CN109265881A - 一种低表面光泽度的pvdf薄膜及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种低表面光泽度的PVDF薄膜及其制备方法。它由如下重量份数的原料制成：聚偏氟乙烯70‑80份，乙烯‑丙烯酸甲酯共聚物10‑20份，6‑8份硅油，6‑8份钛白粉，0.1‑0.5份无机晶须，无机填料3‑5份。本发明制备的低表面光泽度的PVDF薄膜，采用聚偏氟乙烯，乙烯‑丙烯酸甲酯共聚物作为主料，硅油，钛白粉，无机晶须作为降低光泽度的成分，添加少许无机填料，光泽度能降低至10左右，广泛应用于太阳能电池背板，机屏幕，电脑显示器，汽车后视镜，电视，以及各种仪表面板灯等领域的应用。

Description

一种低表面光泽度的PVDF薄膜及其制备方法
技术领域
本发明属于塑料薄膜技术领域，具体涉及一种低表面光泽度的PVDF薄膜及其制备方法。
背景技术
随着光电产品的广泛应用，低表面光泽度薄膜，如太阳能电池的背板，机屏幕，电脑显示器，汽车后视镜，电视，以及各种仪表面板灯。这些产品的特点是要求反射太阳光要尽量低，以防止电池板光电转化效率变低以及造成人眼眩晕，造成事故或有损人眼健康。
降低产品表面的光泽度，采用的技术手段有：在产品表面蚀刻(如玻璃)，出现微小凹坑，在凹坑处发生漫反射，消除眩晕，该种方法对于产品的表面物理特征改变大，容易损伤物品；在产品表面涂一层粗糙材料，但是，涂粗糙材料产品变得不美观；还有在产品表面帖防反射膜，虽然解决了上述问题，但是，目前的防反射膜防反射效果差，许多产品其实就是粗糙材料。
专利201710899674.3公开了一种高雾度低光泽度防眩光膜及其制备方法。由防眩光基础药液中加入无机纳米粒子制成；所述的防眩光基础药液是由硅酸酯、纯水、酸和有机溶剂混合反应制得，所述无机纳米离子经过有机硅烷改性；其中所述无机纳米粒子的添加量在2-20vol％，所述高雾度低光泽度防眩光膜的粗糙度在0.1-0.25um。盖材料虽然具有很好的防眩晕效果，但是，其材料的光泽度还是很高，不适合做如太阳能电池背板等需要更低光泽度的产品。
发明内容
本发明的目的在于提供一种低表面光泽度的PVDF薄膜及其制备方法。
一种低表面光泽度的PVDF薄膜，由如下重量份数的原料制成：聚偏氟乙烯70-80份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物10-20份，6-8份硅油，6-8份钛白粉，0.1-0.5份无机晶须，无机填料3-5份。
所述无机填料为二氧化硅，硫酸镁，碳酸钙，蒙脱土，硅藻土，云母石中的一种或一种以上。
所述无机晶须为碳酸镁晶须，氢氧化镁晶须，氧化镁晶须，氧化锌晶须，钛酸钾晶须，莫来石晶须中的一种或一种以上。
所述原料还包括3-(3，5双特丁基-4-羟基环己基)丙酸酯3-5份。
所述原料还包括1，3，5，三(3，5-二叔丁基，4-羟基苄基)均三嗪3-5份。
上述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，按照如下步骤进行：
(1)按照重量份数，取聚偏氟乙烯70-80份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物10-20份，6-8份硅油，6-8份钛白粉，0.1-0.5份无机晶须，无机填料3-5份；用高速混合机将原料各组分混合均匀，得到聚偏氟乙烯混合物，高速混合机的转速为600-1200rpm，混合时间为30-80min；
(2)通过双螺杆挤出机熔融、混合并挤出聚偏氟乙烯混合物，得到PVDF制膜粒子，挤出温度为200-260℃，螺杆转速为300-500rpm；
(3)将聚偏氟乙烯粒子流涎成膜或吹塑成膜。
步骤(3)采用多层流涎机，挤出温度200-280℃，螺杆转速为60-100rpm，流涎机头温度为180-250℃，挤出的薄膜经冷却辊冷却固化，然后缠绕收卷，制成低表面光泽度的PVDF薄膜。
所述步骤(1)还加入3-(3，5双特丁基-4-羟基环己基)丙酸酯3-5份。
所述步骤(1)还加入1，3，5，三(3，5-二叔丁基，4-羟基苄基)均三嗪3-5份。
本发明的有益效果：本发明制备的低表面光泽度的PVDF薄膜，采用聚偏氟乙烯，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物作为主料，硅油，钛白粉，无机晶须作为降低光泽度的成分，添加少许无机填料，光泽度能降低至10左右，广泛应用于太阳能电池背板，机屏幕，电脑显示器，汽车后视镜，电视，以及各种仪表面板灯等领域的应用。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本发明做进一步说明。
实施例1
一种低表面光泽度的PVDF薄膜，由如下重量份数的原料制成：聚偏氟乙烯75份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物15份，7份硅油，7份钛白粉，0.3份碳酸镁晶须，二氧化硅4份。
上述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，按照如下步骤进行：
(1)按照重量份数，取聚偏氟乙烯75份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物15份，7份硅油，7份钛白粉，0.3份碳酸镁晶须，二氧化硅4份；用高速混合机将原料各组分混合均匀，得到聚偏氟乙烯混合物，高速混合机的转速为800rpm，混合时间为50min；
(2)通过双螺杆挤出机熔融、混合并挤出聚偏氟乙烯混合物，得到PVDF制膜粒子，挤出温度为220℃，螺杆转速为400rpm；
(3)将聚偏氟乙烯粒子流涎成膜或吹塑成膜；采用多层流涎机，挤出温度230℃，螺杆转速为80rpm，流涎机头温度为200℃，挤出的薄膜经冷却辊冷却固化，然后缠绕收卷，制成低表面光泽度的PVDF薄膜。
实施例2
一种低表面光泽度的PVDF薄膜，由如下重量份数的原料制成：聚偏氟乙烯70份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物10份，6份硅油，6份钛白粉，0.1份钛酸钾晶须，硫酸镁3份。
上述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，按照如下步骤进行：
(1)按照重量份数，取聚偏氟乙烯70份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物10份，6份硅油，6份钛白粉，0.1份钛酸钾晶须，硫酸镁3份；用高速混合机将原料各组分混合均匀，得到聚偏氟乙烯混合物，高速混合机的转速为600rpm，混合时间为30min；
(2)通过双螺杆挤出机熔融、混合并挤出聚偏氟乙烯混合物，得到PVDF制膜粒子，挤出温度为200℃，螺杆转速为300rpm；
(3)将聚偏氟乙烯粒子流涎成膜或吹塑成膜；采用多层流涎机，挤出温度200℃，螺杆转速为60rpm，流涎机头温度为180℃，挤出的薄膜经冷却辊冷却固化，然后缠绕收卷，制成低表面光泽度的PVDF薄膜。
实施例3
一种低表面光泽度的PVDF薄膜，由如下重量份数的原料制成：聚偏氟乙烯80份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物20份，8份硅油，8份钛白粉，0.5份莫来石晶须，云母石5份。
上述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，按照如下步骤进行：
(1)按照重量份数，取聚偏氟乙烯80份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物20份，8份硅油，8份钛白粉，0.5份莫来石晶须，云母石5份；用高速混合机将原料各组分混合均匀，得到聚偏氟乙烯混合物，高速混合机的转速为1200rpm，混合时间为80min；
(2)通过双螺杆挤出机熔融、混合并挤出聚偏氟乙烯混合物，得到PVDF制膜粒子，挤出温度为260℃，螺杆转速为500rpm；
(3)将聚偏氟乙烯粒子流涎成膜或吹塑成膜；采用多层流涎机，挤出温度280℃，螺杆转速为100rpm，流涎机头温度为250℃，挤出的薄膜经冷却辊冷却固化，然后缠绕收卷，制成低表面光泽度的PVDF薄膜。
实施例4
一种低表面光泽度的PVDF薄膜，由如下重量份数的原料制成：聚偏氟乙烯75份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物15份，7份硅油，7份钛白粉，0.3份碳酸镁晶须，二氧化硅4份，3-(3，5双特丁基-4-羟基环己基)丙酸酯4份。
上述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，按照如下步骤进行：
(1)按照重量份数，取聚偏氟乙烯75份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物15份，7份硅油，7份钛白粉，0.3份碳酸镁晶须，二氧化硅4份，3-(3，5双特丁基-4-羟基环己基)丙酸酯4份；用高速混合机将原料各组分混合均匀，得到聚偏氟乙烯混合物，高速混合机的转速为800rpm，混合时间为50min；
(2)通过双螺杆挤出机熔融、混合并挤出聚偏氟乙烯混合物，得到PVDF制膜粒子，挤出温度为220℃，螺杆转速为400rpm；
(3)将聚偏氟乙烯粒子流涎成膜或吹塑成膜；采用多层流涎机，挤出温度230℃，螺杆转速为80rpm，流涎机头温度为200℃，挤出的薄膜经冷却辊冷却固化，然后缠绕收卷，制成低表面光泽度的PVDF薄膜。
实施例5
一种低表面光泽度的PVDF薄膜，由如下重量份数的原料制成：聚偏氟乙烯75份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物15份，7份硅油，7份钛白粉，0.3份碳酸镁晶须，二氧化硅4份，1，3，5，三(3，5-二叔丁基，4-羟基苄基)均三嗪4份。
上述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，按照如下步骤进行：
(1)按照重量份数，取聚偏氟乙烯75份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物15份，7份硅油，7份钛白粉，0.3份碳酸镁晶须，二氧化硅4份，1，3，5，三(3，5-二叔丁基，4-羟基苄基)均三嗪4份；用高速混合机将原料各组分混合均匀，得到聚偏氟乙烯混合物，高速混合机的转速为800rpm，混合时间为50min；
(2)通过双螺杆挤出机熔融、混合并挤出聚偏氟乙烯混合物，得到PVDF制膜粒子，挤出温度为220℃，螺杆转速为400rpm；
(3)将聚偏氟乙烯粒子流涎成膜或吹塑成膜；采用多层流涎机，挤出温度230℃，螺杆转速为80rpm，流涎机头温度为200℃，挤出的薄膜经冷却辊冷却固化，然后缠绕收卷，制成低表面光泽度的PVDF薄膜。
实施例6
一种低表面光泽度的PVDF薄膜，由如下重量份数的原料制成：聚偏氟乙烯75份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物15份，7份硅油，7份钛白粉，0.3份碳酸镁晶须，二氧化硅4份，Ca4Mn4Si8O243份。
上述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，按照如下步骤进行：
(1)按照重量份数，取聚偏氟乙烯75份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物15份，7份硅油，7份钛白粉，0.3份碳酸镁晶须，二氧化硅4份，Ca4Mn4Si8O243份；用高速混合机将原料各组分混合均匀，得到聚偏氟乙烯混合物，高速混合机的转速为800rpm，混合时间为50min；
(2)通过双螺杆挤出机熔融、混合并挤出聚偏氟乙烯混合物，得到PVDF制膜粒子，挤出温度为220℃，螺杆转速为400rpm；
(3)将聚偏氟乙烯粒子流涎成膜或吹塑成膜；采用多层流涎机，挤出温度230℃，螺杆转速为80rpm，流涎机头温度为200℃，挤出的薄膜经冷却辊冷却固化，然后缠绕收卷，制成低表面光泽度的PVDF薄膜。
实验例：
按照标准GB8807-88的要求，对实施例1-6的PVDF薄膜进行光泽度测试，测试结果见表1：
表1
注：*代表与实施例1组比较P<0.05。
由表1可以看出，实施例1-3的光泽度在13左右，显著低于市售产品的光泽度，实施例1-3的产品光泽度相当，没有显著差异，实施例4-6的光泽度显著低于实施例1。
按照标准ASTM E313-05的要求(UV，1000H)，对实施例1-6的PVDF薄膜进行黄变指数测试，测试结果见表2：
表2
注：*代表与实施例1组比较P<0.05。
由表2可以看出，实施例1-6的黄变指数均低于0.5，优于市售产品，其中，实施例6的黄变指数为0.24，显著优于实施例1-5。

Claims (9)

1.一种低表面光泽度的PVDF薄膜，其特征在于，由如下重量份数的原料制成：聚偏氟乙烯70-80份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物10-20份，6-8份硅油，6-8份钛白粉，0.1-0.5份无机晶须，无机填料3-5份。
2.根据权利要求1所述低表面光泽度的PVDF薄膜，其特征在于，所述无机填料为二氧化硅，硫酸镁，碳酸钙，蒙脱土，硅藻土，云母石中的一种或一种以上。
3.根据权利要求1所述低表面光泽度的PVDF薄膜，其特征在于，所述无机晶须为碳酸镁晶须，氢氧化镁晶须，氧化镁晶须，氧化锌晶须，钛酸钾晶须，莫来石晶须中的一种或一种以上。
4.根据权利要求1所述低表面光泽度的PVDF薄膜，其特征在于，所述原料还包括3-(3，5双特丁基-4-羟基环己基)丙酸酯3-5份。
5.根据权利要求1所述低表面光泽度的PVDF薄膜，其特征在于，所述原料还包括1，3，5，三(3，5-二叔丁基，4-羟基苄基)均三嗪3-5份。
6.权利要求1所述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，其特征在于，按照如下步骤进行：
(1)按照重量份数，取聚偏氟乙烯70-80份，乙烯-丙烯酸甲酯共聚物10-20份，6-8份硅油，6-8份钛白粉，0.1-0.5份无机晶须，无机填料3-5份；用高速混合机将原料各组分混合均匀，得到聚偏氟乙烯混合物，高速混合机的转速为600-1200rpm，混合时间为30-80min；
(2)通过双螺杆挤出机熔融、混合并挤出聚偏氟乙烯混合物，得到PVDF制膜粒子，挤出温度为200-260℃，螺杆转速为300-500rpm；
(3)将聚偏氟乙烯粒子流涎成膜或吹塑成膜。
7.根据权利要求1所述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，其特征在于，步骤(3)采用多层流涎机，挤出温度200-280℃，螺杆转速为60-100rpm，流涎机头温度为180-250℃，挤出的薄膜经冷却辊冷却固化，然后缠绕收卷，制成低表面光泽度的PVDF薄膜。
8.根据权利要求1所述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)还加入3-(3，5双特丁基-4-羟基环己基)丙酸酯3-5份。
9.根据权利要求1所述低表面光泽度的PVDF薄膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)还加入1，3，5，三(3，5-二叔丁基，4-羟基苄基)均三嗪3-5份。
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