CN109476130A - 表面处理剂和包括由该表面处理剂形成的层的物品 - Google Patents

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高野真由子
小泽香织
三桥尚志
山下恒雄
并川敬
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Abstract

本发明涉及包括基材和在该基材上由下述式(1)所示的化合物或包含该化合物的表面处理剂形成的层的物品。

Description

表面处理剂和包括由该表面处理剂形成的层的物品
技术领域
本发明涉及表面处理剂和包括由该表面处理剂形成的层的物品。
背景技术
已知某些种类的含氟硅烷化合物用于基材的表面处理时，能够提供优异的拨水性、拨油性、防污性等。由含有含氟硅烷化合物的表面处理剂得到的层(以下，也称为“表面处理层”)，作为所谓的功能性薄膜，应用于例如玻璃、塑料、纤维、建筑材料等各种各样的基材。
作为这样的含氟硅烷化合物，已知分子主链上具有氟代烷基、并且在分子末端具有与Si原子键合的能够水解的基团的氟代烷基硅烷(专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特表2011－505422号
发明内容
发明所要解决的课题
含氟硅烷化合物施加到例如玻璃、塑料、纤维、建筑材料等多种多样的基材上，形成表面处理层。在这样的基材上形成的表面处理层会暴露在各种各样的环境中。例如，对于汽车的玻璃、建筑材料来说，表面处理层会暴露在日光、雨水等中。另外，对于触摸面板来说，表面处理层会暴露在人的汗液等中。因此，具有广泛用途的含氟硅烷化合物为了在各种各样的环境下长久地发挥其功能(例如拨水性、拨油性、防污性等)，需求耐候性。
本发明的目的在于提供一种具有具备高耐候性的表面处理层的物品、以及能够形成该表面处理层的表面处理剂。
用于解决课题的方法
本发明的发明人经过反复研究，结果发现，通过在发挥表面处理层的功能的含氟部分和具有与基材结合能力的硅烷部分之间，使用具有亚苯基的含氟硅烷化合物，能够形成具有高耐候性的表面处理层，从而完成了本发明。
即，根据本发明的第一要点，提供一种包括基材和在该基材上由下述式(1)所示的化合物(以下也简称为“本发明的含氟硅烷化合物”)或包含该化合物的表面处理剂形成的层的物品。
[式中：
X1～X5分别独立地表示氢原子、卤原子、烃基、硝基、羟基或Rf基，其中，X1～X5之中至少一个为Rf基；
Rf基表示R15－R16－；
R15表示可以具有醚键的含氟烃基；
R16表示单键或2价的有机基团；
R1在每次出现时分别独立地表示羟基、能够水解的基团或卤原子；
R2在每次出现时分别独立地表示氢原子、烷基或芳基；
n为1～3的整数。]
根据本发明的第二要点，提供一种表面处理剂，其包含：
(A)下述式(1)所示的化合物；和
(B)选自含硅化合物、含氟油、硅油和溶剂中的1种或1种以上的其他成分，
[式中：
X1～X5分别独立地表示氢原子、卤原子、烃基、硝基、羟基或Rf基，其中，X1～X5之中至少一个为Rf基；
Rf基表示R15－R16－；
R15表示可以具有醚键的含氟烃基；
R16表示单键或2价的有机基团；
R1在每次出现时分别独立地表示羟基、能够水解的基团或卤原子；
R2在每次出现时分别独立地表示氢原子、烷基或芳基；
n为1～3的整数]。
发明效果
根据本发明，通过使用具有与硅烷基直接键合的亚苯基的化合物作为含氟硅烷化合物，能够提供具有耐候性优异的表面处理层的物品。
具体实施方式
以下，对本发明的物品进行说明。
本发明的物品包括基材、和在该基材上由下述式(1)所示的化合物或包含该化合物的表面处理剂形成的层。
本发明的物品由于表面处理层具有优异的耐候性，所以能够用于多种多样的用途。
本发明的物品可以是光学部件、建筑部件、陶磁器等。作为光学部件，可以例举例如：眼镜、太阳镜等的镜片；阴极射线管(CRT，例如TV、电脑显示器)、液晶显示器、等离子体显示器、有机EL显示器、无机薄膜EL点阵显示器、背投型显示器、荧光显示管(VFD)、场发射显示器(FED，Field Emission Display)等的显示器或者这些显示器的前面保护板、防飞散膜、防反射板、偏光板或抗眩光板或者在它们的表面实施了防反射膜处理的物品；便携式电话、便携式信息终端等设备的触摸面板片；蓝光(Blu－ray(注册商标))盘、DVD盘、CD－R、MO等的光盘的盘面；光纤；窗玻璃、汽车等的挡风玻璃等的玻璃面；相机镜头；太阳能电池板；光学滤光片等。
本发明的物品例如能够通过以下方式制造。
首先，准备基材。
本发明能够使用的基材没有特别限定，可以是有机材料、无机材料或它们的复合材料中的任一种。
例如，本发明能够使用的基材没有特别限定，例如可以由玻璃、树脂(天然树脂或合成树脂，例如可以为一般的塑料材料，可以为板状、膜、其它的形态)、金属(可以为铝、铜、铁等的金属单质或合金等的复合体)、陶瓷、半导体(硅、锗等)、纤维(织物、无纺布等)、毛皮、皮革、混凝土、木材、石材等任意适当的材料构成。
作为构成本发明能够使用的基材的材料，例如还可以列举蓝宝石玻璃。
上述基材可以根据其具体的规格等而具有各种层。例如在作为光学部件使用的情况下，基材可以具有防反射层、绝缘层、粘接层、保护层、装饰框层(I－CON)、雾化膜层、偏光膜、相位差膜和液晶显示模块等。在本发明中，将这些层、膜等统称为基材。
基材的形状没有特别限定，例如可以是板状、膜、其他的形态。另外，需要形成功能性膜的基材的表面区域只要是基材表面的至少一部分即可，可以根据想要制造的物品的用途和具体的规格等适当确定。
接着，在该基材的表面，应用式(1)所示的化合物或包含式(1)所示的化合物的表面处理剂，形成它们的膜。将该膜静置或根据需要进行后处理，从而在基材上形成表面处理层。
下面，对下述式(1)所示的化合物进行说明。
上述式(1)中，X1～X5分别独立地表示氢原子、卤原子、烃基、硝基、羟基或Rf基。其中，X1～X5之中的至少一个为Rf基。
作为上述“卤原子”，可以例举氟原子、氯原子、溴原子和碘原子，这些之中优选氟原子、氯原子和溴原子，更优选为氟原子。
作为上述“烃基”，没有特别限定，例如可以列举可以具有取代基的碳原子数1～100、优选碳原子数1～20的烷基、烯基、炔基、芳基等。其中，上述烃基可以是直链状，也可以是支链状，还可以是环状。另外，该烃基可以具有醚键。在这种情况下，烃基形成在上述烃基中插入有醚键的结构。
作为上述取代基，没有特别限定，例如可以列举：卤原子；以及选自可以取代有1个或1个以上卤原子的、C1－6烷基、C2－6烯基、C2－6炔基、C3－10环烷基、C3－10不饱和环烷基、5～10元的杂环基、5～10员的不饱和杂环基、C6－10芳基和5～10元的杂芳基中的1个或1个以上的基团。
在一个实施方式中，上述烃基为非取代烃基。
上述Rf基为R15－R16－。
R15表示可以具有醚键的含氟烃基。
作为上述“含氟烃基”，可以例举可以具有取代基的碳原子数1～300的含氟烷基、含氟烯基、含氟炔基、含氟芳基等。其中，上述含氟烃基可以是直链状，也可以是支链状，还可以是环状。该含氟烃基具有醚键的情况下，含氟烃基形成在上述含氟烃基中插入有醚键的结构。
作为上述取代基，可以列举与上述“烃基”的取代基同样的基团。
在一个实施方式中，上述含氟烃基为非取代含氟烃基。
在优选的实施方式中，R15是可以具有醚键的全氟烃基。全氟烃基意指与烃基的碳键合的全部氢原子被氟原子取代的基团。
在优选的实施方式中，R15为F－CpF2p－(式中，p为1～100的整数，优选为2～20的整数，更优选为2～10的整数)。F－CpF2p－可以是直链状，也可以是支链状。优选R15基为F－(CF2)p－。
在另外的优选的实施方式中，R15为下述式所示的基团：
R3－PFPE－。
上述式中，R3分别独立地表示可以取代有1个或1个以上氟原子的碳原子数1～16的烷基。
上述可以取代有1个或1个以上氟原子的碳原子数1～16的烷基中的“碳原子数1～16的烷基”可以是直链，也可以是支链，优选为直链或支链的碳原子数1～6、特别是碳原子数1～3的烷基，更优选为直链的碳原子数1～3的烷基。
上述R3优选为取代有1个或1个以上氟原子的碳原子数1～16的烷基，更优选为CF2H－C1－15氟代亚烷基，进一步优选为碳原子数1～16的全氟烷基。
该碳原子数1～16的全氟烷基优选为直链或支链的碳原子数1～6、特别是碳原子数1～3的全氟烷基，更优选为直链的碳原子数1～3的全氟烷基，具体为－CF3、－CF2CF3或－CF2CF2CF3。
上述式中，PFPE为
－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－所示的基团。式中，a、b、c、d、e和f分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1。优选a、b、c、d、e和f分别独立地为0以上100以下的整数。优选a、b、c、d、e和f之和为5以上，更优选为10以上，例如为10以上100以下。另外，标有a、b、c、d、e或f并由括号括起来的各重复单元在式中的存在顺序是任意的。
这些重复单元可以是直链状，也可以是支链状，优选为直链状。例如，－(OC6F12)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2CF2CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF2CF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF2CF2CF(CF3))－等，优选为－(OCF2CF2CF2CF2CF2CF2)－。－(OC5F10)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF2CF(CF3))－等，优选为－(OCF2CF2CF2CF2CF2)－。－(OC4F8)－可以为－(OCF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3))－、－(OC(CF3)2CF2)－、－(OCF2C(CF3)2)－、－(OCF(CF3)CF(CF3))－、－(OCF(C2F5)CF2)－和－(OCF2CF(C2F5))－中的任一种，优选为－(OCF2CF2CF2CF2)－。－(OC3F6)－可以为－(OCF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2)－和－(OCF2CF(CF3))－中的任一种，优选为－(OCF2CF2CF2)－。另外，－(OC2F4)－可以为－(OCF2CF2)－和－(OCF(CF3))－的任一种，优选为－(OCF2CF2)－。
在一个实施方式中，上述PFPE为－(OC3F6)d－(式中，d为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数)。优选PFPE为－(OCF2CF2CF2)d－(式中，d为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数)或－(OCF(CF3)CF2)d－(式中，d为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数)。更优选PFPE为－(OCF2CF2CF2)d－(式中，d为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数)。
在另外的实施方式中，PFPE为－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－(式中，c和d分别独立地为0以上30以下的整数，e和f分别独立地为1以上200以下，优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数，标有角标c、d、e或f并由括号括起来的各重复单元在式中的存在顺序是任意的)。优选PFPE为－(OCF2CF2CF2CF2)c－(OCF2CF2CF2)d－(OCF2CF2)e－(OCF2)f－。在一个方式中，PFPE也可以为－(OC2F4)e－(OCF2)f－(式中，e和f分别独立地为1以上200以下、优选为5以上200以下、更优选为10以上200以下的整数，标有角标e或f并由括号括起来的各重复单元在式中的存在顺序是任意的)。
在上述实施方式中，优选c、d、e和f之和至少在5以上，优选在10以上。
在另外的实施方式中，PFPE为－(R7－R8)g－所示的基团。式中，R7为OCF2或OC2F4，优选为OC2F4。式中，R8为选自OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2或3个基团的组合。优选，R8为选自OC2F4、OC3F6和OC4F8的基团，或者为从这些基团中独立地选择的2或3个基团的组合。作为从OC2F4、OC3F6和OC4F8中独立地选择的2或3个基团的组合，没有特别限定，可以列举例如－OC2F4OC3F6－、－OC2F4OC4F8－、－OC3F6OC2F4－、－OC3F6OC3F6－、－OC3F6OC4F8－、－OC4F8OC4F8－、－OC4F8OC3F6－、－OC4F8OC2F4－、－OC2F4OC2F4OC3F6－、－OC2F4OC2F4OC4F8－、－OC2F4OC3F6OC2F4－、－OC2F4OC3F6OC3F6－、－OC2F4OC4F8OC2F4－、－OC3F6OC2F4OC2F4－、－OC3F6OC2F4OC3F6－、－OC3F6OC3F6OC2F4－和－OC4F8OC2F4OC2F4－等。上述g为2～100的整数，优选为2～50的整数。上述式中，OC2F4、OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12可以是直链或支链的任一种，优选为直链。在该实施方式中，PFPE优选为－(OC2F4－OC3F6)g－或－(OC2F4－OC4F8)g一。
在上述实施方式中，R8为选自OC2F4、OC3F6和OC4F8的基团，或者为选自OC3F6、OC4F8、OC5F10和OC6F12的基团，或者可以为从这些基团中独立地选择的2或3个基团的组合。
在上述实施方式中，g可以为2以上、优选为3以上、更优选为5以上、可以为100以下、优选为50以下的整数。
上述R3－PFPE部分的平均分子量没有特别限定，可以为500～30,000，优选为1,500～30,000，更优选为2,000～10,000。其中，在本发明中“平均分子量”意指数均分子量，“平均分子量”是由19F－NMR测定的值。
上述式中，R16表示单键或2价的有机基团。
上述“2价的有机基团”意指含碳的2价基团。作为该2价的有机基团，没有特别限定，可以例举从烃基中进一步脱离了1个氢原子的2价的基团。
上述“烃基”与上述关于X1～X5记载的烃基的含义相同。
上述2价的有机基团优选为可以具有取代基的碳原子数1～20、优选为碳原子数1～10、更优选为碳原子数1～4的烃基，优选为烷基、烯基、炔基或芳基。其中，上述烃基可以是直链状，也可以是支链状，还可以是环状。上述2价的有机基团更优选为碳原子数1～4的烷基。
在一个实施方式中，R15为F－CpF2p－，R16为单键。
在另外的实施方式中，R15为R3－PFPE－，R16为单键或碳原子数1～4的烷基。
上述式中，R1在每次出现时分别独立地表示羟基、能够水解的基团或卤原子。
上述“能够水解的基团”在本说明书中使用时是指能够通过水解反应从化合物的主骨架脱离的基团。作为能够水解的基团的例子，可以例举－OR、－OCOR、－O－N＝CR2、－NR2、－NHR、卤素(这些式中，R表示取代或非取代的碳原子数1～4的烷基)等，优选－OR(即烷氧基)。作为R的例子，可以例举：甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基等非取代烷基；氯甲基等取代烷基。这些之中优选烷基，特别优选非取代烷基，更优选甲基或乙基。羟基没有特别限定，可以是能够水解的基团发生水解而生成的。
作为上述“卤原子”，可以例举氟原子、氯原子、溴原子和碘原子，这些之中，优选氯原子和溴原子，更优选氯原子。
在一个实施方式中，R1为羟基或能够水解的基团。
在另外的实施方式中，R1为卤原子，优选氯原子。
上述式中，R2在每次出现时分别独立地表示氢原子、烷基或芳基。
作为上述“烷基”，可以例举碳原子数1～100、优选碳原子数1～20、更优选碳原子数1～6的直链状、支链状或环状的烷基。作为上述芳基，可以例举碳原子数6～100、优选碳原子数6～20的芳基。
上述式(1)中，n为1～3的整数，优选为2～3的整数，更优选为3。
在一个实施方式中，X1～X5中仅有一个为Rf基。
在另外的实施方式中，X1～X5中的2～5个为Rf基。
在优选的实施方式中，式(1)中X1为Rf基。
在另外的优选的实施方式中，式(1)中X1～X5分别独立地为Rf或氢原子。
在另外的优选的实施方式中，式(1)中X1为Rf基，X2～X5为氢原子。
上述式(1)所示的化合物能够通过公知的方法合成。例如，式(1)所示的化合物能够通过使下述式(1－a)所示的化合物与下述式(1－b)所示的化合物反应，得到下述式(1－c)所示的化合物，接着，与下述式(1－d)所示的化合物反应来制造。
[式中：
X2～X5的含义与上述式(1)的记载相同；
Xa表示卤原子，优选表示碘原子；
Xb表示卤原子，优选表示溴原子。]
Rf-Xc (1-b)
[式中：
Rf的含义与上述式(1)的记载相同；
Xc表示卤原子，优选表示碘原子。]
[式中，Rf、X2～X4和Xb的含义同上。]
Xd-SiR1 nR2 3-n (1-d)
[式中：
R1、R2和n的含义与上述式(1)的记载相同；
Xd表示烷氧基。]
上述通式(1)所示的化合物的制造可以根据需要在溶剂的存在下进行。作为上述溶剂，没有特别限制，可以例举例如甲氧基九氟丁烷、乙氧基九氟丁烷、1,1,1,2,2,3,4,5,5,5－十氟－3－甲氧基－4－三氟甲基戊烷、丙二醇单甲醚乙酸酯、甲基异丁基酮、六氟间二甲苯、二乙基醚、二丁基醚、1,3－双三氟甲基苯等。这些之中，优选二乙基醚、二丁基醚、1,3－双三氟甲基苯，更优选二丁基醚、1,3－双三氟甲基苯。它们可以仅使用1种，也可以将2种以上并用。
其中，本发明中的式(1)所示的化合物不限于通过本说明书所示的制造方法制得的物质，能够通过任意适当的方法制造。
以下，对包含式(1)所示的化合物的表面处理剂进行说明。
上述表面处理剂包含1种或1种以上的上述式(1)所示的化合物。
上述表面处理剂中，除了包含式(1)所示的化合物之外，也可以含有其他的成分。作为该其他的成分，没有特别限定，可以例举例如含硅化合物、可以理解为含氟油的(非反应性的)氟聚醚化合物、优选全氟(聚)醚化合物(以下称为“含氟油”)、可以理解为硅油的(非反应性的)硅酮化合物(以下称为“硅油”)、催化剂、溶剂等。
优选上述其他的成分包含含硅化合物。
作为上述含硅化合物，优选能够通过反应、优选通过溶胶－凝胶反应形成聚硅氧烷结构的含硅化合物。
在一个实施方式中，上述含硅化合物可以是含有碳和硅的有机硅化合物。
作为上述有机硅化合物，可以例举：具有Si－H键的Si－H化合物；氨基硅烷化合物、硅氮烷、甲硅烷基乙酰胺、甲硅烷基咪唑等具有Si－N键的Si－N化合物；单烷氧基硅烷、二烷氧基硅烷、三烷氧基硅烷、四烷氧基硅烷、硅氧烷、甲硅烷基酯、硅醇等的具有Si－O键的Si－O化合物；单氯硅烷、二氯硅烷、三氯硅烷、四氯硅烷等具有Si－Cl键的Si－Cl化合物等的卤代硅烷、Si－(C)4化合物、具有Si－Si键的Si－Si化合物、乙烯基硅烷、烯丙基硅烷、乙炔基硅烷等。即，有机硅化合物(B)优选为选自Si－H化合物、Si－N化合物、卤代硅烷、Si－(C)4化合物、Si－Si化合物、乙烯基硅烷、烯丙基硅烷和乙炔基硅烷中的至少一种的化合物。作为上述有机硅化合物，更优选在Si上键合有选自氢、氧和卤素中的至少一种原子的化合物。
下面例示上述有机硅化合物的具体例。
〔Si－H化合物〕
〔Si－N化合物〕
〔Si－O化合物〕
〔卤代硅烷〕
Si－Cl化合物：
Si－Cl化合物以外的卤代硅烷：
〔Si－(C)4化合物〕
〔Si－Si化合物〕
〔乙烯基硅烷、烯丙基硅烷和乙炔基硅烷〕
上述有机硅化合物更优选为下述式(2)所示的化合物。
(Si(Ra)s(Rb)t(Rc)u(Rd)v(Re)w)x (2)
(式中，Ra、Rb、Rc和Rd分别独立地为氢原子、卤原子、碳原子数1～10的烷氧基、碳原子数1～10的氨基、碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～10的芳基、碳原子数3～10的烯丙基或碳原子数3～10的缩水甘油基。Re分别独立地为－O－、－NH－、－C≡C－或硅烷键。s、t、u和v分别独立地为0或1，w为0～4的整数，x为1～20。x为1的情况下，s+t+u+v为4，w为0。x为2～20的情况下，s+t+u+v分别独立地为0～4，w分别独立地为0～4，w为1以上的整数的情况下，至少2个Si经由Re键合成直链、梯子型、环状或多环状。)Ra、Rb、Rc和Rd为与Si键合的1价的基团。Re为与2个Si键合的2价的基团。
式(2)中，Ra、Rb、Rc和Rd分别独立，优选至少一个为氢原子、卤原子、碳原子数1～10的烷氧基或碳原子数1～10的氨基，其他的为碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～10的芳基、碳原子数3～10的烯丙基或碳原子数3～10的缩水甘油基。x为2～20的情况下，优选s+t+u+v分别独立地为1～3、w为1～3。
式(2)中，优选Ra、Rb、Rc和Rd分别独立地为碳原子数1～6的烷基、碳原子数6～8的芳基、碳原子数1～6的烷氧基或碳原子数1～6的氨基，更优选为碳原子数1～4的烷氧基。
在上述Ra、Rb、Rc和Rd中，烷基的碳原子数优选为1～5。上述烷基可以是链状、环状、支链状。另外，氢原子可以被氟原子等取代。作为烷基，可以例举甲基、乙基、丙基、丁基、戊基等，例如，作为Ra、Rb、Rc或Rd，分别优选为甲基、乙基、丙基或异丙基。更优选为甲基、乙基。作为芳基，例如，优选苯基、萘基、甲基苯基、乙基苯基或二甲基苯基。作为卤原子，优选氟、氯、溴或碘，特别优选氯。
在上述Ra、Rb、Rc和Rd中，烷氧基的碳原子数优选为1～5。上述烷氧基可以为链状、环状，也可以为支链状。另外，氢原子可以被氟原子等取代。作为烷氧基，优选甲氧基、乙氧基、丙氧基或丁氧基，更优选为甲氧基或乙氧基。
Re分别独立地为－O－、－NH－、－C≡C－或硅烷键。作为Re，优选－O－、－NH－或－C≡C－。Re为与2个Si键合的2价的基团，通过Re，2个以上的硅原子能够经由Re键合成直链、梯子型、环状或多环状。x为2以上的整数的情况下，硅原子彼此之间可以键合。作为优选的含硅化合物的具体例，可以例举上述的Si－H化合物、Si－N化合物、卤代硅烷、Si－(C)4化合物、Si－Si化合物、乙烯基硅烷、烯丙基硅烷、乙炔基硅烷等含有1个或2个以上Si的化合物。
在一个实施方式中，上述含硅化合物为式(3)或式(4)所示的化合物。
SiR5 4 (3)
SiyOzR6 4y-2z (4)
上述式(3)中，R5分别独立地表示卤原子或能够水解的基团。
上述式(4)中，R6分别独立地表示卤原子或能够水解的基团。y为2以上，z为1以上，4y－2z大于0。
上述“能够水解的基团”在本说明书中使用时是指能够通过水解反应从化合物的主骨架脱离的基团。作为能够水解的基团的例子，可以例举－OR、－OCOR、－O－N＝CR2、－NR2、－NHR、卤素(这些式中，R表示取代或非取代的碳原子数1～4的烷基)等，优选－OR(即烷氧基)。作为R的例子，可以例举：甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基等非取代烷基；氯甲基等取代烷基。
作为上述“卤原子”，可以例举氟原子、氯原子、溴原子和碘原子，这些之中，优选氟原子、氯原子和溴原子，更优选氟原子和氯原子，进一步优选氯原子。
本发明的表面处理剂中，含硅化合物相对于上述本发明的式(1)所示的化合物的合计100质量份(2种以上时为它们的合计，下同)，可以含有例如0～500质量份、优选0～400质量份、更优选25～400质量份。
在由包含上述含硅化合物的表面处理剂形成的表面处理层中，本发明的含氟硅烷化合物在表面处理层的表面离析。因此，含硅化合物将基材与含氟硅烷化合物隔开，因此，能够抑制基材中存在的物质对含氟硅烷化合物造成不良影响。结果，上述含硅化合物有助于提高表面处理层的耐候性和耐久性。特别是能够通过溶胶－凝胶反应形成硅氧烷键的含硅化合物可以形成更致密的层，因而能够进一步提高表面处理层的耐候性和耐久性。
作为上述含氟油，没有特别限定，例如可以列举以下的通式(5)所示的化合物(全氟(聚)醚化合物)。
R21－(OC4F8)a′－(OC3F6)b′－(OC2F4)c′－(OCF2)d′－R22…(5)
式中，R21表示可以被1个或1个以上氟原子取代的C1－16的烷基(优选C1－16的全氟烷基)，R22表示可以被1个或1个以上氟原子取代的C1－16的烷基(优选C1－16的全氟烷基)、氟原子或氢原子，R21和R22更优选分别独立地为C1－3的全氟烷基。
a′、b′、c′和d′分别表示构成聚合物主骨架的全氟(聚)醚的4种重复单元数，彼此独立地为0以上300以下的整数，a′、b′、c′和d′之和至少为1，优选为1～300，更优选为20～300。标有角标a′、b′、c′或d′并由括号括起来的各重复单元在式中的存在顺序是任意的。这些重复单元之中，－(OC4F8)－可以是－(OCF2CF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2CF2)－、－(OCF2CF(CF3)CF2)－、－(OCF2CF2CF(CF3))－、－(OC(CF3)2CF2)－、－(OCF2C(CF3)2)－、－(OCF(CF3)CF(CF3))－、－(OCF(C2F5)CF2)－和－(OCF2CF(C2F5))－中的任一种，优选为－(OCF2CF2CF2CF2)－。－(OC3F6)－可以是－(OCF2CF2CF2)－、－(OCF(CF3)CF2)－和－(OCF2CF(CF3))－中的任一种，优选为－(OCF2CF2CF2)－。－(OC2F4)－可以为－(OCF2CF2)－和－(OCF(CF3))－中的任一种，优选为－(OCF2CF2)－。
作为上述通式(5)所示的全氟(聚)醚化合物的例子，可以例举下面的通式(5a)和(5b)中的任一式所示的化合物(可以是1种或2种以上的混合物)。
R21－(OCF2CF2CF2)b″－R22…(5a)
R21－(OCF2CF2CF2CF2)a″－(OCF2CF2CF2)b″－(OCF2CF2)c″－(OCF2)d″－R22…(5b)
这些式中，R21和R22如上所述；在式(5a)中，b″为1以上100以下的整数；在式(5b)中，a″和b″分别独立地为0以上30以下的整数，c″和d″分别独立地为1以上300以下的整数。标有角标a″、b″、c″、d″并由括号括起来的各重复单元在式中的存在顺序是任意的。
上述含氟油可以具有1,000～30,000的平均分子量。由此，能够得到高表面滑动性。
表面处理剂中，含氟油相对于上述本发明的式(1)所示的化合物的合计100质量份(2种以上的情况下为它们的合计，下同)，例如可以含有0～500质量份、优选0～400质量份、更优选25～400质量份。
含氟油有助于提高表面处理层的表面滑动性。
作为上述硅油，可以使用例如硅氧烷键为2,000以下的直链状或环状的硅油。直链状的硅油可以为所谓的普通硅油(straight siliconeoil)和改性硅油。作为普通硅油，可以列举二甲基硅油、甲基苯基硅油、甲基含氢硅油。作为改性硅油，可以列举利用烷基、芳烷基、聚醚、高级脂肪酸酯、氟代烷基、氨基、环氧基、羧基、醇等将普通硅油改性而得到的硅油。环状的硅油例如可以列举环状二甲基硅氧烷油等。
本发明的表面处理剂中，该硅油相对于上述本发明的式(1)所示的化合物的合计100质量份(2种以上的情况下为它们的合计，下同)，例如可以含有0～300质量份、优选50～200质量份。
硅油有助于提高表面处理层的表面滑动性。
作为上述催化剂，可以例举酸(例如乙酸、三氟乙酸等)、碱(例如氨、三乙胺、二乙胺等)、过渡金属(例如Ti、Ni、Sn等)等。
催化剂促进本发明的式(1)所示的化合物的水解和脱水缩合，促进表面处理层的形成。
上述溶剂可以对应于式(1)所示的化合物和其他的成分适当地选择。例如，作为溶剂，优选使用以下溶剂：己烷、庚烷、辛烷等的烃系溶剂；二氯甲烷、氯仿、四氯化碳、二氯乙烷等的氯代烃系溶剂；二乙基醚、二甲氧基乙烷、二甘醇二甲醚、三甘醇二甲醚等醚系溶剂；草酸二乙酯、丙酮酸乙酯、2－羟基丁酸乙酯、乙酰乙酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸戊酯、丁酸乙酯、丁酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯、3－甲氧基丙酸甲酯、3－甲氧基丙酸乙酯、2－羟基异丁酸甲酯、2－羟基异丁酸乙酯等酯系溶剂；丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、丙二醇单丁醚乙酸酯、二丙二醇二甲醚等丙二醇系溶剂；丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、2－己酮、环己酮、甲基戊基酮、2－庚酮等酮系溶剂；甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇、二丙酮醇等醇系溶剂；苯、甲苯、二甲苯、硝基苯等芳香族烃类；碳原子数5～12的全氟脂肪族烃(例如全氟己烷、全氟甲基环己烷和全氟－1,3－二甲基环己烷)；多氟芳香族烃(例如双(三氟甲基)苯)；多氟脂肪族烃；氢氟醚(HFE)(例如全氟丙基甲基醚(C3F7OCH3)、全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)、全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)、全氟己基甲基醚(C2F5CF(OCH3)C3F7)等烷基全氟烷基醚(全氟烷基和烷基可以为直链或支链状))、氢氯氟烃(ASAHIKLIN AK－225(商品名)等)、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、甲基溶纤剂乙酸酯、乙基溶纤剂乙酸酯等的溶纤剂系溶剂等。这些溶剂可以单独使用或作为2种以上的混合物使用。
本发明的表面处理剂中，溶剂相对于上述本发明的式(1)所示的化合物的合计100质量份(2种以上的情况下为它们的合计，下同)，例如可以含有0～100万质量份、优选0～10万质量份、更优选25～10万质量份。
在优选的实施方式中，上述表面处理剂包含含硅化合物，优选包含能够通过溶胶－凝胶反应形成硅氧烷键的含硅化合物。
通过使用上述的表面处理剂，能够形成具有拨水性、拨油性、防污性、防水性、表面滑动性、耐磨损性等、还具有对于热、水分、光等的耐受性即耐候性、对于周围的腐蚀性物质的防御性等的表面处理层。因此，本发明还提供上述的表面处理剂。该表面处理剂优选作为防污性涂布剂或防水性涂布剂使用。
上述式(1)所示的化合物或包含式(1)所示的化合物的表面处理剂(以下，也统称为“本发明的表面处理剂”)的膜的形成能够通过以覆盖基材的表面的方式应用上述本发明的表面处理剂来实施。覆盖方法没有特别限定。例如能够使用湿润覆盖法和干燥覆盖法。
作为湿润覆盖法的例子，可以例举例如浸渍涂布、旋涂、流涂、喷涂、狭缝涂布、辊涂、凹版涂布、微凹版涂布、棒涂、模涂、丝网印刷以及类似的方法。
作为干燥覆盖法的例子，可以例举蒸镀(通常为真空蒸镀)、溅射、CVD以及类似的方法。作为蒸镀法(通常为真空蒸镀法)的具体例，可以例举电阻加热、电子束、使用微波等的高频加热、离子束以及类似的方法。作为CVD方法的具体例，可以例举等离子体－CVD、光学CVD、热CVD以及类似的方法。
而且，还可以为利用常压等离子体法的覆盖。
使用湿润覆盖法的情况下，本发明的表面处理剂可以在利用溶剂稀释后应用于基材表面。从本发明的表面处理剂的稳定性和溶剂的挥发性的观点出发，优选使用下列溶剂：碳原子数5～12的全氟脂肪族烃(例如全氟己烷、全氟甲基环己烷和全氟－1,3－二甲基环己烷)；多氟芳香族烃(例如双(三氟甲基)苯)；多氟脂肪族烃(例如C6F13CH2CH3(例如旭硝子株式会社生产的ASAHIKLIN(注册商标)AC－6000)、1,1,2,2,3,3,4－七氟环戊烷(例如日本ZEON株式会社生产的ZEORORA(注册商标)H)；氢氟醚(HFE)(例如全氟丙基甲基醚(C3F7OCH3)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7000)、全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7100)、全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7200)、全氟己基甲基醚(C2F5CF(OCH3)C3F7)(例如住友3M株式会社生产的Novec(商标)7300)等的烷基全氟烷基醚(全氟烷基和烷基可以为直链或支链状)、或者CF3CH2OCF2CHF2(例如旭硝子株式会社生产的ASAHIKLIN(注册商标)AE－3000))等。这些溶剂可以单独使用或作为2种以上的混合物使用。其中，优选氢氟醚，特别优选全氟丁基甲基醚(C4F9OCH3)和/或全氟丁基乙基醚(C4F9OC2H5)。
在使用干燥覆盖法的情况下，本发明的表面处理剂可以直接用于干燥覆盖法，或者也可以利用上述溶剂稀释后用于干燥覆盖法。
应用于基材的式(1)所示的化合物的量没有特别限定，可以根据预期的功能性膜的厚度进行适当调节。
接着，根据需要对膜进行后处理。该后处理没有特别限定，例如可以依次实施水分供给和干燥加热，或者也可以通过使用过热水蒸气连续地实施。
在应用于基材的式(1)所示的化合物与基材之间，与水解后的Si键合的基团(上述式(1)所示的化合物中R1全部为羟基的情况下可以为该羟基)与基材表面所存在的反应性基团之间发生反应，例如，在基材表面所存在的反应性基团为羟基的情况下发生脱水缩合。另外，在该化合物间，与该化合物的水解后的Si键合的基团彼此之间可以发生脱水缩合。结果，式(1)所示的化合物与基材之间成键。并且，可以在该化合物间成键。
即，本发明的物品中，由本发明的表面处理剂形成的层是式(1)所示的化合物的硅烷部分与基材结合的层。优选由本发明的表面处理剂形成的层是式(1)所示的化合物的硅烷部分与基材结合、而且式(1)所示的化合物的硅烷部分彼此之间结合的层。其中，在基材与表面处理层之间存在其他层、例如存在下述的粘合剂层的情况下，式(1)所示的化合物的硅烷部分与上述其他的层结合，而不与基材结合。
如上所述，在基材的表面形成来自本发明的表面处理剂的表面处理层，制造本发明的物品。
表面处理层的厚度没有特别限定。在光学部件的情况下，表面处理层的厚度可以为1～50nm、1～30nm、优选1～15nm的范围。
以上，对本发明的物品进行了详细说明。但本发明的物品、其制造方法、表面处理剂方法等不限于上述例示。
例如，在一个实施方式中，本发明的物品可以在基材与由式(1)所示的化合物或包含该化合物的表面处理剂形成的层之间具有粘合剂层。
粘合剂层能够将基材中所存在的可能对表面处理层造成不良影响的物质、例如离子等与表面处理层离隔，有助于耐候性和耐久性的进一步的提高。
粘合剂层优选由含硅化合物形成。
粘合剂层优选由含硅化合物形成，具有聚硅氧烷结构。
上述含硅化合物只要是能够在基材上形成聚硅氧烷结构的物质即可，没有特别限定，优选能够通过溶胶－凝胶反应、氧化反应等形成聚硅氧烷结构的物质。
作为上述含硅化合物，可以例举与上述表面处理剂能够包含的含硅化合物同样的有机硅化合物、式(3)所示的化合物、式(4)所示的化合物、硅氮烷化合物等。
上述硅氮烷化合物优选由式(6)表示。
(R11R12SiNR13)k (6)
[式中：
R11、R12和R13分别独立地表示氢原子或烷基、芳基、乙烯基、环烷基，R11、R12和R13之中至少一个为氢原子，优选全部为氢原子，k表示1～60的整数。]
硅氮烷化合物的分子形状可以是任意形状，例如可以为直链状或环状。
上述含硅化合物可以直接应用于基材，或者可以作为组合物应用于基材。
优选含硅化合物溶解或分散在溶剂中制成溶胶组合物应用。通过对应用该溶胶组合物而得到的膜进行后处理，使其发生溶胶－凝胶反应，能够在基材上形成具有聚硅氧烷结构的粘合剂层。
上述溶剂只要含硅化合物能够良好地溶解或分散即可，没有特别限定，优选醇类、醚类、二醇类或二醇醚类。作为优选的溶剂，可以例举甲醇、乙醇、1－丙醇、2－丙醇、1－丁醇、2－丁醇、异丁醇、1－戊醇、2－戊醇、2－甲基－2－戊醇、2－甲氧基乙醇、2－乙氧基乙醇、2－丁氧基乙醇、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、丙二醇、二丙二醇单甲醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、三乙二醇单甲醚、二乙二醇单己醚。
并且，溶胶组合物可以根据需要含有pH调节剂、用于提高与基材的密合性的各种添加剂(例如稳定化剂或增粘剂)。
作为将上述含硅化合物或溶胶组合物应用于基材表面的方法，没有特别限定，可以例举浸渍涂布、旋涂、流涂、喷涂、狭缝涂布、辊涂、凹版涂布、微凹版涂布、棒涂、模涂、丝网印刷以及类似的方法。
接着，对基材上的含硅化合物或溶胶组合物的膜进行后处理。该后处理通过加热来进行。通过将溶胶组合物的膜加热，膜发生固化，形成具有聚硅氧烷结构的粘合剂层。
上述加热处理中的加热温度可以根据所使用的基材和含硅化合物适当选择，优选为100℃以上900℃以下，更优选为110℃以上800℃以下，例如可以为120℃以上600℃以下。
上述加热处理的加热时间优选为5分钟以上500分钟以下，更优选为10分钟以上400分钟以下，例如可以为20分钟以上300分钟以下。
接着，如上所述将本发明的表面处理剂应用到粘合剂层上，通过静置或根据需要进行后处理，在粘合剂层上形成表面处理层。
这样得到的物品由于在基材与表面处理层之间具有粘合剂层，因此可以具有更加优异的耐候性和耐久性。
在另外的实施方式中，可以在使上述含硅化合物或溶胶组合物固化之前，在含硅化合物或溶胶组合物的膜(以下也统称为“含硅化合物膜”)上应用本发明的表面处理剂，之后进行后处理、例如加热处理，从而得到表面处理层。
通过在固化前的含硅化合物膜上应用本发明的表面处理剂，本发明的表面处理剂能够从含硅化合物膜的表面向内部扩散或者溶解在膜中。通过本发明的表面处理剂在含硅化合物膜中扩散或溶解，含硅化合物膜与本发明的表面处理剂形成1层(单层)。即，本发明的表面处理剂在含硅化合物膜上的应用也可以说成是在基材上的含硅化合物或溶胶组合物中添加式(1)所示的化合物或含有该化合物的表面处理剂。
在本说明书中，“单层”是指在该层内不具有由于叠层而造成的界面，构成层的成分的组成在层(或膜)的整个厚度方向上是恒定的或者是连续变化的层。在本发明中，即使层的上部与下部的组成不完全相同，在层的中间部两者的组成是连续变化的情况下，可以视为单层。其中，组成连续变化的区域在100nm以上。例如，即使层的上部的组成为A、下部的组成为B，只要在层的任意区域组成A和组成B相互混合、存在组成沿着厚度方向在100nm以上连续地从A变化至B(或从B至A)的区域，该层就视为单层。层的组成能够使用离子束ESCA测定，测定深度方向的元素浓度。
实施例
实施例1
使(4－十三氟己基苯基)三甲氧基硅烷溶解在全氟丁基乙基醚中使其达到2wt％的浓度，制备表面处理剂1。接着，通过旋涂将制得的表面处理剂1涂布在化学强化玻璃上。之后，将带有表面处理剂的化学强化玻璃在温度65℃和湿度90％的气氛下静置14小时，形成实施例1的表面处理层。
比较例1
除了使用(3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,8－十三氟辛基)三甲氧基硅烷代替(4－十三氟己基苯基)三甲氧基硅烷以外，与实施例1同样操作制备表面处理剂2。接着，除了使用制得的表面处理剂2以外，与实施例1同样操作形成实施例2的表面处理层。
耐候性评价
对于在上述的实施例1和比较例1中在基材表面形成的表面处理层，测定光照射后的水的静态接触角。光照射使用超级氙测试仪(岩崎电气生产的XER－W75，在420nm，辐射照度为2.23W/m2)进行照射，水的静态接触角使用接触角测定装置(协和界面科学株式会社生产)，利用2μL的水实施。首先，作为初始评价，在表面处理层形成后、其表面未接触任何物质的状态下，测定水的静态接触角(曝露时间0小时)。之后，每隔一段时间测定水的静态接触角(度)，进行评价直到累积曝露时间达到400小时。将结果示于表1。
[表1]
由上述结果可以理解，本发明的具有苯基的硅烷化合物与不具有这样的结构的比较例1相比，可以确认耐候性提高。
实施例2
使聚硅氮烷化合物(NL120A，默克公司)溶解在二丁基醚中使其达到3wt％的浓度，制备粘合剂处理剂1。接着，通过旋涂将制得的粘合剂处理剂1涂布在化学强化玻璃上。之后，在室温静置30分钟，形成粘合剂层后，通过旋涂在同样的条件下涂布实施例1中制得的表面处理剂1。之后，将带有表面处理剂的化学强化玻璃在温度65℃和湿度90％的气氛下静置14小时，形成实施例2的表面处理层。
比较例2
除了使用表面处理剂2代替表面处理剂1以外，与实施例2同样操作形成比较例2的表面处理层。
耐酸性评价
首先，作为初始评价，在表面处理层形成后、其表面未接触任何物质的状态下，测定水的静态接触角。之后，将实施例2和比较例2的处理玻璃板浸渍在0.1摩尔％硝酸水溶液中，每隔一段时间测定水的静态接触角(度)，进行评价直到累积浸渍时间达到7天。将结果示于表2。
[表2]
耐碱性评价
首先，作为初始评价，在表面处理层形成后、其表面未接触任何物质的状态下，测定水的静态接触角。之后，将实施例1～2和比较例1～2的处理玻璃板浸渍在0.1摩尔％NaOH水溶液中，每隔一段时间测定水的静态接触角(度)。在接触角的测定值低于50度的时刻结束评价，进行评价最长达到累积浸渍时间24小时。将结果示于表3(表中，标记“－”为未测定)。
[表3]
由上述结果可以理解，本发明的具有苯基的硅烷化合物与没有这样结构的比较例1和比较例2相比，确认耐药品性提高。并且确认在与粘合剂层组合时，得到了更好的效果。
产业上的可利用性
本发明的表面处理剂适合用于在多种多样的基材上、特别是需求耐候性的基材的表面上形成表面处理层。并且，本发明的物品适合在需求耐候性的环境下使用。

Claims (20)

1.一种包括基材和在该基材上由下述式(1)所示的化合物或包含该化合物的表面处理剂形成的层的物品，其特征在于：
式中，X1～X5分别独立地表示氢原子、卤原子、烃基、硝基、羟基或Rf基，其中，X1～X5之中至少一个为Rf基；
Rf基表示R15－R16－；
R15表示可以具有醚键的含氟烃基；
R16表示单键或2价的有机基团；
R1在每次出现时分别独立地表示羟基、能够水解的基团或卤原子；
R2在每次出现时分别独立地表示氢原子、烷基或芳基；
n为1～3的整数。
2.如权利要求1所述的物品，其特征在于，
X1为Rf基。
3.如权利要求1或2所述的物品，其特征在于，
X1为Rf基，X2～X5为氢原子。
4.如权利要求1～3中任一项所述的物品，其特征在于，
R15为可以具有醚键的全氟烃基。
5.如权利要求1～4中任一项所述的物品，其特征在于，
R15为F－CpF2p－，式中，p为1～100的整数；R16为单键。
6.如权利要求1～3中任一项所述的物品，其特征在于，
R15为下述式：R3－PFPE－所示的基团，
式中，R3分别独立地表示可以被1个或1个以上氟原子取代的碳原子数1～16的烷基；
PFPE为－(OC6F12)a－(OC5F10)b－(OC4F8)c－(OC3F6)d－(OC2F4)e－(OCF2)f－所示的基团；
a、b、c、d、e和f分别独立地为0以上200以下的整数，a、b、c、d、e和f之和至少为1，标有a、b、c、d、e或f并由括号括起来的各重复单元在式中的存在顺序是任意的；
R16为单键或碳原子数1～4的烷基。
7.如权利要求1～6中任一项所述的物品，其特征在于，
在基材与由式(1)所示的化合物或包含该化合物的表面处理剂形成的层之间，进一步具有由含硅化合物形成的粘合剂层。
8.如权利要求7所述的物品，其特征在于，
含硅化合物为选自Si－H化合物、Si－N化合物、Si－O化合物、卤代硅烷、Si－(C)4化合物、Si－Si化合物、乙烯基硅烷、烯丙基硅烷和乙炔基硅烷中的1种或1种以上的化合物。
9.如权利要求7所述的物品，其特征在于，
含硅化合物为式(3)或式(4)所示的至少一种的化合物，
SiR5 4 (3)
式中，R5分别独立地表示卤原子或能够水解的基团；
SiyOzR6 4y-2z (4)
式中，R6分别独立地表示卤原子或能够水解的基团；
y为2以上；
z为1以上；
4y－2z大于0。
10.如权利要求1～6中任一项所述的物品，其特征在于，
表面处理剂还包含含硅化合物。
11.如权利要求1～10中任一项所述的物品，其特征在于，
基材为玻璃、蓝宝石玻璃、树脂、金属、陶瓷、半导体、纤维、毛皮、皮革或木材。
12.如权利要求1～11中任一项所述的物品，其特征在于，
其为光学部件或建筑部件。
13.一种表面处理剂，其特征在于，包含：
(A)下述式(1)所示的化合物；和
(B)选自含硅化合物、含氟油、硅油和溶剂中的1种或1种以上的其他成分，
式中，X1～X5分别独立地表示氢原子、卤原子、烃基、硝基、羟基或Rf基，其中，X1～X5之中至少一个为Rf基；
Rf基表示R15－R16－；
R15表示可以具有醚键的含氟烃基；
R16表示单键或2价的有机基团；
R1在每次出现时分别独立地表示羟基、能够水解的基团或卤原子；
R2在每次出现时分别独立地表示氢原子、烷基或芳基；
n为1～3的整数。
14.如权利要求13所述的表面处理剂，其特征在于，
其他成分包含含硅化合物。
15.如权利要求13或14所述的表面处理剂，其特征在于，
含硅化合物为选自Si－H化合物、Si－N化合物、Si－O化合物、卤代硅烷、Si－(C)4化合物、Si－Si化合物、乙烯基硅烷、烯丙基硅烷和乙炔基硅烷中的1种或1种以上的化合物。
16.如权利要求13或14所述的表面处理剂，其特征在于，
含硅化合物为式(3)或式(4)所示的至少一种的化合物，
SiR5 4 (3)
式中，R5分别独立地表示卤原子或能够水解的基团；
SiyOzR6 4y-2z (4)
式中，R6分别独立地表示卤原子或能够水解的基团；
y为2以上；
z为1以上；
4y－2z大于0。
17.如权利要求13～16中任一项所述的表面处理剂，其特征在于，
含氟油为下述式(5)所示的1种或1种以上的化合物，
R21－(OC4F8)a′－(OC3F6)b′－(OC2F4)c′－(OCF2)d′－R22…(5)
式中，R21表示被1个或1个以上氟原子取代的C1－16的烷基；
R22表示可以被1个或1个以上氟原子取代的C1－16的烷基；
a′、b′、c′和d′彼此独立地为0以上300以下的整数，a′、b′、c′和d′之和至少为1，标有角标a′、b′、c′或d′并由括号括起来的各重复单元在式中的存在顺序是任意的。
18.如权利要求13～17中任一项所述的表面处理剂，其特征在于，
硅油为硅氧烷键在2,000以下的直链状或环状的硅油。
19.如权利要求13～18中任一项所述的表面处理剂，其特征在于，
溶剂为选自烃系溶剂、氯代烃系溶剂、醚系溶剂、酯系溶剂、丙二醇系溶剂、酮系溶剂、醇系溶剂、芳香族烃类、碳原子数5～12的全氟脂肪族烃、多氟芳香族烃、多氟脂肪族烃、氢氟醚、氢氯氟烃和溶纤剂系溶剂中的1种或1种以上的溶剂。
20.如权利要求13～19中任一项所述的表面处理剂，其特征在于，
其作为防污性涂布剂或防水性涂布剂使用。
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