CN109311065B - 旋转喷嘴构造集尘系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及电气集尘系统，具体地涉及从多个旋转管嘴向电子基板、玻璃基板、晶片或显示器等的表面喷射空气等流体从而去除其表面异物的旋转喷嘴构造集尘系统。所述旋转喷嘴构造集尘系统，包括：罩壳(11)，内部设置用于收集异物的路径，并设置腔室空间；管嘴单元(13a～13n)，沿着罩壳(11)的一侧线性设置；供给阀(12)，用于向管嘴单元(13a～13n)供给压缩空气；引导板(16a、16b)，在罩壳(11)的两侧侧面沿水平方向设置；以及集尘入口(14a、14b)，设置于罩壳(11)与引导板(16a、16b)的边界面；各个管嘴单元(13a～13n)设置有相互隔开并可旋转的一对管嘴。

Description

旋转喷嘴构造集尘系统

技术领域

本发明涉及电气集尘系统，具体地涉及从多个旋转管嘴向电子基板、玻璃基板、晶片或显示器等的表面喷射空气等流体从而去除其表面异物的旋转喷嘴构造集尘系统。

背景技术

本领域公知多种用于去除工业领域生产各种基板表面产生的各种形态的异物的除尘装置，这种除尘装置的去除效率取决于可去除粉尘的大小及是否可防止对基板的损伤。半导体晶片、液晶显示器基板或玻璃基板生产过程产生的粉尘由干式或湿式除尘装置被去除，可利用具有刷子或管嘴结构的除尘装置去除这种粉尘。

韩国授权专利0749544“基板除尘装置及基板除尘方法”公开了除尘基板待处理面工序中易于干燥的基板除尘装置及基板除尘方法，所述基板除尘装置，包括旋转头，使待处理面向上支撑基板并使基板旋转；喷射部，供给用于放置于旋转头的基板的干燥用流体；以及移动部，使喷射部的管嘴从基板的中心移动至边缘；所述喷射部包括：第一喷射管嘴，设置于装置内部的第一排出口，喷射挥发性流体；第二喷射管嘴，在第一喷射管嘴的后方移动，并设置于装置内部的第二排出口，喷射干燥空气，所述第二排出口包括用于使干燥空气流入第二排出口内部的流入口以及用于使干燥空气向第二排出口外部流出的流出口，所述流出口的剖面积大于流入口的剖面积，从而防止利用挥发性流体进行干燥的区域流进干燥空气。

韩国公开专利2008-0004943“用于制造平板显示器的基板除尘装置及方法”，是与基板的除尘相关的另一现有技术。所述专利公开了一种基板除尘装置，包括基板移送部件，支撑并移送基板；以及旋转型管嘴部件，以能够旋转的方式设置于基板的移送路径中，在其外周具有用于喷射除尘流体的多个喷射口。旋转型管嘴部件包括：圆筒形的本体，沿基板的宽度方向设置；支撑部，以能够旋转的方式支撑所述本体的两端；以及驱动部，用于使所述本体旋转；所述本体呈圆筒形，包括：内部通道，用于从供给部接收除尘用流体；喷射口，用于喷射通过内部通道提供的除尘用流体，所述喷射口以放射状、等间距设置于本体中。

已知的现有技术，其应用受到基板产生的粉尘或异物大小的限制，并且在应用过程中可能存在粉尘或异物未被去除的区域。因此需要一种能够去除可能影响基板本身的性能或基板的生产工序中产生的任意大小的异物，对整个基板起到均匀除尘效果，并且在除尘过程中避免对基板造成损伤的集尘装置，但现有技术未公开这种装置。

本发明是为了解决现有技术的问题而提出的，具有如下所述的目的。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种旋转喷嘴构造集尘系统，对整个基板施加均匀的喷射压力，并通过调节压力，使除尘过程在避免损伤基板的状态下去除任意大小的异物。

本发明是采用以下的技术方案实现的：

一种旋转喷嘴构造集尘系统包括：罩壳，内部设置用于收集异物的路径，并设置腔室空间；管嘴单元，沿着罩壳的一侧线性设置；供给阀，用于向管嘴单元供给压缩空气；引导板，在罩壳的两侧侧面沿水平方向设置；以及集尘入口，设置于罩壳与引导板的边界面；管嘴单元各个设置有相互隔开并可旋转的一对管嘴。

优选地，所述集尘系统还包括设置于管嘴单元与集尘入口之间至少一个的离子发生器。

优选地，各个管嘴单元包括：旋转供给部件；位置调节部件，沿着旋转供给部件的两侧延伸设置；以及管嘴，设置于位置调节部件的两端。

优选地，位置调节部件的两侧设置倾斜平面，管嘴设置于倾斜平面上。

优选地，集尘入口与集尘路径相连接，集尘路径包括流入空间以及集尘空间，流入空间以窄小的宽度向上延伸设置，集尘空间以相对于流入空间倾斜的方式延伸设置且宽度逐渐变宽。

本发明的旋转喷嘴构造集尘系统，相向设置一对管嘴旋转并喷射空气，可对需除尘所有区域进行除尘；本发明的旋转喷嘴构造集尘系统通过调节管嘴喷射方向，并根据基板的类型调节向基板施加的压力，从而防止基板损伤；本发明的旋转喷嘴构造集尘系统，在管嘴单元沿着长度方向设置形状互不相同的管嘴部，以多种方式喷射空气，从而可以去除基板中多种形态的粉尘；本发明的旋转喷嘴构造集尘系统可以去除直径3μm以上的异物，且通过施加超声波可去除基板或其周围浮游的直径1μm以上的异物。

附图说明

图1是本发明的旋转喷嘴构造集尘系统实施例一的结构示意图。

图2是本发明的旋转喷嘴构造集尘系统中设置用于提高性能的辅助设备实施例二的结构示意图。

图3是本发明的旋转喷嘴构造集尘系统中的管嘴单元实施例三的结构示意图。

图4是利用本发明的旋转喷嘴构造集尘系统集尘过程实施例四的结构示意图。

图5是本发明的旋转喷嘴构造集尘系统的运行构造实施例五的结构示意图。

具体实施方式

以下，参照附图对本发明的实施例进行详细说明，但实施例仅用于说明本发明，本发明并不局限于此。

实施例一

图1示出本发明的旋转喷嘴构造集尘系统实施例。

如图1所示，旋转喷嘴构造集尘系统10包括：罩壳11，内部设置用于收集异物的路径，并设置腔室空间；管嘴单元13a～13n，沿着罩壳11的一侧线性设置；供给阀12，用于向管嘴单元13a～13n供给压缩空气；引导板16a、16b，在罩壳11的两侧侧面沿水平方向设置；以及集尘入口14a、14b，设置于罩壳11与引导板16a、16b的边界面，各个管嘴单元13a～13n设置有相互隔开并可旋转的一对管嘴。

本发明的旋转喷嘴构造集尘系统10设置于移送装置移送的基板上侧，但并不局限于此，可根据基板的类型或结构设置于多种位置。基板可以为玻璃基板、金属基板、晶片、LED基板，可具有金属或非金属表面，但并不局限于此，可具有去除异物的任意材料或大小的平面。旋转喷嘴构造集尘系统10可用于去除具有任意直径的异物，如可用于去除附着于表面的直径3μm以上的异物。并且借助用于提高异物去除能力的装置，可提高旋转喷嘴构造集尘系统10的异物去除能力，例如，将超声波装置或离子发生器等装置应用于本发明的除尘装置后，本发明的旋转喷嘴构造集尘系统10可去除直径1μm以上的异物。通过设置多种装置，可提高去除异物大小的能力，本发明的旋转喷嘴构造集尘系统10并不局限于可去除异物粒子的大小。

罩壳11设置成将需去除异物的基板与管嘴单元13a～13n隔开规定距离，并且在其内部设置集尘引导路径，罩壳11为半球形或多边形屋顶结构，以便具有设置管嘴单元13a～13n的空间，但并不局限于此。罩壳11的形状或大小可根据基板的类型、需去除异物的大小、流体的喷射速度或压力而选择。

罩壳11的内部设置用于供给空气等压缩流体的流体供给单元。流体供给单元可以为分配管等装置。压缩流体可由外部供给源供给并通过供给阀12供给至流体供给单元。之后，可从流体供给单元分配至管嘴单元13a～13n，并通过管嘴向基板喷射空气。流体供给单元可通过固定单元固定于罩壳11的内部，所供给的空气可供给至旋转供给部件并移送至管嘴单元13a～13n。旋转供给部件可具有与流体供给单元相结合而旋转的多种结构。例如，将马达、与马达相连接的配线或用于引导外部空气的导管设置于流体供给单元的内部。为此，流体供给单元可具有多边形剖面并具有延伸的杆部件形状，但并不局限于此。

管嘴单元13a～13n包括旋转供给部件，设置于罩壳11的内部沿长度方向设置的腔室空间中。管嘴单元13a～13n设置于腔室空间的上侧，并以能够旋转的方式与供给阀12连接的流体供给单元相连接。管嘴单元13a～13n沿罩壳11的长度方向设置，通过设置于管嘴单元13a～13n两端的管嘴向基板喷射空气等流体，且通过空气的喷射，附着于基板的粘结性或非粘结性异物可呈现浮游状态而流入集尘入口14a、14b。

罩壳11的两侧侧面沿水平方向延伸设置引导板16a、16b。引导板16a、16b具有与基板或集尘平面平行延伸的引导平面，呈一端固定于罩壳11的外侧的L字形。引导板16a、16b起到将罩壳11的外侧空气引导至集尘入口14a、14b的作用。通过这种旋转喷嘴构造集尘系统10的结构，罩壳11的内部和外部的空气从集尘入口14a、14b收集并在罩壳11的内部进行集尘。

集尘入口14a、14b可设置于罩壳11与引导板16a、16b的边界面，与设置于罩壳11上侧的排出通道单元15a～15m相连接；集尘入口14a、14b可设置于罩壳11侧壁下侧的末端部分与引导板16a、16b之间的边界处，沿罩壳11的长度方向延伸，或者可沿着罩壳11的侧壁面的内部设置。集尘入口14a、14b具有由相互分离的一对板形成的狭缝结构，包含通过集尘入口14a、14b流入异物的空气经过沿着罩壳11的侧面设置的引导路径，并通过排出通道单元15a～15m向外部排出。

通过管嘴单元13a、13b的旋转向基板喷射压缩空气，使基板上的异物成为浮游状态，包含浮游异物的空气可通过集尘入口14a、14b流入罩壳11的内部。根据需要，为提高集尘性能，可在旋转喷嘴构造集尘系统10设置多种单元。

实施例二

图2示出本发明的旋转喷嘴构造集尘系统中设置用于提高性能的辅助设备实施例。

图2示出了旋转喷嘴构造集尘系统的侧面示意图，如图2所示，管嘴单元固定于设置在罩壳11下侧的管嘴框架18。并且，在管嘴单元13a～13n与集尘入口14a、14b之间可设置至少一个离子发生器17a、17b。

离子发生器17a、17b通过固定轴固定于罩壳11，其向基板表面喷射空气使异物分离的过程中会发生静电，所述离子发生器17a、17b具有去除这种静电的作用。离子发生器17a、17b可喷射包括负离子或正离子的空气，并且可防止静电引起基板的损伤以及异物形成密集(cluster)状态。设置离子发生器17a、17b的同时还可设置超声波单元。超声波单元用于去除粘结在基板表面的粉尘，以可与离子发生器17a、17b一同或可与离子发生器17a、17b分离的方式设置。离子发生器17a、17b或超声波单元可根据基板的类型而选择性地设置，并不是必须设置的部件。

包含集尘入口14a、14b收集的异物的空气通过设置于罩壳11的集尘路径DP引导至排出通道单元15a。根据需要，在罩壳11的内部或外部设置吸入单元，用于调节集尘路径DP的内部空气流。设置适当数量的集尘扇22于罩壳11的上侧。排出通道单元15a通过集尘管与储存部相连接。

设置于管嘴框架18的管嘴单元具有使喷射的空气向集尘入口14a、14b收集的结构。

实施例三

图3示出本发明的旋转喷嘴构造集尘系统中的管嘴单元实施例。

如图3所示，管嘴单元13a包括旋转供给部件31、沿旋转供给部件31两侧延伸设置的位置调节部件32以及设置于位置调节部件32两侧的管嘴33a、33b，所述位置调节部件32的两侧设置倾斜平面321，管嘴33a、33b设置于倾斜平面321上。

旋转供给部件31和位置调节部件32为圆筒形，所述位置调节部件32直径小于旋转供给部件31，贯穿连接于所述旋转供给部件31，管嘴单元13a整体呈T字形。所述位置调节部件32的两侧设置圆锥形的管嘴33a、33b，从而可以向规定方向喷射用于基板除尘的流体。

位置调节部件32的两侧设置沿延伸方向向下倾斜的倾斜平面321，在倾斜平面321固定管嘴33a、33b。倾斜平面321相对于位置调节部件32向外侧倾斜，倾斜角可以为5度～20度，但并不局限于此。在倾斜平面321设置管嘴33a、33b，可以使流体的喷射方向相对于基板倾斜。并且，通过使压缩空气以倾斜的方向喷射，可以在防止基板损伤的状态下向集尘入口引导包含异物的空气。在圆锥形的管嘴主体331的末端设置第一喷射孔332，在管嘴主体331侧面设置第二喷射孔333。设置于管嘴主体331侧面的第二喷射孔333的喷射方向可与第一喷射孔332的喷射方向相同或不同，第二喷射孔333可沿着管嘴主体331的侧面设置多个。

如图3的右侧部分所示，管嘴33a包括圆锥形的第一管嘴主体331a以及气缸形的第二管嘴主体331b，在第一管嘴主体331a的末端设置第一喷射孔332。在第一管嘴主体331a与第二管嘴主体331b的交界部分设置具有与第二喷射孔333类似作用的引导喷射孔338。第二管嘴主体331b的一侧末端设置防震块B，防震块B与连接在倾斜平面321的固定部337相连接。引导喷射孔338具有放大第一喷射孔332的喷射范围的作用，喷射方向可与第一喷射孔332相同或不同。通过设置第二喷射孔333或引导喷射孔338，可以向整个基板喷射均匀的压缩空气，由此使包含异物的空气向集尘入口收集。

实施例四

图4示出利用本发明的旋转喷嘴构造集尘系统进行集尘的实施例。

如图4所示，利用从管嘴33a、33b喷射的压缩空气，可以使罩壳11下侧包含异物的空气引导至集尘入口14a、14b，位于引导板16a、16b下侧的空气引导至集尘入口14a、14b。罩壳11内部设置集尘路径，具体地，集尘入口14a、14b与集尘路径相连接，集尘路径由流入空间IS以及集尘空间CS组成，流入空间IS以窄小的宽度向上延伸设置，集尘空间CS以相对于流入空间IS倾斜的方式延伸设置且宽度逐渐变宽。根据需要，可设置吸入单元，向集尘入口引导的空气可以通过流入空间IS及集尘空间CS引导至排出通道单元。

集尘路径设置能够引导基板上产生的浮游空气的结构。具体地，在与集尘入口14a、14b相连接的外壁411以及内壁421的通道设置流入空间IS，内壁421的延伸长度比外壁411小，内壁421的下侧末端设置为向内侧倾斜或向内侧弯曲的曲面。外壁411及内壁421分别以倾斜的方式向罩壳11的内侧延伸，并与使集尘空间CS剖面积向内增大设置的集尘外壁41及集尘内壁42相连接。具体地，集尘内壁42倾斜角度大于集尘外壁41向内延伸，使延伸方向上集尘空间CS的剖面积逐渐增大。集尘路径包括由剖面积大的下侧部分、剖面积小的中间部分以及剖面积最大的上侧部分。并且，用于设置剖面积大的上侧部分的集尘空间CS可具有相对大的倾斜度。通过如上所述的结构，包含异物的空气可迅速经由集尘路径、通过排出通道单元向外部排出。

实施例五

图5示出本发明的旋转喷嘴构造集尘系统的运行构造的实施例。

如图5所示，储存在压缩空气罐CA的压缩空气通过调节单元51供给至旋转喷嘴构造集尘系统10，通过供给阀12供给至旋转喷嘴构造集尘系统10的管嘴单元，流量计52用于测定压缩空气的供给量。

从旋转喷嘴构造集尘系统10喷射的包含基板产生异物的空气流入罩壳内部，并引导至排出通道单元15a、15b。排出通道单元15a、15b通过伸缩管等排出管53a、53b，与空气排出支管54连接。空气排出支管54通过集尘管EP向集尘储存部55引导包含异物的空气。集尘储存部55可包括用于处理包含异物的空气的装置，从而对包含异物的空气进行处理，如集尘储存部55可包括多个过滤单元。

可利用多种方法处理由旋转喷嘴构造集尘系统10收集的包含异物的空气，本发明不局限于所提出的实施例。

产业上的可利用性：

本发明的旋转喷嘴构造集尘系统，相向设置一对管嘴旋转并喷射空气，可对需除尘所有区域进行除尘；本发明的旋转喷嘴构造集尘系统通过调节管嘴喷射方向，并根据基板的类型调节向基板施加的压力，从而防止基板损伤；本发明的旋转喷嘴构造集尘系统，在管嘴单元沿着长度方向设置形状互不相同的管嘴部，以多种方式喷射空气，从而可以去除基板中多种形态的异物；本发明的旋转喷嘴构造集尘系统可以去除直径3μm以上的异物，且通过施加超声波可去除基板或其周围浮游的直径1μm以上的异物。

以上，参照所提出的实施例对本发明进行了详细的说明，但本领域的技术人员可在不脱离本发明的技术思想的范围内，根据所提出的实施例进行多种变形及修改，本发明并不局限于如上实施例所述的变形及修改。

Claims (2)

1.一种去除基板的异物的旋转喷嘴构造集尘系统，其特征在于，

包括：

罩壳(11)，内部设置用于收集异物的路径，并设置腔室空间；

管嘴单元(13a～13n)，沿着罩壳(11)的一侧线性设置，并且各个管嘴单元(13a～13n)包括：旋转供给部件(31)；位置调节部件(32)，沿着旋转供给部件(31)的两侧延伸设置；以及管嘴(33a、33b)，设置于位置调节部件(32)的两端；

供给阀(12)，用于向管嘴单元(13a～13n)供给压缩空气；

引导板(16a、16b)，在罩壳(11)的两侧侧面沿水平方向设置；

以及集尘入口(14a、14b)，设置于罩壳(11)与引导板(16a、16b)的边界面，

管嘴(33a、33b)包括形成有防震块(B)的圆锥形的管嘴主体(331)、形成在管嘴主体(331)的末端的第一喷射孔(332)、以及沿着管嘴主体(331)的周面形成，从而均匀喷射压缩空气的至少一个第二喷射孔(333)，

集尘入口(14a、14b)与集尘路径相连接，集尘路径包括流入空间(IS)以及集尘空间(CS)，流入空间(IS)以窄小的宽度向上延伸设置，集尘空间(CS)以相对于流入空间(IS)倾斜的方式延伸设置且宽度逐渐变宽，

位置调节部件(32)的两侧设置倾斜平面，管嘴(33a、33b)设置于倾斜平面上，使压缩空气的喷射方向相对于基板倾斜。

2.根据权利要求1所述的旋转喷嘴构造集尘系统，其特征在于，所述集尘系统还包括设置于管嘴单元(13a～13n)与集尘入口(14a、14b)之间至少一个的离子发生器(17a、17b)。

Images