湿式蚀刻工序来生产同时具有防眩光及抗反射的玻璃或具有玻璃特性的聚合物薄膜。
解决问题的手段
根据本发明的突起形成方法包括通过湿式蚀刻来在玻璃或具有玻璃特性的聚合物薄膜基板上形成突起的步骤。
在一方案中，上述形成突起的步骤包括通过利用酸溶液的湿式蚀刻来形成包括数十nm～数μm的宽度的突起的防眩光层的步骤。
在这种情况下，本发明的特征在于，上述酸溶液包含氟类的酸及硝酸。
并且，本发明的特征在于，上述酸溶液包含氟化氢及硝酸，还包含氟化铵、磷酸以及盐酸中至少一种。
本发明的特征在于，上述酸溶液中的氟化氢的含量为10重量百分比以下。
本发明的特征在于，上述酸溶液中的硝酸的含量为其含量为10重量百分比以上且25重量百分比以下。
本发明的特征在于，当上述酸溶液中包含氟化铵时，其含量为5重量百分比以下。
本发明的特征在于，当上述酸溶液中包含磷酸时，其含量为5重量百分比以下。
本发明的特征在于，当上述酸溶液中包含盐酸时，其含量为10重量百分比以下。
本发明的特征在于，上述酸溶液包含氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸、盐酸以及水，相对于100重量百分比的上述酸溶液的各成分的含量如下：上述氟化氢为10重量百分比以下，上述氟化铵为5重量百分比以下，上述硝酸为10重量百分比以上至25重量百分比以下，上述磷酸为5重量百分比以下，上述盐酸为10重量百分比以下，其余为上述水。
在再一方案中，上述形成突起的步骤包括通过利用酸溶液的湿式蚀刻来形成包括数nm～数十nm宽度的突起的抗反射层的步骤。
在这种情况下，本发明的特征在于，上述酸溶液包含氟类的酸。
本发明的特征在于，上述酸溶液包含氟化氢，还包含氟化铵、磷酸、硝酸及盐酸中至少一种。
本发明的特征在于，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述氟化氢的含量为大于0重量百分比且10重量百分比以下。
本发明的特征在于，当上述酸溶液中包含氟化铵时，其含量为5重量百分比以下。
本发明的特征在于，当上述酸溶液中包含硝酸时，其含量为5重量百分比以下。
本发明的特征在于，当上述酸溶液中包含磷酸时，其含量为5重量百分比以下。
本发明的特征在于，当上述酸溶液中包含盐酸时，其含量为10重量百分比以上且40重量百分比以下。
本发明的特征在于，上述酸溶液包含氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸、盐酸以及水，相对于100重量百分比的上述酸溶液的各成分的含量如下：上述氟化氢为10重量百分比以下，上述氟化铵为5重量百分比以下，上述硝酸为5重量百分比以下，上述磷酸为5重量百分比以下，上述盐酸为10重量百分比以上至40重量百分比以下，其余为上述水。
在另一方案中，上述形成突起的步骤包括：通过利用酸溶液的第一次湿式蚀刻来形成包括数十nm～数μm的宽度的突起的防眩光层的步骤；以及通过利用酸溶液的第二次湿式蚀刻来在上述防眩光层上形成包括具有数nm～数十nm的宽度的突起的抗反射层的步骤。
另一方面，本发明的特征在于，具有通过上述方法形成的本发明的纳米突起表面的母材，在表面形成有多个突起，多个上述突起通过湿式蚀刻形成，上述湿式蚀刻在蚀刻之前不进行包括掩模在内的选择性抗蚀刻单元的形成工序的情况下完成，由于不形成上述包括掩模在内的选择性抗蚀刻单元，在突起之间的位置及突起的尺寸或形状方面上，形成多个上述突起的状态不具有任何规律性。
发明的效果
所提出的发明可通过湿式蚀刻工序来形成具有数nm～数十nm或数十nm～数μm的宽度的纳米突起。
所提出的发明可通过湿式蚀刻工序来生产防眩光的玻璃或具有玻璃特性的聚合物薄膜。
所提出的发明可通过湿式蚀刻工序来生产抗反射的玻璃或具有玻璃特性的聚合物薄膜。
所提出的发明可通过湿式蚀刻工序来生产可同时具有防眩光及抗反射的玻璃或具有玻璃特性的聚合物薄膜。
附图说明
图1为示出根据一实施例的突起形成方法的总体流程。
图2为示出根据一实施例的形成有防眩光层的玻璃基板的剖视图。
图3为根据一实施例的形成有防眩光层的玻璃基板的扫描电子显微镜照片，图4为图3的放大的扫描电子显微镜照片。
图5为示出根据一实施例的形成有抗反射层的玻璃基板的剖视图。
图6为根据一实施例的形成有抗反射层的玻璃基板的扫描电子显微镜照片，图7为图6的放大的扫描电子显微镜照片。
图8为示出根据一实施例的同时形成有防眩光层及抗反射层的玻璃基板的剖视图。
图9为根据一实施例的同时形成有防眩光层及抗反射层的玻璃基板的扫描电子显微镜照片。
图10为示出通过不属于本发明的现有的方法来在形成于玻璃基板中的数μm～数百μm尺寸的突起和槽中额外地形成有抗反射层的玻璃基板的剖视图。
图11为在数μm～数百μm尺寸的防眩光突起上额外地形成有数nm～数十nm尺寸的抗反射突起的玻璃基板的扫描电子显微镜照片。
图12为包括通过本发明的突起形成方法来形成有抗反射层的玻璃或聚合物薄膜的智能手机的照片。
具体实施方式
前述的以及附加的多个方案通过参照附图来说明的多个实施例来实现具体化。应当理解，只要不存在其他提及或相互矛盾，各个实施例的机构要素在实施例可具有多种组合。进而，所提出的发明能够以多种不同形式来实现，并不限定于这里所描述的实施例。
为了在附图中清楚地说明所提出的发明，省略了与说明无关的部分，在说明书全文中相同的部分标注了相同的附图标记。并且，当一个部分“包括”一个结构要素时，除非另有相反的描述，否则并不意味着排除其他结构要素，而是意味着还可包括其他结构要素。例如，在以下叙述中，虽然以玻璃基板作为对象，但如前文中所述，包括具有玻璃特性的聚合物薄膜。
图1为示出根据本发明一实施例的突起形成方法的总体流程。
在一实施例中，突起形成方法包括清洗玻璃基板的步骤(S610)、通过湿式蚀刻在玻璃基板上形成突起的步骤(S620)以及中和玻璃基板的步骤(S630)。
在一实施例中，在清洗玻璃基板的步骤(S610)中，去除存在于玻璃基板中的有机物，使得在作为后续工序的通过湿式蚀刻在玻璃基板上形成突起的步骤(S620)中可在基板整体上均匀地完成利用酸溶液的酸处理。玻璃基板的清洗中使用高纯度异丙醇(IPA，Isopropyl Alcohol)或乙醇。在使用高纯度异丙醇(IPA，Isopropyl Alcohol)或乙醇来清洗玻璃基板之后，用水清洗。作为清洗方法，可利用超声波或者利用刷子来清洗玻璃基板。
根据一实施例的通过湿式蚀刻在玻璃基板上形成突起的步骤(S620)通过将玻璃基板浸入酸溶液中的浸渍(dipping)方法或将酸溶液喷到玻璃基板上的喷射(spray)方法等来进行。在形成突起的步骤(S620)中，以无掩模的方式，通过利用酸溶液的湿式蚀刻来在玻璃或具有玻璃特性的聚合物薄膜基板上形成纳米突起。对于通过湿式蚀刻在玻璃基板上形成突起的步骤(S620)在下文中详细说明。
在一实施例中，在中和玻璃基板的步骤(S630)中，经过通过湿式蚀刻在玻璃基板上形成突起的步骤(S620)之后，将ph降低的玻璃基板表面的ph保持为中性。例如，在盛有水的水槽中浸渍经过通过湿式蚀刻在玻璃基板上形成突起的步骤(S620)的ph降低的玻璃基板，来中和酸。
图2为示出根据一实施例的形成有防眩光层的玻璃基板的剖视图。
在一实施例中，上述形成突起的步骤包括通过利用酸溶液的湿式蚀刻来形成包括数十nm～数μm的宽度(w1)的突起的防眩光层的步骤。如图2所示，突起包括凹面及凸面。前文中所述的宽度(W1)为凸面的宽度。通过利用酸溶液的湿式蚀刻，数十nm～数μm的宽度(w1)的突起具有数十nm～数μm的高度(h1)。当玻璃基板表面上具有数十nm～数μm的宽度(w1)的突起时，照射到玻璃基板的光因数十nm～数μm的宽度(w1)的多个突起而被散射，由此，玻璃基板的反射率降低，因此眩光情况减少。
在一实施例中，上述酸溶液包含氟类的酸及硝酸。氟类的酸包含例如，氟化氢(HF)、氟化铵(NH4F)等。可通过利用包含氟类的酸及硝酸的酸溶液的湿式蚀刻，在玻璃基板上形成数十nm～数μm的宽度的突起。
在一实施例中，其特征在于，上述酸溶液包含氟化氢(HF)及硝酸(HNO3)，还包含氟化铵(NH4F)、磷酸(H3PO4)、盐酸(HCl)以及水(H2O)中的至少一种。
在一实施例中，其特征在于，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述氟化氢的含量为大于0重量百分比且10重量百分比以下。
以下多个化学反应式为从理论角度上来对由本发明所获得的形成纳米突起的步骤的示例进行类推，假使其化学反应步骤有一部分不同，也在形成纳米突起的结果及由此所获得的效果方面上不存在任何不同之处。
化学式1
SiO2+6HF→H2SiF6+2H2O
如化学式1所示，二氧化硅与氟化氢反应，使得在玻璃基板的表面上产生蚀刻，其结果，玻璃基板上形成具有数nm～数十nm的宽度的突起。
在一实施例中，其特征在于，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述硝酸的含量为10重量百分比以上且25重量百分比以下。相对于100重量百分比的酸溶液的含量为10重量百分比以上且25重量百分比以下的硝酸与氧化铝反应，在包括通过前文中所述的步骤形成的具有数nm～数十nm的宽度的突起的玻璃基板上形成数十nm～数μm的宽度的突起。
化学式2
6HNO3+Al2O3→2Al(NO3)3+3H2O
根据化学式2，硝酸流入根据前文中所述的化学式1的蚀刻所形成的间隙中并与氧化铝(Al2O3)反应。根据该反应，在玻璃基板形成比由氟化氢形成的突起更大的数十nm～数μm的宽度的突起。相对于100重量百分比的酸溶液，硝酸的重量比在10重量百分比以上且25重量百分比以下的范围内越高，则可在玻璃基板上形成具有更大高度及更大宽度的突起。
在一实施例中，其特征在于，上述酸溶液包含氟化铵，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述氟化铵的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下。
化学式3
根据前文中所述的化学式1，即使氟化氢减少，也根据化学式3来形成氟化氢。由此，酸溶液中氟化氢的重量比保持恒定。随着氟化氢的重量比保持恒定，可实现稳定的湿式蚀刻工序。
在一实施例中，其特征在于，上述酸溶液包含磷酸，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述磷酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下。
化学式4
2H3PO4+Al2O3→2Al(PO4)+3H2O
根据化学式4，磷酸与氧化铝(Al2O3)反应，以使具有粗糙表面的突起的表面平滑。磷酸相对于硝酸粘稠，因此可使由硝酸的化学反应形成的突起的表面平滑。
在一实施例中，其特征在于，上述酸溶液包含盐酸，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述盐酸的含量为大于0重量百分比且10重量百分比以下。
化学式5
SiO2+4HCl→SiCl4+2H2O
根据化学式5，盐酸与二氧化硅(SiO2)反应，以使具有粗糙表面的突起的表面平滑。
在一实施例中，其特征在于，上述酸溶液包含水、氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸及盐酸，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述氟化氢的含量为大于0重量百分比且10重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述氟化铵的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述硝酸的含量为10重量百分比以上且25重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述磷酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述盐酸的含量为大于0重量百分比且10重量百分比，其余为水。
包含有前文中所述的重量百分比的水、氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸及盐酸通过利用酸溶液的湿式蚀刻工序在玻璃基板上形成数十nm～数μm的宽度的突起。水用于稀释酸溶液。
图3为根据一实施例的形成有防眩光层的玻璃基板的扫描电子显微镜照片。形成于玻璃基板上的突起的宽度为数十nm～数μm。图4为图3的放大的扫描电子显微镜照片。
图5为示出根据一实施例的形成有抗反射层的玻璃基板的剖视图。
在一实施例中，上述形成突起的步骤包括通过利用酸溶液的湿式蚀刻来形成包括数nm～数十nm的宽度(w2)的突起的抗反射层的步骤。如图5所示，突起包括凹面及凸面。前文中所述的宽度(w2)为凸面的宽度。当玻璃基板表面上具有数nm～数十nm的宽度(w2)的突起时，因这些突起而使照射到玻璃基板的光的透射率增加且反射率降低。
在一实施例中，上述酸溶液包含氟类的酸。氟类的酸包含例如，氟化氢(HF)、氟化铵(NH4F)等。通过利用包含氟类的酸的酸溶液的湿式蚀刻，可在玻璃基板上形成具有数nm～数十nm的宽度的突起。
在一实施例中，上述酸溶液包含氟化氢，还包含氟化铵、磷酸、硝酸以及盐酸中的至少一种。
在一实施例中，其特征在于，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述氟化氢的含量为大于0重量百分比且10重量百分比以下。
化学式6
SiO2+6HF→H2SiF6+2H2O
如化学式6所示，二氧化硅与氟化氢反应，在玻璃基板的表面上产生蚀刻，其结果，玻璃基板上形成具有数nm～数十nm的宽度的突起。
在一实施例中，其特征在于，上述酸溶液包含氟化铵，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述氟化铵的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下。
化学式7
根据前文中所述的化学式6，即使氟化氢减少，也根据化学式7而生成氟化氢。由此，在酸溶液中氟化氢的重量比保持恒定。随着氟化氢的重量比保持恒定，可实现稳定的湿式蚀刻工序。
在一实施例中，其特征在于，上述酸溶液包含硝酸，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述硝酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下。相对于100重量百分比的酸溶液，含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下的硝酸起到通过氟化氢形成的突起的尺寸保持在数nm～数十nm范围的作用。
化学式8
6HNO3+Al2O3→2Al(NO3)3+3H2O
根据化学式8，硝酸流入根据前文中所述的化学式6的蚀刻所形成的间隙中并与氧化铝(Al2O3)反应。根据前文中所述的反应，玻璃基板上形成具有数nm～数十nm的宽度的突起。
在相对于100重量百分比的酸溶液的10重量百分比以上且25重量百分比以下的范围内，如前文中所述，硝酸的重量比越高，玻璃基板上可形成大到数μm的宽度的突起。反之，相对于100重量百分比的酸溶液，含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下的硝酸使形成于玻璃基板上的突起的宽度恒定保持在数nm～数十nm的范围。
在一实施例中，其特征在于，上述酸溶液包含磷酸，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述磷酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下。
化学式9
2H3PO4+Al2O3→2Al(PO4)+3H2O
根据化学式9，磷酸与氧化铝(Al2O3)反应，以使具有粗糙表面的突起的表面平滑。与硝酸相比，磷酸粘稠，因此可使根据硝酸的化学反应形成的突起的表面平滑。
在一实施例中，其特征在于，上述酸溶液包含盐酸，相对于100重量百分比的上述酸溶液，上述盐酸的含量为10重量百分比以上且40重量百分比以下。
化学式10
SiO2+4HCl→SiCl4+2H2O
根据化学式10，盐酸与二氧化硅(SiO2)反应，以使具有粗糙表面的突起的表面平滑。
在一实施例中，其特征在于，上述酸溶液包含水、氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸及盐酸，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述氟化氢的含量为大于0重量百分比且10重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述氟化铵的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述硝酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述磷酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述盐酸的含量为10重量百分比以上且40重量百分比以下，其余为水。
包含前文中所述的重量百分比的水、氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸及盐酸通过利用酸溶液的湿式蚀刻工序在玻璃基板上形成具有数nm～数十nm的宽度的突起。水用于稀释酸溶液。
图6为根据一实施例的形成有抗反射层的玻璃基板的扫描电子显微镜照片。形成于玻璃基板上的突起的宽度为数nm～数十nm，图7为图6的放大的扫描电子显微镜照片。
图8为示出根据一实施例的同时形成有防眩光层及抗反射层的玻璃基板的剖视图。
在一实施例中，上述形成突起的步骤包括：通过使用酸溶液的第一次湿式蚀刻来形成包括数十nm～数μm的宽度的突起的防眩光层的步骤；以及通过使用酸溶液的第二次湿式蚀刻来在上述防眩光层上形成包括具有数nm～数十nm的宽度的突起的抗反射层的步骤。
在形成防眩光及抗反射层的步骤中，首先，通过利用酸溶液的第一次湿式蚀刻来形成包括数十nm～数μm的宽度的突起的防眩光层。
本发明的特征在于，前文中所述的酸溶液包含水、氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸及盐酸，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述氟化氢的含量为大于0重量百分比且10重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述氟化铵的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述硝酸的含量为10重量百分比以上且25重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述磷酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述盐酸的含量为大于0重量百分比且10重量百分比以下，其余为水。
在形成防眩光及抗反射层的步骤中，在形成防眩光层的步骤之后，通过使用酸溶液的第二次湿式蚀刻来在上述防眩光层上形成包括具有数nm～数十nm的宽度的突起的抗反射层。
本发明的特征在于，前文中所述的酸溶液包含水、氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸及盐酸，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述氟化氢的含量为大于0重量百分比且10重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述氟化铵的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述硝酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述磷酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述盐酸的含量为10重量百分比以上且40重量百分比以下，其余为水。
随着形成具有数十nm～数μm的宽度(w1)的突起，对于玻璃基板的光的透射率及反射率减小。然后，随着具有数十nm～数μm的宽度(w1)的突起上额外地形成具有数nm～数十nm的宽度(w2)的突起，透射率相对提高，反射率逐渐降低。由此，完成防眩光及抗反射的玻璃基板。
图9为根据一实施例的同时形成有防眩光层及抗反射层的玻璃基板的扫描电子显微镜照片。图9的下方的照片为进一步放大图示于图9的上方的照片的矩形区域的照片。
图10为示出通过不属于本发明的现有的方法来在形成于玻璃基板上的数μm～数百μm尺寸的突起和槽中额外地形成有抗反射层的玻璃基板的剖视图。
在一实施例中，还可包括如下步骤：在通过不属于本发明的现有的方法来形成于玻璃基板上的包括数μm～数百μm尺寸的突起的防眩光层上，通过利用酸溶液的湿式蚀刻来额外地形成包括数nm～数十nm宽度的突起的抗反射层。图11为通过现有的方法所形成的包括数μm～数百μm尺寸的突起的防眩光层上额外地形成数nm～数十nm尺寸的抗反射层的玻璃基板的扫描电子显微镜照片。
前文中所述的酸溶液包含水、氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸及盐酸，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述氟化氢的含量为大于0重量百分比且10重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述氟化铵的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述硝酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述磷酸的含量为大于0重量百分比且5重量百分比以下，相对于100重量百分比的上述酸溶液的上述盐酸的含量为10重量百分比以上且40重量百分比以下，其余为水。
图11的下方的照片为通过放大上方的矩形部分来观察抗反射层的扫描电子显微镜照片。
从图6、图9及图11的多个扫描电子显微镜照片可确认，在通过本发明的纳米突起表面形成方法所形成的母材表面中的表面的多个突起通过湿式蚀刻来形成，上述湿式蚀刻因蚀刻之前不形成包括掩模在内的选择性抗蚀刻单元，因此在突起之间的位置及突起的尺寸或形状方面上，形成多个上述突起的状态不具有任何规律性。
如上所述的多个表面突起的非规律性可所谓是由非掩模的湿式蚀刻而获得的固有的特征。
图12为包括通过本发明的突起形成方法来形成有抗反射层的玻璃或聚合物薄膜的智能手机的照片。
参照图12，以中间虚线为基准，在智能手机所包括的玻璃的左侧中，根据本发明的突起形成方法而形成有抗反射层。在智能手机所包括的玻璃的右侧中，根据本发明的突起形成方法而形成有抗反射层。可确认，形成于左侧玻璃中的指纹比右侧的更浅。
像这样，本发明所属技术领域的普通技术人员将认识到，在不变更技术精神或必要特征的情况下，本发明能够以其他具体实施方式来实施。因此，在以上所叙述的多个实施例仅为示例性的，并不是用于限定本发明的范围。并且，附图中所示的多个流程图仅为示例性地示出的依次顺序，以便在实施本发明时可实现最优选的结果，并且理所当然地可提供于其他额外的步骤或删除一部分步骤。
本发明的范围由后文中的发明要求保护范围来表示，而不是上述详细说明，发明要求保护范围的含义和范围以及由其等同概念导出的所有变更或变形的形态应解释为涵盖在本发明的发明要求保护范围中。
附图标记的说明
100：玻璃基板

Claims (18)

1.一种突起形成方法，在包括玻璃或聚合物薄膜基板在内的母材的表面形成突起，其特征在于，包括通过湿式蚀刻在上述母材的表面形成纳米突起的步骤，但不包括在上述湿式蚀刻之前在母材的表面形成包括掩模在内的选择性抗蚀刻单元的预先步骤以及在上述湿式蚀刻之后去除上述包括掩模在内的选择性抗蚀刻单元的事后去除步骤。
2.根据权利要求1所述的突起形成方法，其特征在于，上述形成突起的步骤包括通过利用酸溶液的湿式蚀刻来形成包括数十nm～数μm宽度的突起的防眩光层或者通过利用酸溶液的湿式蚀刻来形成包括数nm～数十nm宽度的突起的抗反射层的步骤。
3.根据权利要求2所述的突起形成方法，其特征在于，在形成上述防眩光层的情况下，上述酸溶液包含氟类的酸及硝酸。
4.根据权利要求2所述的突起形成方法，其特征在于，在形成上述抗反射层的情况下，上述酸溶液包含氟类的酸。
5.根据权利要求2所述的突起形成方法，其特征在于，在形成上述防眩光层的情况下，上述酸溶液包含氟化氢及硝酸，还包含氟化铵、磷酸以及盐酸中的至少一种。
6.根据权利要求2所述的突起形成方法，其特征在于，在形成上述抗反射层的情况下，上述酸溶液包含氟化氢，还包含氟化铵、磷酸、硝酸以及盐酸中的至少一种。
7.根据权利要求5或6所述的突起形成方法，其特征在于，上述酸溶液中的氟化氢的含量为10重量百分比以下。
8.根据权利要求5所述的突起形成方法，其特征在于，上述酸溶液中的硝酸的含量为10重量百分比以上且25重量百分比以下。
9.根据权利要求6所述的突起形成方法，其特征在于，当上述酸溶液中包含硝酸时，其含量为5重量百分比以下。
10.根据权利要求5或6所述的突起形成方法，其特征在于，当上述酸溶液中包含氟化铵时，其含量为5重量百分比以下。
11.根据权利要求5或6所述的突起形成方法，其特征在于，当上述酸溶液中包含磷酸时，其含量为5重量百分比以下。
12.根据权利要求5所述的突起形成方法，其特征在于，当上述酸溶液中包含盐酸时，其含量为10重量百分比以下。
13.根据权利要求6所述的突起形成方法，其特征在于，当上述酸溶液中包含盐酸时，其含量为10重量百分比以上且40重量百分比以下。
14.根据权利要求2所述的突起形成方法，其特征在于，
在形成上述防眩光层的情况下，
上述酸溶液包含氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸、盐酸以及水，
相对于100重量百分比的上述酸溶液的各成分的含量如下：
上述氟化氢为10重量百分比以下，上述氟化铵为5重量百分比以下，
上述硝酸为10重量百分比以上至25重量百分比以下，
上述磷酸为5重量百分比以下，
上述盐酸为10重量百分比以下，其余为上述水。
15.根据权利要求2所述的突起形成方法，其特征在于，
在形成上述抗反射层的情况下，
上述酸溶液包含氟化氢、氟化铵、磷酸、硝酸、盐酸以及水，
相对于100重量百分比的上述酸溶液的各成分的含量如下：
上述氟化氢为10重量百分比以下，上述氟化铵为5重量百分比以下，
上述硝酸为5重量百分比以下，
上述磷酸为5重量百分比以下，
上述盐酸为10重量百分比以上至40重量百分比以下，其余为上述水。
16.根据权利要求1所述的突起形成方法，其特征在于，上述形成突起的步骤包括：
通过使用酸溶液的第一次湿式蚀刻来形成包括数十nm～数μm的宽度的突起的防眩光层的步骤；以及
通过使用酸溶液的第二次湿式蚀刻来在上述防眩光层上形成包括具有数nm～数十nm的宽度的突起的抗反射层的步骤。
17.一种母材，其特征在于，具有通过权利要求1至16中任一项所述的突起形成方法形成的纳米突起。
18.一种母材，在表面形成有多个突起，其特征在于，
多个上述突起通过湿式蚀刻形成，
上述湿式蚀刻在在蚀刻之前不进行包括掩模在内的选择性抗蚀刻单元的形成工序的情况下完成，
由于不形成上述包括掩模在内的选择性抗蚀刻单元，形成多个上述突起的状态在突起之间的位置及突起的尺寸或形状方面上不具有任何规律性。
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