CN109407465A - 光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法 - Google Patents

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CN109407465A CN201710707035.2A CN201710707035A CN109407465A CN 109407465 A CN109407465 A CN 109407465A CN 201710707035 A CN201710707035 A CN 201710707035A CN 109407465 A CN109407465 A CN 109407465A
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胡春青
葛庆余
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Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co Ltd
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Changzhou Tronly New Electronic Materials Co Ltd
Changzhou Tronly Advanced Electronic Materials Co Ltd
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Abstract

本发明提供了光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法。该光刻胶树脂溶液包括溶剂和光刻胶树脂，光刻胶树脂溶液还包括稳定剂，稳定剂为抗氧剂或阻聚剂。将抗氧剂或阻聚剂作为稳定剂应用至光刻胶树脂溶液中，起到了稳定作用，使得光刻胶溶液的保存稳定性得以改善。同时，该稳定剂的存在不会对后续光刻胶树脂作为光刻胶应用时的刻蚀精确度形成负面影响，因此不需要在应用时将其分离出来，即不会对光刻胶树脂的应用带来不必要的麻烦。

Description

光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法
技术领域
本发明涉及光刻材料领域，具体而言，涉及一种光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法。
背景技术
光刻胶树脂是制备光刻胶的重要原料。光刻胶广泛应用于液晶显示、平板显示等行业，其质量的好坏直接决定显示器显示效果的优劣。而光刻胶树脂的稳定性等特性直接决定光刻胶的应用效果。目前市售的光刻胶树脂，其稀释液的稳定性不是特别好，因此，如何提高光刻胶树脂的存储稳定性，从而提高光刻胶的稳定性显得十分重要。
对于试验所用的树脂，其结构表示如下式a：
式中：R1，R2，R3，R4各自独立地表示氢原子、C1-C5的烷基、卤原子或苯基等基团； R5表示H原子或甲基；A表示-CO-(羰基)、-CH2-、-SO2-、-C(CH3)2-、-O-、-S-、9,9-芴基、9，9-咔唑基等基团中的一种；X表示饱和四羧酸残基；Y1，Y2独立表示H原子、-OC-(COOH)m(m＝1,2,3)饱和羧酸基团，n为1～20中的任意一个整数。
我们根据已有文献制备的BM光刻胶树脂，结构与上述结构式类似，主要存在于红、绿、蓝各色光刻胶之间，可以有效避免串色，显著改善图像对比度，使画面色彩看起来更鲜艳；具有精确的分辨率、良好的光透性、良好的机械性能。对LCD显示器的性能同样起着至关重要的作用。
相关树脂的合成方法简述为：
以双酚类衍生物(含有两个缩水甘油醚基团的环氧化合物)与(甲基)丙烯酸反应，生成具有羟基的化合物，再以饱和二羧酸或者四羧酸及其酸酐中的至少一种反应，得到环氧丙烯酸酯和酸的加成产物，即为上式所示结构。
此处双酚类衍生物是具有式b结构特点的环氧化合物：
上式中R1，R2，R3，R4各自独立地表示氢原子、C1-C5的烷基、卤原子或苯基等基团；R5表示H原子或甲基；A表示-CO-(羰基)、-CH2-、-SO2-、-C(CH)2-、-O-、-S-、9,9-芴基和9，9-咔唑基等基团中的一种，优选的取代基团为9,9-芴基。L表示0-10中的任意一个的整数，优选为0、1或2。
另外苯酚酚醛型环氧化合物、甲酚酚醛型环氧化合物等含有两个缩水甘油醚基团的化合物，也可以应用于树脂组合物的合成。
双酚类环氧化合物式c与(甲基)丙烯酸(结构式：CH2＝CR5-COOH)，按照1/2的mol比反应，合成下述一般式式d所示的双酚型环氧丙烯酸酯。产物式d在合适溶剂中(优选丙二醇单甲醚乙酸酯)与上文提到的酸性成分加热反应，制备出式a所示的相关树脂。式中R1、R2、R3、R4、R5和A与式a中表述一致。
由于树脂组合物中存在较多的活性基团(羟基、羧基、双键等)，其存放稳定性受温度等条件影响较大，一般情况下，树脂溶液需要冷藏保存-10℃～5℃。而配成丙二醇甲醚乙酸酯 (PGMEA)稀释溶液(2％的PGMEA溶液)时，存放过程溶液很容易变浑浊，影响后期配制成光刻胶的储存和应用。
目前，自有树脂的应用效果较好，但其稀释液的存放稳定性也不理想。因此，设法提高树脂稀释液的存放稳定性，对提高光刻胶的存储稳定性和应用效果具有重要意义。
发明内容
本发明的主要目的在于提供一种光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法，以解决现有技术中光刻胶树脂存储稳定性差的问题。
为了实现上述目的，根据本发明的一个方面，提供了一种光刻胶树脂溶液，包括溶剂和光刻胶树脂，光刻胶树脂溶液还包括稳定剂，稳定剂为抗氧剂或阻聚剂。
进一步地，上述稳定剂的用量为溶剂和光刻胶树脂总质量的0.001～0.10％。
进一步地，上述稳定剂的用量为溶剂和光刻胶树脂总质量的0.01～0.03％。
进一步地，上述光刻胶树脂具有以下结构式：
其中，R1、R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、C1-C5的烷基、卤原子和苯基中的任意一种；R5表示H原子或甲基；A表示羰基、-CH2-、-SO2-、-C(CH3)2-、-O-、-S-、9,9-芴基和9，9-咔唑基中的任意一种；X表示饱和四羧酸残基；Y1和Y2各自独立表示H原子和 -OC-(COOH)m饱和羧酸基团中的任意一种，其中m为1、2或3，n为1～20中的任意一个整数。
进一步地，上述稳定剂选自对苯醌、甲基氢醌、对羟基苯甲醚、2-叔丁基对苯二酚、2,5- 二叔丁基对苯二酚中的一种或几种的混合物。
进一步地，上述光刻胶树脂与溶剂的重量比为45：55～55：45。
进一步地，上述光刻胶树脂溶液包括稀释剂。
进一步地，上述光刻胶树脂溶液中的固含量为1～5％，优选稀释剂为丙二醇甲醚乙酸酯。
根据本发明的另一方面，提供了一种上述任一种的光刻胶树脂溶液的制备方法，该制备方法包括：在20～30℃下，向溶剂和光刻胶树脂的混合液中添加稳定剂和可选的稀释剂，并以 100～300转/min的转速搅拌1～5h，得到光刻胶树脂溶液。
根据本发明的另一方面，提供了一种上述任一种的光刻胶树脂溶液的保存方法，该光刻胶树脂溶液在-10～5℃下保存。
应用本发明的技术方案，在对如何提高光刻胶树脂溶液稳定性进行研究时，偶然间发现抗氧剂和阻聚剂也会对光刻胶树脂的自团聚产生抑制作用，因此将其应用至光刻胶树脂溶液中，起到了稳定作用，使得光刻胶溶液的保存稳定性得以改善。同时，该稳定剂的存在不会对后续光刻胶树脂作为光刻胶应用时的刻蚀精确度形成负面影响，因此不需要在应用时将其分离出来，即不会对光刻胶树脂的应用带来不必要的麻烦。
附图说明
构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本发明的进一步理解，本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明，并不构成对本发明的不当限定。在附图中：
图1示出了根据本发明的实施例1、7至10以及对比例2的稀释液用于光刻胶后进行显影后的线条外观的测试结果图；
图2示出了根据本发明的实施例1、7至10以及对比例2的稀释液用于光刻胶后进行显影后的关键尺寸(CD)的测试结果图；以及
图3示出了根据本发明的实施例1、7至10以及对比例2的稀释液用于光刻胶后进行显影后的解析度的测试结果图。
具体实施方式
需要说明的是，在不冲突的情的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
如本申请背景技术所分析的，现有技术中的光刻胶树脂溶液的存放稳定性不好，尤其是光刻胶树脂稀释液的存放稳定性不好，容易发生自团聚现象而变得浑浊。为了解决上述问题，本申请提供了一种光刻胶树脂溶液、其制备方法及其保存方法。
在本申请一种典型的实施方式中，提供了一种光刻胶树脂溶液，包括溶剂和光刻胶树脂，光刻胶树脂溶液还包括稳定剂，稳定剂为抗氧剂或阻聚剂。
通常情况下抗氧剂和阻聚剂用于方式光刻胶树脂和自由基单体、引发剂等聚合过程中的抗氧化以及终止聚合反应，它们通常的作用对象为自由基。本申请在对如何提高光刻胶树脂溶液稳定性进行研究时，偶然间发现抗氧剂和阻聚剂也会对光刻胶树脂的自团聚产生抑制作用，因此将其应用至光刻胶树脂溶液中，起到了稳定作用，使得光刻胶溶液的保存稳定性得以改善。同时，该稳定剂的存在不会对后续光刻胶树脂作为光刻胶应用时的刻蚀精确度形成负面影响，因此不需要在应用时将其分离出来，即不会对光刻胶树脂的应用带来不必要的麻烦。
在本申请一种优选的实施例中，上述光刻胶树脂溶液中稳定剂的重量含量为0.001～0.10％。通过将稳定剂的含量控制在上述范围内，能够实现理想的稳定效果，且不会造成稳定剂不必要的浪费。进一步优选上述光刻胶树脂溶液中稳定剂的重量含量为0.01～0.03％。
本申请的光刻胶树脂溶液适用于目前常用的光刻胶树脂，尤其是对具有以下结构式的光刻胶树脂效果更为明显，该光刻胶树脂具有以下结构式：
其中，R1、R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、C1-C5的烷基、卤原子和苯基中的任意一种；R5表示H原子或甲基；A表示羰基、-CH2-、-SO2-、-C(CH3)2-、-O-、-S-、9,9-芴基和9，9-咔唑基中的任意一种；X表示饱和四羧酸残基；Y1和Y2各自独立表示H原子和 -OC-(COOH)m饱和羧酸基团中的任意一种，其中m为1、2或3，n为1～20中的任意一个整数。
用于本申请的稳定剂可以从现有技术中的抗氧剂和阻聚剂中进行选择，优选上述稳定剂选自对苯醌(PBQ)、甲基氢醌(THQ)、对羟基苯甲醚(HQMME)、2-叔丁基对苯二酚(MTBHQ) 和2,5-二叔丁基对苯二酚(2,5-DTBHQ)、对甲氧基苯酚(MEHQ)、2,6-二叔丁基-4-甲基苯酚 (BHT)、对苯二酚(HQ)中的一种或几种的混合物。其中2-叔丁基对苯二酚(MTBHQ)，甲基氢醌(THQ)对光刻胶树脂的稳定效果尤为显著。
本申请的稳定剂的稳定效果的发挥和光刻胶树脂的含量存在一定的关系，为了保证所处理的光刻胶树脂的稳定性更持久，优选上述光刻胶树脂与溶剂的重量比为45：55～55：45。
另外，本申请的光刻胶树脂溶液不仅可以为常规的光刻胶树脂溶液，还可以为光刻胶树脂稀释液，及该光刻胶树脂溶液还包括稀释剂，其中的稀释剂可以为现有技术中光刻胶树脂稀释液常用的稀释液，其用量也可以参考现有技术。优选地上述稀释液中的固含量为1～5％，优选稀释剂为丙二醇甲醚乙酸酯。
在本申请另一种典型的实施方式中，提供了一种上述任一种光刻胶树脂溶液的制备方法，该制备方法包括：在20～30℃下，向溶剂和光刻胶树脂的混合液中添加稳定剂和可选的稀释剂，并以100～300转/min的转速搅拌1～5h，得到光刻胶树脂溶液。在室温下通过搅拌混合的方式即可得到上述光刻胶树脂溶液，制备方法简单，有利于本申请光刻胶树脂溶液的推广应用。
在本申请又一种典型的实施方式中，提供了一种上述任一种光刻胶树脂溶液的保存方法，光刻胶树脂溶液在-10～5℃下保存。本申请添加了稳定剂的光刻胶树脂溶液，可以常温下具有相对延长的保存期限，将其置于-10～5℃下保存，其稳定性更好，保存期限更长。
以下将结合实施例和对比例，进一步说明本申请的有益效果。
实施例1
光刻胶树脂的结构简式为：
式中，R1、R2、R3和R4各自独立地表示氢原子；R5表示甲基；A表示9,9-芴基；X表示联苯基；Y1和Y2各自独立表示-OC-(COOH)m饱和羧酸基，其中m＝1，n为1～20中的任意一个整数。准确称量该光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.04g阻聚剂MTBHQ，室温下以150转/分钟的速度搅拌2h，使MTBHQ 与光刻胶树脂充分混合，搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的光刻胶树脂稀释液，将光刻胶树脂稀释液封闭，编号1#。
实施例2
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.10g阻聚剂MTBHQ，室温下以150转/分钟的速度搅拌2h，使MTBHQ与光刻胶树脂充分混合，搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的光刻胶树脂稀释液，将光刻胶树脂稀释液封闭，编号2#。
实施例3
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.10g阻聚剂MTBHQ，室温下以150转/分钟的速度搅拌5h，使MTBHQ与光刻胶树脂充分混合，搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的光刻胶树脂稀释液，将光刻胶树脂稀释液封闭，编号3#。
实施例4
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.06g阻聚剂MTBHQ，室温下以150转/分钟的速度搅拌2h，使MTBHQ与光刻胶树脂充分混合，搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的光刻胶树脂稀释液，将光刻胶树脂稀释液封闭，编号4#。
实施例5
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.02g阻聚剂MTBHQ，室温下以100转/分钟的速度搅拌5h，使MTBHQ与光刻胶树脂充分混合，搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的光刻胶树脂稀释液，将光刻胶树脂稀释液封闭，编号5#。
实施例6
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.02g阻聚剂MTBHQ，室温下以300转/分钟的速度搅拌1h，使MTBHQ与光刻胶树脂充分混合，搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的光刻胶树脂稀释液，将光刻胶树脂稀释液封闭，编号6#。
实施例7
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.02g阻聚剂BHT，室温下以150转/分钟的速度搅拌2h，使BHT 与光刻胶树脂充分混合。搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。称量取0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的光刻胶树脂稀释液，将光刻胶树脂稀释液封闭，编号7#。
实施例8
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.03g阻聚剂HQMME，室温下以200转/分钟的速率搅拌2h，使HQMME与光刻胶树脂充分混合。搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的光刻胶树脂稀释液，将光刻胶树脂稀释液封闭，编号8#。
实施例9
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.03g阻聚剂2,5-DTBHQ，室温条件下以150转/分钟的速率搅拌2h，使2,5-DTBHQ与树脂充分混合。搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的稀释液，将光刻胶树脂稀释液封闭，编号9#。
实施例10
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.040gTHQ，室温条件下以150转/分钟的速率搅拌2h，使THQ 与光刻胶树脂充分混合。搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的稀释液，将稀释液封闭，编号10#。
实施例11
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.002gTHQ，室温条件下以150转/分钟的速率搅拌2h，使THQ 与光刻胶树脂充分混合。搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的稀释液，将稀释液封闭，编号11。
实施例12
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.2gTHQ，室温条件下以150转/分钟的速率搅拌2h，使THQ与光刻胶树脂充分混合。搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的稀释液，将稀释液封闭，编号12#。
对比例1
准确称量0.5g同实施例1的光刻胶树脂溶液(未添加阻聚剂)，以PGMEA稀释至2.0％固含量的对照稀释液，封闭保存，编号1*。
对比例2
准确称量0.5g同样结构的进口光刻胶树脂BM样品(黑色矩阵光刻胶树脂，结构与现有品一致)(固含量：50.21％)以PGMEA稀释至2.0％固含量的稀释液，封闭保存，编号2*。
对比例3
准确称量同实施例1的光刻胶树脂溶液(固含量：49.96％)200g，放于250ml四口烧瓶中，在室温(25℃)下添加0.10g阻聚剂MTBHQ，室温下以80转/分钟的速度搅拌2h，使MTBHQ与光刻胶树脂充分混合，搅拌结束，将混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液封存。准确称量0.5g上述混有阻聚剂的光刻胶树脂溶液，以丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)稀释成2.0％固含量的光刻胶树脂稀释液，将光刻胶树脂稀释液封闭，编号3*。
将上述编号的各稀释液放入80℃烘箱中，每0.5h记录稀释液变化情况，其中稀释液外观变化以观察得出，稀释液的固含量采用准确称量树脂溶液m1于垫有玻璃纤维滤纸的铝箔托盘中，记录下总体质量m2，160℃烘干2h，再次称量铝箔和样品总质量m3，通过公式：(m3-m2)/m1*100％计算得到。检测酸值采用酸碱中和滴定方法，0.05mol/L的NaOH乙醇标准溶液滴定定量的树脂溶液(溶解于10倍体积的二氯甲烷和乙醇(1/1体积)混合溶液中)，由碱液消耗量计算出酸值。粘度采用Brookfield粘度计(型号：DV1MLVTJ0)25℃检测。Mw 用(凝胶色谱法)GPC检测。具体试验结果见表1和表2。
表1
0.5h 5.0h 8.5h 11.5h 12.0h 17.0h 17.5h 18.5h 20.0h
1# ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ Ⅹ
2# ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ Ⅹ
3# ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○
4# ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○
5# ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ Ⅹ
6# ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ Ⅹ
7# ○ ○ ○ ○ ○ ○ Ⅹ Ⅹ Ⅹ
9# ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ Ⅹ
10# ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○
11# ○ ○ ○ ○ ○ ○ Ⅹ Ⅹ Ⅹ
12# ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○ ○
1* ○ ○ ○ ○ Ⅹ Ⅹ Ⅹ Ⅹ Ⅹ
2* ○ ○ ○ ○ ○ ○ Ⅹ Ⅹ Ⅹ
3* ○ ○ ○ ○ ○ ○ Ⅹ Ⅹ Ⅹ
注：○澄清Ⅹ浑浊
表2
根据表1可以看出，添加阻聚剂后稀释液的稳定性得到明显改善，且优于进口样品的稳定性。
根据表2中的数据可以看出，添加阻聚剂后，稀释液的各项指标测定值和未添加阻聚剂的稀释液的测定值基本一致，说明添加的阻聚剂对于光刻胶树脂的原有性能不造成负面影响。
进一步地，将上述1#至5#样品和进口光刻胶树脂BM样品作为光刻胶原料用于制作光刻胶，并用于黑色矩阵光刻胶的制成刻蚀，形成与进口样品光刻胶类似的应用效果。主要通过涂胶，曝光，前烘烤，显影，后烘烤等操作，得到刻蚀结果见图1至3。
图1中所得显影线条边缘越平滑，上下平面差值越小即陡度越高，显影效果越好；图中 1.6BP，1.75BP等表示是在1.6倍于BP时间(破膜时间)时，显影结果(存留胶条SEM照片)，根据图1可以看出添加阻聚剂后，显影外观没有明显变化，与对比标样(进口BM树脂)显影结果类似，即添加阻聚剂后的树脂，制备成光刻胶显影外观与进口标准样品测试结果一致，对样品应用性能没有明显影响。
图2中，随显影时间变化，CD值变化越小，树脂的应用效果越好。根据图2可以看出，样品CD变化情况，与进口样品CD变化范围重叠，在可应用范围内，满足应用需要。添加阻聚剂前后，样品CD范围没有明显变化。
图3中，相同显影条件(曝光强度，洗涤显影时间等)，存留胶条越小，解析度越好。根据图3可以看出，添加阻聚剂后样品制备的光刻胶，其解析度没有明显改变。
此外，申请人对具有结构通式：
的多种光刻胶树脂进行了上述实验，所得到实验均与上述结果相一致，证明本申请添加了抗氧剂或阻聚剂后对光刻胶起到了稳定作用，且不会对后续光刻胶树脂作为光刻胶应用时的刻蚀精确度形成负面影响。
从以上的描述中，可以看出，本发明上述的实施例实现了如下技术效果。
本申请在对如何提高光刻胶树脂溶液稳定性进行研究时，偶然间发现抗氧剂和阻聚剂也会对光刻胶树脂的自团聚产生抑制作用，因此将其应用至光刻胶树脂溶液中，起到了稳定作用，使得光刻胶溶液的保存稳定性得以改善。同时，该稳定剂的存在不会对后续光刻胶树脂作为光刻胶应用时的刻蚀精确度形成负面影响，因此不需要在应用时将其分离出来，即不会对光刻胶树脂的应用带来不必要的麻烦。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，对于本领域的技术人员来说，本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种光刻胶树脂溶液，包括溶剂和光刻胶树脂，其特征在于，所述光刻胶树脂溶液还包括稳定剂，所述稳定剂为抗氧剂或阻聚剂。
2.根据权利要求1所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述稳定剂的用量为所述溶剂和所述光刻胶树脂总质量的0.001～0.10％。
3.根据权利要求2所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述稳定剂的用量为所述溶剂和所述光刻胶树脂总质量的0.01～0.03％。
4.根据权利要求1所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述光刻胶树脂具有以下结构式：
其中，R1、R2、R3和R4各自独立地表示氢原子、C1-C5的烷基、卤原子和苯基中的任意一种；R5表示H原子或甲基；A表示羰基、-CH2-、-SO2-、-C(CH3)2-、-O-、-S-、9,9-芴基和9，9-咔唑基中的任意一种；X表示饱和四羧酸残基；Y1和Y2各自独立表示H原子和-OC-(COOH)m饱和羧酸基团中的任意一种，其中m为1、2或3，n为1～20中的任意一个整数。
5.根据权利要求1或4所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述稳定剂选自对苯醌、甲基氢醌、对羟基苯甲醚、2-叔丁基对苯二酚、2,5-二叔丁基对苯二酚中的一种或几种的混合物。
6.根据权利要求1所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述光刻胶树脂与所述溶剂的重量比为45：55～55：45。
7.根据权利要求1所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述光刻胶树脂溶液包括稀释剂。
8.根据权利要求7所述的光刻胶树脂溶液，其特征在于，所述光刻胶树脂溶液中的固含量为1～5％，优选所述稀释剂为丙二醇甲醚乙酸酯。
9.一种权利要求1至8中任一项所述的光刻胶树脂溶液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
在20～30℃下，向溶剂和光刻胶树脂的混合液中添加稳定剂和可选的稀释剂，并以100～300转/分钟的转速搅拌1～5h，得到所述光刻胶树脂溶液。
10.一种权利要求1至8中任一项所述的光刻胶树脂溶液的保存方法，其特征在于，所述光刻胶树脂溶液在-10～5℃下保存。
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