CN109416420A - 光学制品及其光学滤波器 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及光学制品和包含该光学制品的光学滤波器，所述光学滤波器包含含有一种或一种以上的近红外吸收染料，并具有两个或两个以上吸收峰的光学制品，所述吸收峰包括波长在380nm～1,200nm范围内的第一和第二吸收峰，因此对具有可见光区域波长的光表现出高透射率，并将波长在800nm～1,000nm至范围内的光透射率抑制至0.6％以下，从而不仅可以防止重影现象，并且具有可以减少在图像拾取器件组装过程中，由于光学滤波器的翘曲导致的组装缺陷，提高效率和生产率的优点。
Description
技术领域
本发明涉及光学制品及其光学滤波器，尤其涉及一种能够抑制800nm～1,000nm波长范围内的光透射率的光学制品及其光学滤波器。
背景技术
为了使应用了诸如CIS(CMOS图像传感器)等固态图像拾取元件的成像装置获取到如同人眼所见般的色彩自然的图像，有必要提供一种光学制品，该光学制品可以屏蔽传感器检测到的近红外区域的波长在800nm～1,000nm范围内的光，并且透射波长在400nm～600nm范围内的光以近似于人的视感度。
该光学制品可以例如为具有电介质多层膜反射型近红外屏蔽过滤器，或是使用了以二价的铜离子为着色成分的氟磷酸盐玻璃的吸收型近红外屏蔽过滤器。
然而，传统的反射型近红外屏蔽过滤器中，由于光学滤波器和固态图像拾取元件的透镜的反射，具体地，由于光学滤波器和CIS的微透镜之间的内部反射，导致在用成像装置拍摄图像时，严重发生捕获到意料之外的图像的现象(以下称为“重影现象”或“重影图像”)，因此存在不能应用于5百万像素或更高的高像素相机模块的限制。另外，传统的吸收型近红外屏蔽过滤器屏蔽800nm～1,000nm范围内的波长的效果虽然良好，但是由于材料的性质，耐久性差，因此具有厚度难以被减小，并且容易破裂的问题。
因此，迫切需要开发一种能够屏蔽波长在800nm～1,000nm范围内的光的，并且尽可能薄的光学制品。
现有技术文献
专利文献
(专利文献1)日本专利公开号3034668
(专利文献2)韩国专利公开号2009-0051250。
发明内容
技术问题
本发明在于提供一种光学制品，该光学制品对于具有可见光范围内的波长的光具有优秀的透射率，且除了可选择性地和/或有效地屏蔽波长在800nm～1,000nm范围内的光来防止重影现象之外，还有利于有利于更薄的成像装置。
本发明还在于提供一种包含所述光学制品的光学滤波器。本发明还在于提供一种包含所述光学制品的成像装置。
技术方案
为了达成本发明的目的，在本发明的一个实施例中提供了一种光学制品，该光学制品包括含有一种或多种类型的近红外线吸收染料的透明基材，用分光光度计在380nm～1,200nm的波长范围内所测量的吸收光谱具有包括以下的第一吸收峰和第二吸收峰的两个或以上的吸收峰，其中所述第一吸收峰在650nm～750nm的波长范围内具有最大吸收值(λMax1)，所述第二吸收峰在830nm～980nm的波长范围内具有最大吸收值(λMax2)，当将所述第一吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD1)归一化为1时，所述第二吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD2)满足以下式1：
【式1】
0.03<OD2<0.36。
另外，在本发明的一个实施例还提供一种包含所述光学制品的光学滤波器。
有益效果
根据本发明的光学滤波器包括一种或多种类型的近红外线吸收染料并具有两个或以上吸收峰的光学制品，所述吸收峰包括在380至1,200nm波长范围内的第一和第二吸收峰，由于该光学滤波器对于具有可见光区域波长的光表现出高透射率，并将波长在800nm～1,000nm至范围内的光的透射率抑制至0.6％或以下，从而不仅可以防止重影现象，还易于使成像装置变薄，通过提高组装过程中的产量和产率来降低生产成本。
附图说明
图1为一个实施例中，根据本发明的光学制品的结构的剖面图
图2为另一个实施例中，根据本发明的光学滤波器的结构的剖面图。
图3为光学滤波器的弯曲状态的剖面图：
其中，A～C和(a)～(g)如下所示。
A和B：向(-)方向弯曲的样品，C：向(+)方向弯曲的样品，
(a)：水平面，(b)：样品，
(c)：翘曲度，(d)：中心面，
(e)：包含样品末端的面，
(f)和(g)：样品的内表面上翘曲度最大的点。
图4示出了根据本发明的一个实施例的近红外线吸收剂的含量的各个光学制品的光密度曲线。
图5和6分别为示出了根据本发明的一个实施例的，第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层的光谱透射率。
图7-10示出了一个实施例中，以根据本发明的实施例5、实施例7、比较例4和比较例5中制造的光学滤波器为对象，在300nm～1,200nm的波长范围内测量的光谱透射率。
图11示出了一个实施例中,根据本发明的实施例7和比较示例6的，使用装载有光学滤波器的成像装置所拍摄的图像。
具体实施方式
虽然已经结合某些示例性实施例描述了本发明，但是应该理解，本发明不限于所公开的实施例，相反，旨在覆盖各种修改和相似之处。
然而，应该理解的是，这并不旨在将本发明限制于特定实施例，而相反的，包括落入在本发明的精神和技术范围内的所有修改，等同物以及替代物。
在本发明中，“包含”、“具有”或“组成”等术语是为了指定说明书中所记载的特征、数字、步骤、动作、组成要素、配件或它们的组合的存在，应当理解的是不能预先排除一个或多个其他特征、数字、步骤、动作、组成要素、配件或它们的组合的存在或附加的可能性。
并且，应当理解的是，为了便于说明，对本发明的附图所进行的放大或缩小。
下面，将结合附图对本发明进行详细地说明，无论附图符号为如何，对相同或对应的组成要件将给予相同或相似的参考符号并省略对此的重复说明。本发明中的“可见光”是指在电磁波中的可以通过人眼感知到的，波长在380nm～750nm范围内的光。
另外，在本发明中“近红外线”是指位于红外线之外，其波长比可见光波更长的电磁波,指波长在750nm～3μm范围内的光。在本发明中，“近红外线”的屏蔽程度可以用对近红外线的光密度表示。在该情况下，所述光密度(OD)定义为取Io/I的常用对数得到的值，其中Io是光通过光吸收介质时入射的光的强度，I是通过光的强度。即，光密度(OD)＝log(Io/I)表示的值。所述光密度可以用分光光度计计算。
并且，在本发明中“最大吸收”是指光被吸收的波长范围，即在吸收带中光密度最大的波长。另外，在本发明中，“翘曲度”是表示光学滤波器的弯曲程度的量度，如图3A和B所示，指的是以用直线连接样品(b)的端部所形成的平面(e)为基准，在样品(b)内表面上存在的任意点的高度中，高度值最大的点(f)的高度。此时，“样品的内表面”是指发生翘曲的样品的两面中，长度小的一面，它的相反面称为“样品的外表面”。可以说所述高度的值越大，样品(b)的翘曲度(c)越大。
并且，在本发明中，“翘曲方向”是指光学滤波器弯曲的方向，可以用(+)方向或(-)方向表示。具体的，如图3的A和B所示，以用直线连接样品(b)的端部形成的平面(e)为基准，在样品(b)的内表面上，如果翘曲度(c)最大的点(f)在水平面(a)和中心面(d)之间，则样品(b)的翘曲方向为(-)方向。相反的，如图3的C所示，以用直线连接样品(b)的端部形成的平面(e)为基准，在样品(b)的内表面上，如果翘曲度(c)最大的点(f)不在水平面(a)和中心面(d)之间，则样品(b)的翘曲方向为(+)方向。
此时，所述“中心面(d)”是指在样品(b)的内表面上翘曲度(c)最大的点与用直线连接样品(b)的末端所形成的平面(e)之间的平面，在所述点(f或g)的高度的1/2位置处与平面(e)平行的面。
与此同时，所述“水平面(a)”是指在测量样品(b)的翘曲度时，支撑样品的平面，可以包括像是超精准三维表面光度仪(Ultra accuracy 3-D profilometer)的三维表面测量装置的样品固定面等。
此外，本发明中“烷基(alkyl group)”是指衍生自直链(linear)或支链(branched)形式的饱和烃的取代基。
此时，所述“烷基”，例如，可以为甲基(methyl group)、乙基(ethyl group)、正丙基(n-propyl group)、异丙基(iso-propyl group)、正丁基(n-butyl group)、仲丁基(sec-butyl group)、叔丁基(tert-butyl group)、正戊基(n-pentyl group)、1,1-二甲基丙基(1,1-dimethylpropyl group)、1,2-二甲基丙基(1,2-dimethylpropyl group)、2,2-二甲基丙基(2,2-dimethylpropyl group)、1-乙基丙基(1-ethylpropyl group)、2-乙基丙基(2-ethylpropyl group)、正己基(n-hexyl group)、1-甲基-2-乙基丙基(1-methyl-2-ethylpropyl group)、1-乙基-2-甲基丙基(1-ethyl-2-methylpropyl group)、1,1,2-三甲基丙基(1,1,2-trimethylpropyl group)、1-丙基丙基(1-propylpropyl group)、1-甲基丁基(1-methylbutyl group)、2-甲基丁基(2-methylbutyl group)、1,1-二甲基丁基(1,1-dimethylbutyl group)、1,2-二甲基丁基(1,2-dimethylbutyl group)、2,2-二甲基丁基(2,2-dimethylbutyl group)、1,3-二甲基丁基(1,3-dimethylbutyl group)、2,3-二甲基丁基(2,3-dimethylbutyl group)、2-乙基丁基(2-ethylbutyl group)、2-甲基戊基(2-methylpentyl group)、3-甲基戊基(3-methylpentyl group)等。
并且，所述“烷基”可具有1～20个碳原子，例如，可以具有1～12个碳原子、1～6个碳原子、或1～4个碳原子。
此外，在本发明中，“环烷基”是指衍生自单环(monocyclic)饱和烃的取代基。
所述“环烷基(cycloalkyl group)”，例如，可以为环丙基(cyclopropyl group)、环丁基(cyclobutyl group)、环戊基(cyclopentyl group)、环己基(cyclohexyl group)、环庚基(cycloheptyl group)和环辛基(cyclooctyl group)等。
并且，所述“环烷基”可具有3～20个碳原子，例如，可以具有3～12个碳原子、或3(aryl group)6个碳原子。
此外，在本发明中，“芳基(aryl group)”是指衍生自芳香烃的一价取代基。
所述“芳基”例如，可以为苯基(phenyl group)、萘基(naphthyl group)、蒽基(anthracenyl group)、菲基(phenanthryl group)、萘并萘基(naphthacenyl group)、芘基(pyrenyl group)、甲苯基(tolyl group)、联苯基(biphenyl group)、三联苯基(terphenylgroup)、苄基(chrycenyl group)、螺二芴基(spirobifluorenyl group)、荧蒽基(fluoranthenyl group)、苝基((perylenyl group)、茚基(indenyl group)、薁基(azulenyl group)、庚基(heptalenyl group)、周萘基(phenalenyl group)、菲基(phenanthrenyl group)等。
并且，所述“芳基”可具有6～30个碳原子，例如，可以具有6～10个碳原子、6～14个碳原子、6～18个碳原子、或6～12个碳原子。
另外，在本发明中，“杂芳基(heteroaryl group)”是指衍生自单环或稠环的“芳族杂环”或“杂环”。所述“杂芳基”包括氮(N)、硫(S)、氧(O)、磷(P)、硒(Se)等杂原子中一个或一个以上，例如，可以包括1个、2个、3个，或4个。
所述“杂芳基”，例如，可以为包含吡咯基(pyrrolyl group)、吡啶基(pyridylgroup)、吡啶基(pyridinyl group)、哒嗪基(pyridazinyl group)、嘧啶基(pyrimidinylgroup)、吡嗪基(pyrazinyl group)、三唑基(triazolyl group)、四唑基(tetrazolylgroup)、苯并三唑基(benzotriazolyl group)、吡唑基(pyrazolyl group)、咪唑基(imidazolyl group)、苯并咪唑基(benzimidazolyl group)、吲哚基(indolylgroup)、吲哚啉基(indolinyl group)、异吲哚基(isoindolyl group)、吲哚嗪基(indolizinyl group)、嘌呤基(purinyl group)、吲唑基(indazolyl group)、喹啉基(quinolyl group)、异喹啉基(isoquinolinyl group)、喹嗪基(quinolizinyl group)、酞嗪基(phthalazinyl group)、萘啶基(naphthylidinyl group)、喹喔啉基(quinoxalinyl group)、喹唑啉基(quinazolinyl group)、噌啉基(cinnolinyl group)、哌啶基(pteridinyl group)、咪唑并三嗪基(imidazotriazinyl group)、吖啶基(acridinyl group)、菲啶基(phenanthridinylgroup)、咔唑基(carbazolyl group)、咔唑啉基(carbazolinyl group)、嘧啶基(pyrimidinyl group)、菲咯啉基(phenanthrolinyl group)、吩嗪基(phenazinyl group)、咪唑并吡啶基(imidazopyridinyl group)、咪唑并嘧啶基(imidazopyrimidinyl group)、吡唑并吡啶基(pyrazolopyridinyl group)等的含氮杂芳基；包含噻吩基(thienylgroup)、苯并噻吩基(benzothienyl group)、二苯并噻吩基(dibenzothienyl group)等的含硫杂芳基；呋喃基(furyl group)、吡喃基(pyranyl group)、环戊炔基(cyclopentapyranyl group)、苯并呋喃基(benzofuranyl group)、异苯并呋喃基(isobenzofuranyl group)、二苯并呋喃基(dibenzofuranyl group)、苯并二氧杂环戊烯基(benzodioxole group)、苯并三氧杂环戊烯基(benzotrioxole group)等的含氧杂芳基。
另外，所述“杂芳基”，例如，具体可以为包含噻唑基(thiazolyl group)、异噻唑基(isothiazolyl group)、苯并噻唑基(benzothiazolyl group)、苯并噻二唑基(benzothiadiazolyl group)、吩噻嗪基(phenothiazinyl group)、异恶唑基(isoxazolylgroup)、呋喃基(furazanyl group)、苯氧嗪基(phenoxazinyl group)、恶唑基(oxazolylgroup)、苯并恶唑基(benzoxazolyl group)、恶二唑基(oxadiazolyl group)、吡唑并恶唑基(pyrazoloxazolyl group)、咪唑并噻唑基(imidazothiazolyl group)、噻吩基呋喃基(thienofuranyl group)、呋喃并吡咯基和吡啶并嗪基(pyridoxazinyl group)等的2个或2个以上杂原子的化合物。
此外，“杂芳基”可具有2～20个碳原子，例如，可以具有4～19个碳原子、4～15个碳原子或5～11个碳原子。例如，当包括杂原子时，杂芳基可具有5～21个碳原子的环成员(ring member)。
并且，在本发明中，“芳烷基(aralkyl group)”是指具有一价取代基的饱和烃取代基，所述一价取代基衍生自与末端烃的氢位键合的芳烃。即，“芳烷基”是指其链端被芳基取代的烷基，例如，可以为苄基(benzyl group)、苯乙基(phenethyl group)、苯丙基(phenylpropyl group)、萘基甲基(naphthalenyl methyl group)、萘乙基(naphthalenylethyl group)等。
以下，将详细描述本发明。
〈光学制品〉
在本发明的一个实施例中，包括含有以上的近红外线吸收染料的透明基材，该透明基材在380nm～1,200nm的波长范围内用分光光度计测量吸收光谱(absorbancespectrum)时具有包括以下第一吸收峰和第二吸收峰的两个或以上的吸收峰：
第一吸收峰在650nm～750nm的波长范围内具有最大吸收值(λMax1)，
第二吸收峰在830nm～980nm的波长范围内具有最大吸收值(λMax2)，且
当将所述第一吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD1)归一化为1时，第二吸收峰的吸收最大处的光密度值(OD2)满足下式1：
【式1】
0.03<OD2<0.36。
为了使应用固态图像拾取元件的成像装置获取到如同人眼所见般的色彩自然的图像，有必要提供一种光学制品，该光学制品可以屏蔽传感器检测到的近红外区域的波长在800nm～1,000nm范围内的光，并且透射波长在400nm～600nm范围内的光以近似于人的视感度。该光学制品可以例如是反射型近红外屏蔽过滤器或吸收型近红外屏蔽过滤器，反射型近红外光学滤波器由于光学滤波器和CIS的微透镜(microlens)之间的内部反射产生严重的重影现象，因此具有不能应用于500万或500万以上像素的相机模组的限制。此外，使用了含有以二价的铜离子为着色成分的氟磷酸盐玻璃的吸收型近红外屏蔽过滤器，由于材料特性上的耐久性低，难以使其变薄，并易碎；并且，还存在难以选择性地抑制波长在800nm～1,000nm范围内的光透射率的限制。
为了克服该问题，根据本发明的光学制品可以具有一种或多种类型的近红外线吸收染料。所述光学制品包括一种或多种类型的近红外线吸收染料，并对于具有可见光区域中的波长的光显示出高透射率，同时通过对于波长在800nm～1,000nm范围内的光透射率的抑制，可以减小光学滤波器中所具有的选择性波长反射层的厚度，从而可以容易地减小光学滤波器的厚度。
其中，所述光学制品可以在650nm～750nm的波长范围和830nm～980nm的波长范围中分别具有一个或一个以上的吸收峰，所述吸收峰可以包括具有最大吸收(λmax)的第一吸收峰和最大吸收(λmax2)的第二吸收峰。并且，为了使所述第一吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD1)归一化为1，可以使在第二吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD2)大于0.03且小于0.36,具体地，为0.035～0.05、0.08～0.12、0.18～0.24、0.34～0.35、0.04～0.35、0.05～0.3、0.1～0.3、0.15～0.25、或0.2～0.30可满足式1。优选的，所述第二吸收峰在最大吸收处的光密度值为(OD2)为0.18～035可满足式1的条件。根据本发明的光学制品可包括透明基材，并且所述透明基材可具有包括一种或多种类型的近红外线吸收染料的结构，该近红外线吸收染料吸收波长在600nm～1,000nm范围内的光。
图1为根据本发明的光学制品的结构的剖面图。如图1(a)～(c)所示，所述光学制品可包括透明基材(10)，并且所述透明基材(10)可包括近红外线吸收染料(11)和基材层(12)。此时，所述近红外线吸收染料(11)如图1的(a)和(b)所示，可以包含在基材层(12)的一个表面和/或两个表面上形成的红外吸收层中，或如图1(c)所示，可以以均匀分散的形式包含在基材层(12)中。
以下，将按照各个组成要素，对根据本发明的光学制品所具有的透明基材(10)进行详细的说明。
首先，在根据本发明的透明基材中，基材层(12)作为透明基材和包括该透明基材的光学滤波器的基板，只要其是透明的即可，并不受特别限制。
所述基材层(12)可以使用本领域中已知的各种材料，并且可以根据所需的功能和用途等进行适当地选择和使用。基材层(12)例如可以选自玻璃和高分子树脂中的一种或多种树脂。另外，所述高分子树脂，例如，可以为聚酯基树脂、聚碳酸酯基树脂、丙烯酸基树脂、丙烯酸基树脂、聚烯烃基树脂、聚酰亚胺基树脂、聚酰胺基树脂和聚氨酯基树脂，所述树脂可以以单层片、层叠片或共挤(coextrusion)片的形式使用。
另外，所述基材层(12)根据示例的形态，由高分子树脂构成，并且基体树脂可以包括有利于耐热性的聚酯基树脂。并且，所述聚酯基树脂，例如，可以为选自聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET:Polyethylene Terephthalate)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN:PolyethyleneNaphthalate)和聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBTT:Polybutylene Terephthalate)中的一种或多种，但不限于此。另外，另一个例中，基材层(12)可以选择聚烯烃基树脂，所述聚烯烃基树脂可以例如为聚丙烯(PP)等。
接下来，在根据本发明的透明基材中，近红外线吸收染料(11)不受特别限制，只要为吸收波长在600nm～1,000nm范围内的光的染料、颜料和/或金属络合物都可使用。
作为一个示例，当使用分光光度计在380nm～1,200nm的波长范围内测量吸收光谱时，所述近红外线吸收染料(11)可以包括在650nm～750nm波长范围内和830nm～980nm波长范围内具有最大吸收值的染料，具体地，可以包括在650nm～750nm波长范围和830nm～980nm波长范围内分别具有最大吸收(λMax1和λMax2)的第一染料和第二染料。
其中，如上述说明所述，当所述近红外线吸收染料(11)被包含在形成在基材层(12)的一面上的近红外线吸收层(13)中，或在基材层(12)中以分散的形式存在时，第一和第二染料可以以均匀混合的形式使用(参见图1的(a)和(c))。另外，当所述近红外线吸收染料(11)被包含在形成在基材层(12)的两面上形的近红外线吸收层(13a和13b)中时，第一染料和第二染料可以分别单独使用或以均匀混合的形式用于每个吸收层(13a和13b)中(参见图1的(b))。
此外，所述近红外线吸收染料(11)例如，可以为花青化合物，酞菁化合物，萘酞菁化合物，卟啉化合物，苯并卟啉化合物，方酸化合物，蒽醌化合物，发色化合物，二亚铵化合物，二硫醇金属络合物等。作为一个示例，所述近红外线吸收染料(11)可选择性地包括以下化学式1和化学式2中的所出现的任何一种或多种作为第一染料和第二染料：
在所述化学式1和化学式2中，
【化学式1】
【化学式2】
在所述化学式1和化学式2中，
A为氨基苯基、吲哚基亚甲基、或吲哚啉基，
并具有两个A以为中心呈相互共轭(conjugation)的结构，
存在于所述氨基苯基、吲哚基亚甲基、或吲哚啉基中的任何一个或多个氢原子分别独立为氢、卤素基、羟基、氰基、硝基、羧基、具有1～20个碳原子的烷基、具有3～20个碳原子的环烷基、具有1～10个碳原子的烷氧基、具有7～20个碳原子的芳烷基、酰胺基，或被具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的卤代烷基或具有7～20个碳原子的芳烷基取代或未取代的酰胺基；
B1、B2、B3、B4、B5、B6、B7、B8、B9、B10、B11、B12、B13、B14、B15和B16可以分别独立为氢、卤素基、羟基、氰基、硝基、羧基、苯氧基、苯硫基、具有1-20个碳原子的烷基、具有3-20个碳原子的环烷基、具有1-10个碳原子的烷氧基、具有1-10个碳原子的烷基胺基、或具有7-20个碳原子的芳烷基，
存在于所述苯氧基、苯硫基、具有1～20个碳原子的烷基、具有3～20个碳原子的环烷基、具有1～10个碳原子的烷氧基、具有1～10个碳原子的烷基胺基、或具有7～20个碳原子的芳烷基中的任何一个或多个氢原子可以被卤素基、羟基、氰基、氨基苯基、苯氧基、苯硫基、吲哚基、二氢吲哚基、吡啶基、具有1～10个碳原子的烷基、具有1～6个碳原子的卤代烷基、或具有7～20个碳原子的芳烷基取代或非取代；
M为铜、锌、镍、钛、钒、铟、镓、铂、硅、氧钛或氧钒。
具体地，所述化学式1可以是以下化学式(1a)～(1c)表示的化合物中的任何一种：
【化学式1a】
【化学式1b】
【化学式1c】
在所述化学式(1a)～(1c)中，
a1，a2和a3分别为氢、卤素基、羟基、氰基、硝基、羧基、具有1～10个碳原子的烷基、具有3～10个碳原子的环烷基、具有1～6个碳原子的烷氧基、具有7～20个碳原子的芳烷基、磺酰胺基，或被具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的卤代烷基或具有7～20个碳原子的芳烷基取代或未被取代的酰胺基。
此外，所述近红外线吸收染料(11)的含量相对于100重量份的构成近红外线吸收层(13、13(a)、13(b))的基质的树脂，可以为0.01～10.0重量份、0.01～8.0重量份、或0.01～5.0重量份。
〈光学滤波器〉
另外，在本发明的一个实施例中，提供一种包括所述光学制品的光学滤波器。
作为一个示例，根据本发明的所述光学滤波器包括：透明基材，其包含一种或多种类型的近红外线吸收染料；选择性波长反射层，其形成在所述透明基材的一面或两面上，当使用分光光度计测量波长在380nm～1,200nm范围内的透射光谱时，可以满足以下条件(A)和(B)：
(A)在800nm～1,000nm的波长范围内，垂直于光学滤波器的方向入射的光的最大透射率为0.3％或以下，
(B)在800nm～1000nm的波长范围内，相对于垂直于光学滤波器的方向，以30°的角度入射的光的最大透射率为0.6％或以下。
根据本发明的光学滤波器包括含有第一和第二染料的光学制品，所述第一和第二染料分别在650nm～750nm的波长范内和830nm～980nm的波长范围内具有吸收峰，入射到光学滤波器的光与入射角(与光学滤波器的垂直方向形成的角度)，即，在与视角无关，在可见光区域的430nm～565nm的波长范围中表现出约90％或更高的光透射率。
此外，所述光学滤波器无论波长在800nm～1,000nm范围内的光入射角如何，可以抑制透射率，以1％或更小、0.9％或更小、0.8％或更小、0.7％或更小、或者0.6％或更小的最大透射率透射。特别地，所述光学滤波器对入射角为30°的光的最大透射率为0.6％或更小、0.55％或0.5％或更小，平均透射率为0.3％或更小、0.2％或0.1％或更小。例如，以所述光学滤波器为对象，使用分光光度计测量波长在300nm～1,200nm范围内的，入射角分别为0°和30°的光的光谱时，将波长在800nm～1,000nm范围内的光的最大透射率分别抑制到0.1％或更低和0.5％或更低，可以满足所述(A)和(B)的条件。
这意味着，由于根据本发明的光学滤波器包括所述光学制品，所以对具有可见光区域的波长的光表现出高透射率，同时可以将波长在800nm～1,000nm范围内的光透射率抑制至0.6％或更低。
图2是一个实施例中，根据本发明的光学滤波器的结构的剖视图。如图2所示，根据本发明的光学滤波器包括透明基材(10)，该透明基材包括近红外线吸收染料(11)和基材层(12)，并具有包括位于透明基材的一面和/或两面的选择性反射层(20和/或30)的结构。
以下，将参照图2，对本发明的光学滤波器的各个部件进行更详细地说明。
首先，在根据本发明的光学滤波器中，透明基材(10)包括基材层(12)，并作为光学滤波器的基板。所述透明基材(10)，即光学制品可以包括一种或多种类型的近红外线吸收染料,还可以包括在650nm～750nm的波长范围和830nm～980nm的波长范围内分别具有最大吸收值的两个或两个以上的吸收峰，所述吸收峰可以包括第一吸收峰和第二吸收峰。并且，当第一吸收峰在最大吸收处的光密度值OD1归一化为1时，第二吸收峰在最大吸收处的光密度OD2可以大于0.03且小于0.36，具体地，为0.035～0.05、0.08～0.12、0.18～0.24、0.34～0.35、0.04～0.35、0.05～0.3、0.1～0.3、0.15～0.25、或0.2～0.3，可以满足式(1)。优选地，第二吸收峰的最大吸收值处的光密度值(OD2)为0.18～0.35，可以满足式(1)的条件。在所述条件下，可以选择性地和/或有效地吸收波长为700nm或更大的光，具体地，波长在800nm～1,000nm范围的光，并且对可见光区域中的光具有高透射率。
接下来，在根据本发明的光学滤波器中，选择性波长反射层(20和30)可以起到反射入射到光学滤波器上的光中波长为700nm或更大，具体地，波长为700nm～1,100nm范围的光，并屏蔽上述范围的光入射到图像传感器上，或防止波长为400nm～700nm的范围内的可见光区域中的光的反射的作用。即，所述选择性波长反射层(20和30)可起到反射近红外线的近红外反射层(Infrared Reflective layer，IR层)的作用，和/或防止可见光反射的抗反射层(Anti-Reflection layer，AR层)的作用。
此时，所述选择性波长反射层(20和30)可以具有高折射率层和低折射率层交替层压的电介质多层膜的结构，并且还可以包括树脂膜，该树脂膜中分散有铝金属化膜、贵重金属薄膜、氧化铟和氧化锡中一种或以上的细颗粒。例如，所述选择性波长反射层(20和30)可以为具有第一折射率的介电层(未示出)与具有第二折射率的介电层(未示出)交替层压的结构，所述具有第一折射率的介电层和具有第二折射率的介电层的折射率偏差可以为0.2或更大、0.3或更大、或者0.2～1.0。
并且，所述选择性波长反射层(20和30)的高折射率层和低折射率层没有特别限制，只需要高折射率层和低折射率层的折射率偏差在上述范围内，具体地，高折射率层可以包括折射率为1.6～2.4的氧化钛、氧化铝、氧化锆、五氧化二钽、五氧化二铌、氧化镧、氧化钇、氧化锌、硫化锌和氧化铟中的一种或多种，所述氧化铟还可包含少量氧化钛、氧化锡、氧化铈等。低折射率层可包括折射率为1.3～1.6的二氧化硅、氟化镧、氟化镁和六氟化铝(氰化物，Na3AlF6)中的一种或多种。
此外，选择选择性波长反射层(20和30)可以形成在透明基材(10)的一面上；也可以根据情况，在透明基材(10)的两面上形成第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层(20和30)，第一选择性波长反射层位于透明基材(10)的第一主表面上，第二选择性波长反射层位于透明基材(10)的第二主表面上。
并且，在一个实施例中，当所述选择性波长反射层包括第一选择性波长反射层和第二选择波反射层(20和30)时，各个选择性波长反射层(20和30)的厚度可以满足以下式3：
【式3】
0.8<D1/D2<1.2，
在式3中，D1表示第一选择性波长反射层的厚度，D2表示第二选择性波长反射层的厚度。
具体地，第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层(20和30)的厚度比为0.8～1.2、0.8～1.0、0.9～1.1、1.0～1.2、0.85～1.0、或者1.1～1.2，可以满足式3的条件。
作为另一个示例，当所述选择性波长反射层包括第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层(20和30)时，每个选择性波长反射层(20和30)可以具有30层或更少的电介质多层结构，可以满足式4的条件：
在式4中，P1表示形成第一选择性波长反射层的电介质多层膜的层压数，P2表示形成第二选择性波长反射层的电介质多层膜的层压数。
具体地，第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层(20和30)具有30层或更少、29层或更少、28层或更少、27层或更少、26层或更少、或者25层或更少的电介质多层膜结构，其中各层数的偏差小于6层，为1～5层、2～5层、3～5层、1～3层、0～3层、或2～4层，可以满足上述式(4)的条件。
本发明通过将第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层(20和30)的层压数的偏差和厚度的比率控制在上述范围内，具有可以改善在光学滤波器制造中出现的翘曲现象，从而可以防止具有光学滤波器的成像装置由于光学滤波器的翘曲所导致的装配不良的优点。
传统的光学滤波器形成厚的电介质多层膜结构的近红外线反射层，可以阻挡波长为700nm或以上的光。但是，传统的光学滤波器的性能不足以屏蔽是波长范围为800nm～1,000nm的光，并且由于形成的厚的电介质多层膜，从而导致发生重影现象，并难以变薄，所以实现包含该光学滤波器的成像装置的小型化存在限制。
但是，根据本发明的光学滤波器，透明基材(10)包括基材层(12)和一种或以上的吸收近红外线的近红外线吸收染料(11)，即，通过提供根据本发明的光学制品，可以有效地阻挡波长为800nm或更大的光，使选择性波长反射层(20和30)的层数和厚度减小到上述范围，从而不仅改善了重影现象，也易于使光学滤波器变薄。此外，所述光学滤波器的优点还在于，控制选择性波长反射层的层压数和厚度以改善在制造光学滤波器时发生的光学滤波器的的翘曲现象。
<固态成像装置>
此外，在本发明的一个实施例中，提供了一种包含光学滤波器的成像装置。
根据本发明的成像装置包含具有光学制品的根据本发明的光学滤波器，该光学制品包含在650nm～750nm波长范围内具有最大吸收值的第一染料，和在830nm～980nm波长范围内具有最大吸收值的第二染料，并且由于对具有可见光区域中的波长的光表现出高透射率，并可将波长范围为800nm～1,000nm的光透射率抑制至0.6％或更低，从而不仅可以抑制图像拍摄时的重影现象，还由于可以减小光学滤波器中的选择性反射层的厚度，因此具有有利于减小光学滤波器的厚度和成像装置的尺寸的优点。另外，因为在光学滤波器的制造中发生的翘曲现象得到改善，所以可以降低组装过程中的组装缺陷率，从而提高产量和生产率。
因此，所述固态图像拾取传感器可以容易地活用在应用固态成像装置的电子装置上，例如，数字静态相机、移动电话的相机、数字视频相机、PC相机、监控摄相机、汽车用照相机、便携式信息终端、个人电脑、视频游戏、医疗设备、USB存储器、便携式游戏机、指纹认证系统、数字音乐播放器等。
以下，将根据制备实施例、实施例和实验例，对本发明进行更详细的说明。
但是，以下制备实施例，实施例和实验例仅仅是本发明的示例，本发明的内容不受以下制备实施例，实施例和实验例限制。
制备实施例1-4
作为根据本发明的制备实施例，如下所述制备具有第一和第二吸收峰的光学制品。
基于100重量份的树脂，将702±5nm和905±5nm的波长范围内分别具有最大吸收值的近红外线吸收剂(A)和近红外线吸收剂(B)按以下表1中所示的含量混合。此时，使用聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)树脂作为树脂，并使用环己酮(cyclohexanone)作为有机溶剂。然后，用搅拌器搅拌24小时或以上时间以制备近红外线吸收溶液。将制备的近红外吸收溶液涂布到厚度为0.1mm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(PET膜，购自Toyo Spinning Company，商品名：A4100)的两面，之后在120℃下固化50分钟，如图1(b)所示，制成在两面形成近红外线吸收层的光学制品。此时，在702±5nm和905±5nm的波长范围内分别具有最大吸收值的近红外线吸收剂(A)和近红外线吸收剂(B)分别使用化学(1)和化学式2所示的近红外线吸收染料。
【表1】
为了对根据本发明的制备实施例1～4制备的光学制品的光密度(OD)分别进行评价，使用分光光度计测量在380nm～1,200nm波长范围内的波长的吸收光谱。根据测得的光密度结果，得到在650nm～750nm的波长范围内具有最大吸收值的峰(第一吸收峰)的最大吸收处的光密度，和在830nm～980nm的波长范围内具有最大吸收值的峰(第二吸收峰)的最大吸收处的光密度，计算当所述第一吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD1)为1，所述光密度归化为曲线时的第二吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD2)。结果如上表1所示。另外，根据上述表1中所示的制备实施例的各个光学制品的光密度曲线示于图4中。参见表1和图4，可以看出光密度值(OD2)的范围为0.04～0.35。
实施例1～7
在110±5℃的温度下，使用电子束蒸发器(E-beam evaporator)在所述制备实施例1～4中准备的光学制品的第一主表面上交替沉积SiO2和Ti3O5，形成电介质多层结构的第一选择性波长反射层。之后，通过电子束蒸发器(E-beam evaporator)，在110±5℃温度下，在的光学制品的第二主表面上交替沉积SiO2和Ti3O5，形成电介质多层结构的第二选择性波长反射层，制造出具有如图2(c)所示结构的光学滤波器。此时，层压后的第一选择波反长反射层和第二选择波反长反射层的层压数和厚度示于以下表2中。其中，所述厚度分别为第一择性波长反射层和第二选择性波长反射层的总厚度，单位为微米(μm)。
【表2】
参照表2，实施例1～7中，根据本说明书的[式3]可知，|D1/D2|的数值为0.8～1.2，具体地，范围为0.82～1.15。另外，实施例1～7中，根据本说明书的[式4]可知，|P1-P2|的数值为0～6,具体地，范围为0～5。
第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层，例如，可以为SiO2和Ti3O5交替层压的结构。第一选择性波长反射层为23～31层结构，厚度范围为2.8～3.9μm，第二选择性反射层为26～28层结构，厚度范围可以为3.1～3.4μm。根据所述光学滤波器的第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层的示例，所述实施例1所应用的第一择性波长反射层和第二择性波长反射层的层压结构和厚度分别示于表3和4中。
【表3】
【表4】
另外，上述表3中所示的第一选择性波长反射层的光谱透射率示于图5中，表4中所示的第二选择性波长反射层的光谱透射率示于图6中。
比较制备实施例1～3
除了在702±5nm波长范围内具有最大吸收值的近红外线吸收剂A和在905±5nm波长范围内具有最大吸收值的近红外线吸收剂B的含量，通过与上述制备实施例1～4的基本相同的方式，制备根据比较制制备实施例1-3的光学产品。此时，近红外线吸收剂A和近红外线吸收剂B的含量示于以下表5中。
【表5】
用与根据上述制备实施例1～34测量光学制品的光密度的方法基本相同的方式，计算出根据比较制备实施例1～33的光学制品的光密度值。结果如上述表5所示。另外，表5中所示的，对比制备实施例1～3的各个光学制品的光密度曲线示于图3中。参见表5和图5，可以看出光密度值OD2在0.04至0.35的范围之外。
比较例1～6
在110±5℃的温度下，使用电子束蒸发器(E-beam evaporator)在所述比较例1～3中准备的光学制品的第一主表面上交替沉积SiO2和Ti3O5，形成电介质多层结构的第一选择性波长反射层。之后，在110±5℃温度下，用电子束蒸发器(E-beam evaporator)在的光学制品的第二主表面上交替沉积SiO2和Ti3O5，形成电介质多层结构的第二选择性波长反射层，制造出具有如图2(c)所示结构的光学滤波器。此时，层压后的第一选择波反长反射层和第二选择波反长反射层的层压数和厚度示于以下表6中。其中，所述厚度分别指第一择性波长反射层和第二选择性波长反射层的总厚度，单位为微米(μm)。
【表6】
参照表6，从比较例1～3中可知，根据本说明书的式[3]，|D1/D2|的数值范围超出0.8～1.2。并且，从比较例1和2中可知，根据本说明书的式[4]，|P1-P2|的数值范围超出0～6。
实验例1
通过进行以下实验，评价根据本发明的光学滤波器的入射角的透射率，进行以下实验。
使用分光光度计测量实施例2,5～7和比较例4～6中制备的光学滤波器在380nm～1,200nm的波长范围内的透射光谱。
测量从光学滤波器的垂直方向入射的光(入射角：0°)的透射率，以及从与光学滤波器的垂直方向呈30°角的方向入射的光(入射角：30°)的透射率，得到入射角的可见光和近红外线的透射率。所述结果如以下表7和图7-10所示。其中，可见光平均透射率是指在430～565nm波长范围内的各个波长的透射率的算术平均值，近红外线平均透射率是指在800～1,000nm波长范围内的各个波长的透射率的算术平均值，近红外线最大透射率是指在800～1,000nm波长范围内的透射率的最大值。
另外，所述表7示出了实施例2,5～7和比较例4～6中，使用的每种光学制品的光密度值OD2。
【表7】
如上述表7和图7-10所示，根据本发明的光学滤波器对可见光区域中的光具有优秀的透射率，并且能有效地阻挡波长为800nm或以上的光。
具体地，如表7所示，入射角为0°时，在实施例2和5～7中制造的光学滤波器对以0°入射角入射的波长在800nm～1,000nm范围内的光，和以30°入射角入射的波长在800nm～1,000nm范围内的光的近红外线最大透射率分别为0.1％或更低和0.6％更低，在两种情况下，都显示出了0.6％以下的非常低的透射率。另一方面，使用光密度值OD2为0.00的光学制品的比较例4的光学滤波器和使用光学值OD2为0.02的光学制品的比较例6的光学滤波器对入射角为30°的光的最大透射率超过0.6％。当超过0.6％时，则在室外自然光或室内照明光下的拾取图像时，极可能出现重影现象。
另外，参考图7和图10，实施例2和5～7中制造的光学滤波器，当可见光区域的波长范围为430nm～565nm的光以0°的入射角为入射时，平均透射率为80％或更高。尤其，以30°的入射角入射的光，可以确定平均透射率为70％或更高。另一方面，使用光密度值(OD2)为0.60的光学制品的比较例5的光学滤波器，以30°入射角入射的光的平均透射率小于70％。如果在可见光区域中透射率降低至70％或更低，则在拾取图像时，极有可能发生重影现象。
从该结果可知，根据本发明的光学滤波器对可见光区域中的光具有优秀的透射率，并且能有效地阻挡波长为800nm或以上的光。
另外，可以看出，使用根据本发明的光密度值(OD2)在0.03～0.36的范围内的光学制品的光学滤波器，具有高可见光透射率，并且对波长为800nm或以上的光具有优异的屏蔽性能。
实验例2
通过进行以下实验，评价根据本发明的光学滤波器的翘(warpage)曲度。
使用超精密3-D表面光度仪(Ultra accuracy 3-D profilometer,UA3P-300,Panasonic Corporation)测量实施例1～4和比较例1～3中制备的光学滤波器(宽3mm×长3mm)的翘曲的翘曲度和方向。具体地，固定光学滤波器的第一选择波反射层，使其接触光度仪的水平面，并且基于水平面，测量位于固定的光学滤波器表面的点的高度。此时，固定光学滤波器的腔室的温度为23℃，相对湿度为60％，振动加速度为0.5cm/s2，测量结果示于下表8中。
【表8】
| 光学滤波器 | D1/D2 | │P1-P2│ | 翘曲度(μm) | 组装缺陷率(％) |
| 实施例1 | 0.82 | 5 | 7.0 | 0 |
| 实施例2 | 0.90 | 3 | 4.2 | 0 |
| 实施例3 | 1.03 | 0 | 0.0 | 0 |
| 实施例4 | 1.15 | 3 | -4.9 | 0 |
| 比较例1 | 0.78 | 7 | 10.4 | 4 |
| 比较例2 | 0.74 | 9 | 13.9 | 7 |
| 比较例3 | 1.26 | 5 | -7.2 | 1 |
如表8所示，可以看出，根据本发明的光学滤波器可以通过控制选择性波长反射层的层压层数和厚度来改善翘曲。
具体地，在光学制品表面形成的第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层的层压层数的偏差(|P1-P2|)小于6层；厚度比(D1/D2)超过0.8且小于1.2的实施例1～4的光学滤波器，其翘曲度均为约7.0μm或更小，与方向无关。
另一方面，可以确定第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层的层压层数的偏差(|P1-P2|)超过6层；或厚度比(D1/D2)小于0.8或超过1.2的比较例1～3的光学滤波器，会发生超过7.0μm的严重翘曲现象。
另外，表8示出了在成像装置中组装实施例1～4和比较例1～3中制造的光学滤波器(宽5.7mm×宽4.6mm)时，在组装过程中的组装缺陷率。根据上述表8的翘曲度测量结果可知，当翘曲度超过7.0μm时，在组装过程中缺陷率增加。该结果可以通过调节在光学制品表面上形成的第一选择性波长反射层和第二选择性波长反射层的层压层数的偏差和厚度比来改善光学滤波器的翘曲现象，减小在组装成像装置过程中的组装缺陷率，从而可以提高产量和生产率。
实验例3
通过进行以下实验，以评价根据本发明的光学滤波器的图像质量。
使用由配备有根据本发明的示例7的光学滤波器的相机模块制造的成像装置拍摄图像。并且，为了对图像质量进行对比评价，在镜头和图像传感器仍留在相机模块中的状态下，用替换了根据本发明的比较例6的光学滤波器的成像装置对相同的对象拍摄图像。室内照明灯的拍摄图像如图10所示。图11(b)示出了用配备有根据比较例6的光学滤波器的成像装置拍摄的图像，在图像的中央下部区域中，可以看到严重的重影现象。相反，参照图11(a)，在用配备有根据本发明实施例7的光学滤波器的成像装置拍摄的图像中，没有出现重影现象。
因此，根据本发明的光学滤波器对于具有可见光区域波长的光表现出高透射率，并且将波长在800nm～1,000nm范围内的光透射率抑制至0.6％或更小，从而可以防止重影现象。另外，由于可以控制选择性波长反射层的层压层数和厚度，以改善光学滤波器的翘曲现象，因此具有在成像装置的组装过程中，可以明显着降低由于光学滤波器的翘曲导致的组装缺陷率的优点。
Claims (14)
1.一种光学制品，其包括含有一种或多种类型的近红外线吸收染料的透明基材，用分光光度计在380nm～1,200nm的波长范围内所测量的吸收光谱具有包括以下的第一吸收峰和第二吸收峰的两个或以上的吸收峰，其中所述第一吸收峰在650nm～750nm的波长范围内具有最大吸收值(λMax1)，所述第二吸收峰在830nm～980nm的波长范围内具有最大吸收值(λMax2)，
当将所述第一吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD1)归一化为1时，所述第二吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD2)满足以下式1：
【式1】
0.03<OD2<0.36。
2.根据权利要求1所述的光学制品，其特征在于，所述第二吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD2)满足以下式2：
【式2】
0.18≤OD2≤0.35。
3.根据权利要求1所述的光学制品，其特征在于，所述透明基材包含玻璃和高分子树脂中的至少一种材料。
4.根据权利要求3所述的光学制品，其特征在于，所述高分子树脂是选自聚酯基树脂、聚碳酸酯基树脂、丙烯酸基树脂、丙烯酸基树脂、聚烯烃基树脂、聚酰亚胺基树脂、聚酰胺基树脂和聚氨酯基树脂中的一种或多种树脂。
5.根据权利要求1所述的光学制品，其特征在于，所述近红外线吸收染料包括：
在650nm～750nm波长范围内具有最大吸收值的第一染料；和
在830nm～980nm波长范围内具有最大吸收值的第二染料。
6.根据权利要求1所述的光学制品，其特征在于，所述红外线吸收染料包括以下化学式1和化学式2所示出的化合物中的任一种或多种染料：
[化学式1]
[化学式2]
在所述化学式1和化学式2中，
A为氨基苯基、吲哚基亚甲基或吲哚啉基，
并具有两个A以为中心呈相互共轭(conjugation)的结构，
存在于所述氨基苯基、吲哚基亚甲基、或吲哚啉基中的任何一个或多个氢原子分别独立为氢、卤素基、羟基、氰基、硝基、羧基、具有1～20个碳原子的烷基、具有3～20个碳原子的环烷基、具有1～10个碳原子的烷氧基、具有7～20个碳原子的芳烷基、酰胺基，或被具有1～4个碳原子的烷基、具有1～4个碳原子的卤代烷基或具有7～20个碳原子的芳烷基取代或未取代的酰胺基；
B1、B2、B3、B4、B5、B6、B7、B8、B9、B10、B11、B12、B13、B14、B15和B16分别独立为氢、卤素基、羟基、氰基、硝基、羧基、苯氧基、苯硫基、具有1-20个碳原子的烷基、具有3-20个碳原子的环烷基、具有1-10个碳原子的烷氧基、具有1-10个碳原子的烷基胺基、或具有7-20个碳原子的芳烷基，
存在于所述苯氧基、苯硫基、具有1～20个碳原子的烷基、具有3～20个碳原子的环烷基、具有1～10个碳原子的烷氧基、具有1～10个碳原子的烷基胺基、或具有7～20个碳原子的芳烷基中的任何一个或多个氢原子被卤素基、羟基、氰基、氨基苯基、苯氧基、苯硫基、吲哚基、二氢吲哚基、吡啶基、具有1～10个碳原子的烷基、具有1～6个碳原子的卤代烷基、或具有7～20个碳原子的芳烷基取代或非取代；
M为铜、锌、镍、钛、钒、铟、镓、铂、硅、氧钛或氧钒。
7.根据权利要求1所述的光学制品，其特征在于，所述透明基材包括：
基材层；和
形成于所述透明基材层的一面或两面上且含有近红外线吸收染料的近红外线吸收层。
8.根据权利要求1所述的光学制品，其特征在于，所述透明基材包括：
基材层；和
分散在所述基材层中的近红外线吸收染料。
9.一种光学滤波器，其包括根据权利要求1～8中任一项所述的光学制品。
10.一种光学滤波器，包括：
透明基材，其包含一种或多种类型的近红外线吸收染料；
选择性波长反射层，其形成在所述透明基材的一面或两面上，
当使用分光光度计测量波长在380nm～1,200nm范围内的透射光谱时满足以下条件(A)和(B)：
(A)在800nm～1,000nm的波长范围内，垂直于光学滤波器的方向入射的光的最大透射率为0.3％或以下，
(B)在800nm～1000nm的波长范围内，相对于垂直于光学滤波器的方向，以30°的角度入射的光的最大透射率为0.6％或以下。
11.根据权利要求10所述的光学滤波器，其特征在于，当用分光光度计在380nm～1,200nm的波长范围内测量吸收光谱时，所述透明基材具有包括以下第一吸收峰和第二吸收峰的两个或以上的吸收峰，
第一吸收峰在650nm～750nm的波长范围内具有最大吸收值(λMax1)，
第二吸收峰在830nm～980nm的波长范围内具有最大吸收值(λMax2)，
当将所述第一吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD1)归一化为1时，第二吸收峰在最大吸收处的光密度值(OD2)满足以下式1：
【式1】
0.03<OD2<0.36。
12.根据权利要求10所述的光学滤波器，其特征在于，所述光学滤波器包括：
在所述透明基材的第一主表面上形成的第一选择性波长反射层；和
在所述透明基材的第二主表面上形成的第二选择性波长反射层，
并满足以下式3：
【式3】
0.8<D1/D2<1.2，
在式3中，D1表示第一选择性波长反射层的厚度，D2表示第二选择性波长反射层的厚度。
13.根据权利要求10所述的光学滤波器，其特征在于，
所述第一选择性波长反射层和所述第二选择性波长反射层分别由电介质多层膜构成，
并满足以下式4：
【式4】
0≤|P1-P2|<6‘
在式4中，P1表示形成第一选择性波长反射层的电介质多层膜的层压数，P2表示形成第二选择性波长反射层的电介质多层膜的层压数。
14.一种固态成像装置，其包括根据权利要求10～13中的任一项所述的光学滤波器。
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