CN109256400B - 柔性显示基板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本申请公开一种柔性显示基板及其制造方法、显示装置，属于显示技术领域。该柔性显示基板包括：柔性衬底基板以及设置在柔性衬底基板上的应力控制层和走线层，柔性衬底基板具有折弯区域，应力控制层至少位于折弯区域中，走线层中的信号走线在柔性衬底基板上的正投影部分位于折弯区域中，应力控制层用于耦合柔性衬底基板与信号走线之间的应力。本申请解决了柔性显示基板的折弯性能较差的问题，提高了柔性显示基板的折弯性能。本申请用于窄边框显示装置。

Description

柔性显示基板及其制造方法、显示装置
技术领域
本申请涉及显示技术领域，特别涉及一种柔性显示基板及其制造方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展，显示装置逐渐向窄边框甚至无边框的方向发展。目前，窄边框的显示装置主要为以有机发光二极管(英文：Organic Light-Emitting Diode；简称：OLED)显示装置为代表的柔性显示装置。
柔性显示装置包括柔性显示基板，柔性显示基板具有相对设置的显示面和非显示面，显示面具有显示区域和非显示区域，非显示区域包括边缘区域，可以将边缘区域折弯至非显示面所在侧来实现显示装置的窄边框甚至无边框。将边缘区域折弯至柔性非显示面所在侧时，非显示区域中位于显示区域与边缘区域之间的区域被折弯，该被折弯的区域可以称为折弯(英文：Bending)区域或边缘折弯(英文：Edge Bending；简称：EB)区域。
但是，非显示区域中设置有向显示区域提供信号的信号走线，且信号走线部分位于折弯区域中，在将边缘区域折弯至非显示面所在侧的过程中，位于折弯区域中的信号走线受到的应力较大，导致信号走线容易断裂，因此，上述柔性显示基板的折弯性能较差。
发明内容
本申请提供一种柔性显示基板及其制造方法、显示装置，可以解决柔性显示基板的折弯性能较差的问题。本申请的技术方案如下：
第一方面，提供一种柔性显示基板，所述柔性显示基板包括：
柔性衬底基板以及设置在所述柔性衬底基板上的应力控制层和走线层，所述柔性衬底基板具有折弯区域，所述应力控制层至少位于所述折弯区域中，所述走线层中的信号走线在所述柔性衬底基板上的正投影部分位于所述折弯区域中，所述应力控制层用于耦合所述柔性衬底基板与所述信号走线之间的应力。
可选地，所述应力控制层位于所述折弯区域中，所述应力控制层具有镂空。
可选地，所述应力控制层的结构为网状结构。
可选地，所述应力控制层由延伸方向相同的多个应力控制条构成。
可选地，所述多个应力控制条的长度方向平行。
可选地，所述应力控制层为金属网格层，所述柔性显示基板还包括：设置在所述应力控制层与所述走线层之间的第一绝缘层。
可选地，所述柔性显示基板还包括：设置在所述第一绝缘层与所述走线层之间的第二绝缘层，所述第二绝缘层上具有折弯孔，所述折弯孔在所述柔性衬底基板上的正投影与所述柔性衬底基板的折弯区域重叠，所述信号走线部分位于所述折弯孔中，部分位于所述第二绝缘层上。
可选地，所述信号走线包括源漏极走线，
所述第二绝缘层包括：依次设置在所述第一绝缘层与所述走线层之间的缓冲层、栅绝缘层和层间介质层；
所述柔性显示基板还包括：设置在所述缓冲层与所述栅绝缘层之间的有源层，以及，设置在所述栅绝缘层与所述层间介质层之间的栅极。
可选地，所述柔性显示基板还包括：依次设置在所述柔性衬底基板与所述应力控制层之间的屏障层和柔性基底层，以及，依次设置在所述走线层上的平坦层、阳极、像素界定层、发光层和阴极。
第二方面，提供一种柔性显示基板的制造方法，所述方法包括：
在柔性衬底基板上形成应力控制层，所述柔性衬底基板具有折弯区域，所述应力控制层至少位于所述折弯区域中；
在形成有所述应力控制层的柔性衬底基板上形成走线层，所述走线层中的信号走线在所述柔性衬底基板上的正投影部分位于所述折弯区域中；
其中，所述应力控制层用于耦合所述柔性衬底基板与所述信号走线之间的应力。
可选地，所述应力控制层位于所述折弯区域中，所述应力控制层具有镂空。
可选地，所述应力控制层的结构为网状结构。
可选地，所述应力控制层为金属网格层，在形成有所述应力控制层的柔性衬底基板上形成走线层之前，所述方法还包括：在形成有所述应力控制层的柔性衬底基板上形成第一绝缘层；
所述在形成有所述应力控制层的柔性衬底基板上形成走线层，包括：在形成有所述第一绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层。
可选地，在形成有所述第一绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层之前，所述方法还包括：在形成有所述第一绝缘层的柔性衬底基板上形成第二绝缘层，所述第二绝缘层上具有折弯孔，所述折弯孔在所述柔性衬底基板上的正投影与所述柔性衬底基板的折弯区域重叠；
所述在形成有所述第一绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层，包括：
在形成有所述第二绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层，所述走线层中的信号走线部分位于所述折弯孔中，部分位于所述第二绝缘层上。
可选地，所述信号走线包括源漏极走线，
所述在形成有所述第一绝缘层的柔性衬底基板上形成第二绝缘层，包括：
在形成有所述第一绝缘层的柔性衬底基板上依次形成缓冲层、栅绝缘层和层间介质层；
所述方法还包括：在所述缓冲层与所述栅绝缘层之间形成有源层；
在所述栅绝缘层与所述层间介质层之间形成栅极。
可选地，在柔性衬底基板上形成应力控制层之前，所述方法还包括：在柔性衬底基板上依次形成屏障层和柔性基底层；
所述在柔性衬底基板上形成应力控制层，包括：在形成有所述柔性基底层的柔性衬底基板上形成应力控制层；
在形成有所述第二绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层之后，所述方法还包括：在形成有所述走线层的柔性衬底基板上依次形成平坦层、阳极、像素界定层、发光层和阴极。
第三方面，提供一种显示装置，所述显示装置包括第一方面或第一方面的任一可选方式所述的柔性显示基板，所述柔性显示基板具有相对设置的显示面和非显示面，所述显示面具有边缘区域，所述边缘区域被折弯至所述柔性显示基板的非显示面所在侧，所述柔性显示基板上被折弯的区域与所述柔性衬底基板的折弯区域对应。
本申请提供的技术方案带来的有益效果是：
本申请提供的柔性显示基板及其制造方法、显示装置，柔性显示基板包括柔性衬底基板以及设置在柔性衬底基板上的应力控制层和走线层，柔性衬底基板具有折弯区域，应力控制层至少位于折弯区域中，走线层中的信号走线在柔性衬底基板上的正投影部分位于折弯区域中，应力控制层用于耦合柔性衬底基板与信号走线之间的应力。由于柔性衬底基板的折弯区域中具有应力控制层，该应力控制层可以耦合柔性衬底基板与信号走线之间的应力，使得在对柔性显示基板折弯的过程中，位于柔性显示基板的折弯区域中的信号走线受到的应力较小，避免折弯过程中信号走线发生断裂，提高了柔性显示基板的折弯性能。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性的，并不能限制本申请。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本申请实施例提供的一种柔性显示基板的正视图；
图2是本申请实施例提供的一种柔性显示基板的剖面示意图；
图3是本申请实施例提供的一种应力控制层的部分区域的正视图；
图4是本申请实施例提供的另一种应力控制层的部分区域的正视图；
图5是本申请实施例提供的再一种应力控制层的部分区域的正视图；
图6是本申请实施例提供的又一种应力控制层的部分区域的正视图；
图7是本申请实施例提供的另一种柔性显示基板的剖面示意图；
图8是本申请实施例涉及的一种对柔性显示基板折弯的原理示意图；
图9是本申请实施例提供的一种折弯时性显示基板受到的应力的曲线图；
图10是本申请实施例提供的一种柔性显示基板折弯过程中信号走线与中性面之间的距离的示意图；
图11是本申请实施例提供的另一种柔性显示基板折弯过程中信号走线与中性面之间的距离的示意图；
图12是本申请实施例提供的一种柔性显示基板的制造方法的方法流程图；
图13是本申请实施例提供的另一种柔性显示基板的制造方法的方法流程图；
图14是本申请实施例提供的一种在柔性衬底基板上依次形成屏障层和柔性基底层之后的示意图；
图15是本申请实施例提供的一种在形成有柔性基底层的柔性衬底基板上形成应力控制层之后的示意图；
图16是本申请实施例提供的一种在形成有应力控制层的柔性衬底基板上形成第一绝缘层之后的示意图；
图17是本申请实施例提供的一种在形成有第一绝缘层的柔性衬底基板上形成依次叠加的缓冲层、有源层、栅绝缘层、栅极和层间介质层之后的示意图；
图18是本申请实施例提供的一种在形成有第二绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层之后的示意图。
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本申请的实施例，并与说明书一起用于解释本申请的原理。
具体实施方式
为了使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本申请作进一步地详细描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本申请保护的范围。
柔性显示基板以其厚度薄、可弯折性能而闻名，然而在将柔性显示基板弯折的过程中，往往因为弯折区域所受的应力过大而导致折弯区域以及折弯区域中的信号走线断裂，导致柔性显示基板发生不良；此外，随着产品的更新，柔性显示基板的折弯半径不断减小，使得弯折区域所受应力越来越大，急切需要设计一种结构能够控制、缓解弯折区域的应力，提高柔性显示基板的弯折性能。
本申请实施例提供的柔性显示基板中，折弯区域中设置应力控制层，应力控制层可以提高折弯区域的柔韧性，减小弯折过程中弯折区域所受的应力，避免折弯区域以及折弯区域中的信号走线断裂，从而避免柔性显示基板发生不良。并且，设置该应力控制层后，可以减小柔性显示基板的折弯半径，满足产品的更新要求。本申请的详细方案请参考下述实施例的描述。
图1是本申请实施例提供的一种柔性显示基板01的正视图，图2是本申请实施例提供的一种柔性显示基板01的剖面示意图，参见图1和图2，该柔性显示基板01包括：柔性衬底基板011以及设置在柔性衬底基板011上的应力控制层012(图1中未标出)和走线层(图1和图2中均未标出)，柔性衬底基板011具有折弯区域A1(图2中均未标出)，应力控制层012至少位于折弯区域A1中，走线层中具有信号走线013，信号走线013在柔性衬底基板011上的正投影部分位于折弯区域A1中，应力控制层012用于耦合柔性衬底基板011与信号走线013之间的应力。
综上所述，本申请实施例提供的柔性显示基板，由于柔性衬底基板的折弯区域中具有应力控制层，该应力控制层可以耦合柔性衬底基板与信号走线之间的应力，使得在对柔性显示基板折弯的过程中，位于柔性显示基板的折弯区域中的信号走线受到的应力较小，避免折弯过程中信号走线发生断裂，提高了柔性显示基板的折弯性能。
其中，柔性衬底基板011可以为采用聚酰亚胺(英文：Polyimide；简称：PI)形成的基板。
可选地，如图1和图2所示，应力控制层012位于折弯区域A1中，应力控制层具有镂空(图1和图2中均未标出)。可选地，应力控制层012的结构为网状结构，网状结构的网格可以是矩形网格、正方向网格、菱形网格或不规则网格，且应力控制层012的表面可以是平整的表面或者非平整的表面。图3至5是本申请实施例提供的不同应力控制层012的部分区域的正视图，应力控制层012可以为图3至图5任一所示的网状结构，且图5所示的应力控制层012的表面可以是非平整的表面，该非平整的表面可以影响信号走线的分布，避免折弯过程导致信号走线断裂。其中，本文中所述的应力控制层012的表面指的是应力控制层012远离柔性衬底基板011的一面。
图6是本申请实施例提供的另一种应力控制层012的部分区域的正视图，参见图6，应力控制层012由延伸方向相同的多个应力控制条(图6中未标出)构成。进一步地，多个应力控制条的长度方向平行。其中，应力控制层012由延伸方向相同的多个应力控制条构成，则该应力控制层012可以使位于该应力控制层012与信号走线之间的膜层的表面具有凹陷部，位于折弯区域中的信号走线可以镶嵌在其下方的膜层中，避免折弯过程导致信号走线断裂。
在本申请实施例中，应力控制层012的形成材料可以为金属或非金属，若应力控制层012的形成材料为金属且应力控制层012的结构为网状结构，则该应力控制层012可以称为金属网格(英文：Metal Mesh)层，若应力控制层012的形成材料为金属且应力控制层012可以由延伸方向相同的多个应力控制条，则每个应力控制条可以为金属条。其中，金属可以是金属Mo(中文：钼)、金属Cu(中文：铜)、金属Al(中文：铝)、金属Ti(中文：钛)及其合金。若应力控制层012的形成材料为非金属，则该非金属可以为质地较柔软且柔韧性较好的非金属。
请参考图7，其示出了本申请实施例提供的另一种柔性显示基板01的剖面示意图，该图7以应力控制层012为金属网格层为例进行说明。参见图7，在图2的基础上，该柔性显示基板01还包括：设置在应力控制层012与走线层(图7中未标出)之间的第一绝缘层014。其中，该第一绝缘层014可以由至少一个绝缘膜层构成，在一些实施场景中，该第一绝缘层014也可以称为屏障(Barrier)层，该第一绝缘层014的形成材料可以为SiOx(中文：氧化硅)、SiNx(中文：氮化硅)、Al2O3(中文：氧化铝)或SiOxNx(中文：氮氧化硅)等无机材料，或者，该第一绝缘层014的形成材料可以为有机绝缘材料。由于信号走线013是导电的，该第一绝缘层014的设置可以使应力控制层012与信号走线013之间彼此绝缘，避免应力控制层012对信号走线013上的信号的影响。信号走线013通常采用金属Mo、金属Cu、金属Al、金属Ti及其合金材料制造而成。
进一步地，请继续参考图7，该柔性显示基板01还包括：设置在第一绝缘层014与走线层之间的第二绝缘层015，第二绝缘层015上具有折弯孔(图7中未标出)，折弯孔在柔性衬底基板011上的正投影与柔性衬底基板011的折弯区域A1(图7中未标出)重叠，信号走线013部分位于折弯孔中，部分位于第二绝缘层015上。可选地，折弯孔在柔性衬底基板011上的正投影覆盖柔性衬底基板011的折弯区域A1，进一步地，折弯孔在柔性衬底基板011上的正投影与柔性衬底基板011的折弯区域A1重合。其中，在第二绝缘层015上设置折弯孔，且折弯孔在柔性衬底基板011上的正投影与柔性衬底基板011的折弯区域A1重叠，这样一来，该柔性显示基板01的折弯区域的厚度较小，有利于对该柔性显示基板01进行折弯。柔性显示基板01的折弯区域也即是柔性衬底基板011的折弯区域A1在柔性显示基板01中的对应区域。
可选地，信号走线013包括源漏极走线。请继续参考图7，第二绝缘层015包括：依次设置在第一绝缘层014与走线层之间的缓冲(英文：Buffer)层0151、栅绝缘(英文：GateInsulator；简称：GI)层0152和层间介质(英文：inter-layer Dielectric；简称：ILD)层0153；相应地，该柔性显示基板01还包括：设置在缓冲层0151与栅绝缘层0152之间的有源层(图7中未示出)，以及，设置在栅绝缘层0152与层间介质层0153之间的栅极(图7中未示出)。其中，该第二绝缘层015可以认为是由缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153延伸至柔性显示基板01的非显示区域的部分构成。
在本申请实施例中，缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153中的每个膜层可以由至少一个膜层构成，缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153这三者的形成材料均可以为SiOx、SiNx、Al2O3或SiOxNx等无机材料，或者，缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153这三者的形成材料均可以为有机绝缘材料，缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153这三者的形成材料可以相同或不同。有源层可以为非晶硅(简称：a-si)有源层或氧化物有源层，a-si有源层例如可以为低温多晶硅(英文：Low Temperature Poly-silicon；简称：LTPS)有源层，氧化物有源层例如可以为铟镓锌氧化物(英文：indiumgallium zinc oxide；简称：IGZO)有源层或铟锡锌氧化物(英文：indium tin zinc oxide；简称：ITZO)有源层。栅极的形成材料可以为金属Mo、金属Cu、金属Al、金属Ti及其合金。
进一步地，请继续参考图7，该柔性显示基板01还包括：依次设置在柔性衬底基板011与应力控制层012之间的屏障层016和柔性基底层017。屏障层016的形成材料可以为SiOx、SiNx、Al2O3或SiOxNx等无机材料，或者，屏障层016的形成材料可以为有机绝缘材料，柔性基底层017的形成材料可以为PI，从而该柔性基底层017也可以称为PI层。
可选地，本申请实施例提供的柔性显示基板01可以为OLED显示基板，则如图7所示，该柔性显示基板01还包括：依次设置在走线层上的平坦(英文：Planarization；简称：PLN)层018、阳极(图7中未示出)、像素界定层(英文：Pixel Definition Layer；简称：PDL)019、发光层(图7中未示出)和阴极(图7中未示出)，发光层可以是有机发光层，阳极、发光层和阴极构成OLED单元。此外，当该柔性显示基板01为OLED显示基板时，该柔性显示基板01还包括隔垫物层和封装结构等结构。其中，平坦层018、像素界定层019和隔垫物层的形成材料均可以为有机树脂，阳极和阴极的形成材料均可以为氧化铟锡(英文：Indium tin oxide；简称：ITO)、氧化铟锌(英文：Indium zinc oxide；简称：IZO)或掺铝氧化锌(英文：aluminum-doped zinc oxide；简称：ZnO:Al)，发光层的形成材料可以为有机发光材料、电致发光材料或光致发光材料，封装结构可以是封装盖板或者薄膜封装结构，本申请实施例在此不再赘述。
需要说明的是，实际应用中，柔性显示基板01可以具有多个走线层，不同的走线层中的信号走线可以不同，例如，一些走线层中的信号走线为源漏极走线，一些走线层中的信号走线为栅极走线，在一些场景中，源漏极走线也称为数据线，栅极走线也称为栅线。柔性显示基板01还可以包括源极、漏极以及栅线，源极和漏极分别与有源层连接，栅极与栅线连接，源极与数据线连接，漏极与阳极连接，有源层、栅极、源极和漏极构成薄膜晶体管(英文：Thin Film Transistor；简称：TFT)，栅线可以通过栅极控制TFT的开启或关闭，在TFT开启时，有源层导通，数据线上的信号依次通过源极、有源层和漏极到达阳极，在阳极和阴极的作用下发光层发光。
还需要说明的是，如图1所示，柔性衬底基板011具有显示区域A2和非显示区域(图1中未标出)，非显示区域包括折弯区域A1和边缘区域A3，折弯区域A1位于显示区域A2和边缘区域A3之间，图2和图7示出的可以是图1所示的柔性显示基板01的非显示区域的剖面示意图，由于TFT和OLED单元等结构通常位于柔性显示基板01的显示区域A2中，因此该图2和图7中未示出TFT和OLED单元等结构。其中，图1所示的各个区域的面积之间的关系并不代表其在实际产品中的关系，在实际产品中，显示区域A2的面积通常远大于非显示区域的面积，图1示出的信号走线013的数量以及分布位置仅仅是示例性的，实际的柔性显示基板可以包括比本文所述的柔性显示基板01更多或更少的信号走线，且信号走线可以位于显示区域A2的不同侧，例如位于图1所示的显示区域A2的左侧、上侧和/或下侧。此外，实际的柔性显示基板可以包括比本文所述的柔性显示基板01更多或更少的结构，例如，柔性显示基板可以包括多个栅极层(每个栅极层包括多个栅极)和多个栅绝缘层等，本申请实施例对此不做限定。
下面对本申请实施例提供的柔性显示基板01中，应力控制层012耦合柔性衬底基板011与信号走线013之间的应力的过程进行说明。
图8是本申请实施例涉及的一种对柔性显示基板折弯的原理示意图，该图8仅示出了柔性显示基板的3个膜层，且图8不限定该3个膜层具体是什么膜层。参见图8，折弯过程中柔性显示基板中会出现一个中性面，该中性面受到的应力为0，内部膜层(指的是位于中性面的一侧与柔性显示基板的曲率中心之间的膜层，例如膜层1)受到压缩应力，外部膜层(指的是位于中性面的另一侧的膜层，例如膜层3)受到拉伸应力，每个膜层受到的应力可以采用公式S＝ΔZ/πR表示，ΔZ表示膜层与中性面之间的距离，S表示膜层受到的应力(可以是压缩应力或拉伸应力)的大小，R表示折弯半径(中性面与曲率中心之间的距离)，可以看出，每个膜层受到的应力和该膜层与中性面之间的距离成正比，从而距离中性面越远的内部膜层受到的压缩应力越大，距离中性面越远的外部膜层受到的拉伸应力越大。需要说明的是，膜层具有一定的厚度，每个膜层中不同厚度处的位置点受到的应力不同，ΔZ表示的是每个膜层的第一中面(与该膜层的表面平行的中面，例如图12所示的膜层1的第一中面)上弯曲幅度最大的位置点与中性面之间的距离，S表示的是该弯曲幅度最大的位置点受到的应力。图9是本申请实施例提供的一种对图8所示的柔性显示基板折弯时该性显示基板的不同位置受到的应力的曲线图，可以看出，中性面受到的应力为0，对于位置点D1、D2、D3和D4而言，位置点D1受到的压缩应力最大，位置点D4所受的拉伸应力最大。需要说明的是，中性面和第一中面均是虚拟的面，并不是柔性显示基板中实际存在的面，中性面会随着柔性显示基板的结构的不同而变化。
在柔性显示基板中，为了避免折弯过程导致信号走线断裂，通常会将信号走线设置在压缩应力区域(也即是将走线层设置为内部膜层)，使得折弯过程中信号走线承受压缩应力，且信号走线承受的压缩应力不能太大。
图10是本申请实施例提供的一种设置应力控制层之前柔性显示基板折弯过程中信号走线与中性面之间的距离的示意图，图11是本申请实施例提供的一种设置应力控制层之后柔性显示基板折弯过程中信号走线与中性面之间的距离的示意图，参见图10和图11，膜层结构1表示柔性衬底基板以及位于信号走线与柔性衬底基板之间的所有膜层，膜层结构2表示位于信号走线远离柔性衬底基板的一侧的所有膜层，且图11中未示出第一绝缘层，设置应力控制层之前柔性显示基板折弯过程中信号走线与中性面之间的距离为ΔZ1，设置应力控制层之后柔性显示基板折弯过程中信号走线与中性面之间的距离为ΔZ2，对比图10和图11可以看出，应力控制层的设置可以使中性面向靠近信号走线的方向移动，从而可以减小中性面与信号走线之间的距离，根据公式S＝ΔZ/πR可知，相对于未设置应力控制层的柔性显示基板，设置有应力控制层的柔性显示基板在折弯的过程中，信号走线受到的应力减小，因此可以避免折弯过程导致信号走线断裂，提高信号走线的弯折性能，从而提高柔性显示基板的弯折性能。此外，由于设置有应力控制层的柔性显示基板在折弯的过程中，信号走线受到的应力减小，因此设置有应力控制层的柔性显示基板的折弯半经可以更小，更易于实现窄边框显示。
本申请实施例提供的柔性显示基板，通过在柔性衬底基板的折弯区域设置应力控制层，该应力控制层可以为金属网格层(类似于设置在墙面上用于防止墙面裂开的网格布)，其柔韧性较好，因此该应力控制层可以使柔性显示基板折弯的过程中，折弯区域的应力集中在应力控制层上，从而减小信号走线上的应力，避免折弯过程中信号走线发生断裂，达到保护信号走线的作用，并且该应力控制层的设置可以在一定程度上提升柔性显示基板的折弯区域的柔韧性，避免折弯过程中折弯区域破裂。此外，由于设置应力控制层后，信号走线上的应力减小，因此可以在信号走线承受的应力范围内，减小折弯后柔性显示基板的折弯半经，从而更好的实现显示装置的窄边框。
综上所述，本申请实施例提供的柔性显示基板，由于柔性衬底基板的折弯区域中具有应力控制层，该应力控制层可以耦合柔性衬底基板与信号走线之间的应力，使得在对柔性显示基板折弯的过程中，位于柔性显示基板的折弯区域中的信号走线受到的应力较小，避免折弯过程中信号走线发生断裂，提高了柔性显示基板的折弯性能。
本申请实施例提供的柔性显示基板可以应用于下文的方法，本申请实施例中柔性显示基板的制造方法和制造原理可以参见下文各实施例中的描述。
请参考图12，其示出了本申请实施例提供的一种柔性显示基板的制造方法的方法流程图，该方法可以用于制造图1、图2或图7所示的柔性显示基板01。参见图12，该方法包括如下步骤：
步骤1201、在柔性衬底基板上形成应力控制层，柔性衬底基板具有折弯区域，应力控制层至少位于折弯区域中。
步骤1202、在形成有应力控制层的柔性衬底基板上形成走线层，走线层中的信号走线在柔性衬底基板上的正投影部分位于折弯区域中。
其中，应力控制层用于耦合柔性衬底基板与信号走线之间的应力。
综上所述，本申请实施例提供的柔性显示基板的制造方法，由于柔性衬底基板的折弯区域中具有应力控制层，该应力控制层可以耦合柔性衬底基板与信号走线之间的应力，使得在对柔性显示基板折弯的过程中，位于柔性显示基板的折弯区域中的信号走线受到的应力较小，避免折弯过程中信号走线发生断裂，提高了柔性显示基板的折弯性能。
可选地，应力控制层位于折弯区域中，应力控制层具有镂空。
可选地，应力控制层的结构为网状结构。
可选地，应力控制层为金属网格层，在步骤1202之前，该方法还包括：在形成有应力控制层的柔性衬底基板上形成第一绝缘层；
相应地，步骤1202包括：在形成有第一绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层。
可选地，在形成有第一绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层之前，该方法还包括：在形成有第一绝缘层的柔性衬底基板上形成第二绝缘层，第二绝缘层上具有折弯孔，折弯孔在柔性衬底基板上的正投影与柔性衬底基板的折弯区域重叠；
相应地，在形成有第一绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层，包括：在形成有第二绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层，走线层中的信号走线部分位于折弯孔中，部分位于第二绝缘层上。
可选地，信号走线包括源漏极走线，
在形成有第一绝缘层的柔性衬底基板上形成第二绝缘层，包括：
在形成有第一绝缘层的柔性衬底基板上依次形成缓冲层、栅绝缘层和层间介质层；
相应的，该方法还包括：在缓冲层与栅绝缘层之间形成有源层；在栅绝缘层与层间介质层之间形成栅极。
可选地，在步骤1201之前，该方法还包括：在柔性衬底基板上依次形成屏障层和柔性基底层；
相应地，步骤1201包括：在形成有柔性基底层的柔性衬底基板上形成应力控制层；
在形成有第二绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层之后，该方法还包括：在形成有走线层的柔性衬底基板上依次形成平坦层、阳极、像素界定层、发光层和阴极。
上述所有可选技术方案，可以采用任意结合形成本申请的可选实施例，在此不再一一赘述。
请参考图13，其示出了本申请实施例提供的另一种柔性显示基板的制造方法的方法流程图，该方法可以用于制造图1、图2或图7所示的柔性显示基板01，本实施例以制造图7所示的柔性显示基板01为例进行说明。参见图13，该方法包括如下步骤：
步骤1301、在柔性衬底基板上依次形成屏障层和柔性基底层。
请参考图14，其示出了本申请实施例提供的一种在柔性衬底基板011上依次形成屏障层016和柔性基底层017之后的示意图，柔性衬底基板011可以为PI基板，屏障层016的形成材料均可以为SiOx、SiNx、Al2O3或SiOxNx等无机材料，或者，屏障层016的形成材料为有机材料。柔性基底层017的形成材料可以为PI。
可选地，首先，通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或等离子体增强化学气相沉积法(英文：Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition；简称：PECVD)等方法在柔性衬底基板011上沉积一层SiOx作为屏障层016；然后，在屏障层016上涂覆一层PI作为柔性基底层017。
步骤1302、在形成有柔性基底层的柔性衬底基板上形成应力控制层，柔性衬底基板具有折弯区域，应力控制层在柔性衬底基板上的正投影至少位于折弯区域中。
请参考图15，其示出了本申请实施例提供的一种在形成有柔性基底层017的柔性衬底基板011上形成应力控制层012之后的示意图，参见图1和图15，柔性衬底基板011具有折弯区域A1(图15中未标出)，应力控制层012在柔性衬底基板011上的正投影至少位于折弯区域A1中。可选地，应力控制层012在柔性衬底基板011上的正投影位于折弯区域A1中，且应力控制层012具有镂空，例如，应力控制层012的结构可以为如图3至图5所示任一所示的网状结构。或者如图6所示，应力控制层012由多个延伸方向相同的应力控制条构成。在本申请实施例中，应力控制层012的形成材料可以为金属或非金属，若应力控制层012的形成材料为金属且应力控制层012的结构为网状结构，则该应力控制层012可以称为金属网格层，若应力控制层012的形成材料为非金属，则该非金属可以为质地较柔软且柔韧性较好的非金属。其中，金属例如可以是金属金属Mo、金属Cu、金属Al、金属Ti及其合金。
可选地，通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在有柔性基底层017的柔性衬底基板011上沉积一层金属Mo，得到金属Mo材质层，然后通过一次构图工艺对金属Mo材质层进行处理得到应力控制层012。
其中，一次构图工艺包括光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和光刻胶剥离，通过一次构图工艺对金属Mo材质层进行处理得到应力控制层012，包括：在金属Mo材质层上涂覆一层光刻胶得到光刻胶层，采用掩膜版对光刻胶层进行曝光，使光刻胶层形成完全曝光区和非曝光区，之后通过显影工艺处理，使完全曝光区的光刻胶被完全去除，非曝光区的光刻胶全部保留，采用刻蚀工艺对金属Mo材质层上完全曝光区对应的区域进行刻蚀，最后剥离非曝光区的光刻胶，金属Mo材质层上与非曝光区对应的区域即为应力控制层012。需要说明的是，本申请实施例是以采用正性光刻胶形成应力控制层012为例说明的，还可以采用负性光刻胶形成应力控制层012，本申请实施例对此不做限定。
步骤1303、在形成有应力控制层的柔性衬底基板上形成第一绝缘层。
请参考图16，其示出了本申请实施例提供的一种在形成有应力控制层012的柔性衬底基板011上形成第一绝缘层014之后的示意图，第一绝缘层014的形成过程可以参考步骤1301中屏障层016的形成过程，在此不再赘述。
步骤1304、在形成有应力控制层的柔性衬底基板上形成依次叠加的缓冲层、有源层、栅绝缘层、栅极和层间介质层，缓冲层、栅绝缘层和层间介质层构成第二绝缘层，第二绝缘层上具有折弯孔，折弯孔在柔性衬底基板上的正投影与柔性衬底基板的折弯区域重叠。
请参考图17，其示出了本申请实施例提供的一种在形成有第一绝缘层014的柔性衬底基板011上形成依次叠加的缓冲层0151、有源层(图17中未示出)、栅绝缘层0152、栅极(图17中未示出)和层间介质层0153之后的示意图，缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153构成第二绝缘层015，第二绝缘层015上具有折弯孔K，折弯孔K在柔性衬底基板011上的正投影与柔性衬底基板011的折弯区域(图17中未标出)重叠。可选地，折弯孔K在柔性衬底基板011上的正投影可以覆盖柔性衬底基板011的折弯区域，进一步地，折弯孔K在柔性衬底基板011上的正投影可以与柔性衬底基板011的折弯区域重合。
在本申请实施例中，缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153中的每个膜层可以由至少一个膜层构成，缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153这三者的形成材料均可以为SiOx、SiNx、Al2O3或SiOxNx等无机材料，或者，缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153这三者的形成材料均可以为有机绝缘材料，缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153这三者的形成材料可以相同或不同。有源层可以为a-si有源层或氧化物有源层，a-si有源层例如可以为LTPS有源层，氧化物有源层例如可以为IGZO有源层或ITZO有源层。栅极的形成材料可以为金属Mo、金属Cu、金属Al、金属Ti及其合金。
可选地，在形成有第一绝缘层014的柔性衬底基板011上形成依次叠加的缓冲层0151、有源层、栅绝缘层0152、栅极和层间介质层0153包括以下步骤：
步骤(1)、通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有第一绝缘层014的柔性衬底基板011上沉积一层SiOx作为缓冲层0151。
步骤(2)、通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有缓冲层0151的柔性衬底基板011上沉积一层IGZO，得到IGZO材质层，然后通过一次构图工艺对IGZO材质层进行处理得到有源层。
步骤(3)、通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有有源层的柔性衬底基板011上沉积一层Al2O3作为栅绝缘层0152。
步骤(4)、通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有栅绝缘层0152的柔性衬底基板011上沉积一层金属Al，得到金属Al材质层，然后通过一次构图工艺对金属Al材质层进行处理得到栅极。
步骤(5)、通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有栅极的柔性衬底基板011上沉积一层SiOxNx作为层间介质层0153。
步骤(6)、通过一次构图工艺对第二绝缘层015(由缓冲层0151、栅绝缘层0152和层间介质层0153构成)进行处理，以在第二绝缘层015上形成折弯孔K。
步骤1304、在形成有第二绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层，走线层中的信号走线部分位于折弯孔中，部分位于第二绝缘层上。
请参考图18，其示出了本申请实施例提供的一种在形成有第二绝缘层015的柔性衬底基板011上形成走线层之后的示意图，参见图17和图18，走线层包括信号走线013，信号走线013部分位于折弯孔K中，部分位于第二绝缘层015上。由于信号走线013部分位于折弯孔K中，且折弯孔K在柔性衬底基板011上的正投影与柔性衬底基板011的折弯区域重叠，因此信号走线013在柔性衬底基板011上的正投影部分位于折弯区域中。走线层的形成材料可以为导电材料，且具体可以是金属Mo、金属Cu、金属Al、金属Ti及其合金材料。
可选地，通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有第二绝缘层015的柔性衬底基板011上沉积一层金属Cu得到金属Cu材质层，然后通过一次构图工艺对金属Cu材质层进行处理得到走线层，走线层包括信号走线013。通过一次构图工艺对金属Cu材质层进行处理的过程可以参考步骤1301中通过一次构图工艺对金属Mo材质层进行处理的过程，本申请实施例在此不再赘述。
需要说明的是，信号走线013可以为栅极走线或源漏极走线，本文以信号走线013为源漏极走线为例进行说明，实际应用中，柔性显示基板01还包括源极和漏极，有源层、栅极、源极和漏极构成TFT，该柔性显示基板的制造方法还包括形成源极和漏极，由于源极和漏极通常与源漏极走线同层设置且可以通过同一次工艺形成，因此当信号走线013为源漏极走线时，可以在形成走线层的过程中形成源极和漏极。此外，源极和漏极通常与有源层接触，在形成走线层之前，可以在层间介质层0153和栅绝缘层0152上形成过孔，以使得源极和漏极分别通过过孔与有源层接触。
在本申请实施例中，若柔性显示基板01为OLED显示基板，则在步骤1301至步骤1304的基础上，该柔性显示基板的制造方法还包括下述步骤1305。
步骤1305、在形成有走线层的柔性衬底基板上依次形成平坦层、阳极、像素界定层、发光层和阴极。
在形成有走线层的柔性衬底基板011上依次形成平坦层018、阳极、像素界定层019、发光层和阴极之后的示意图可以参考图7。平坦层018和像素界定层019的形成材料均可以为有机树脂，阳极和阴极的形成材料均可以为ITO、IZO或ZnO:Al，发光层的形成材料可以为有机发光材料、电致发光材料或光致发光材料。
可选地，在形成有走线层的柔性衬底基板011上依次形成形成平坦层018、阳极、像素界定层019、发光层和阴极可以包括以下步骤：
步骤(1)、通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有走线层的柔性衬底基板011上沉积一层有机树脂作为平坦层018。
步骤(2)、通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有平坦层018的柔性衬底基板011上沉积一层ITO，得到ITO材质层，然后通过一次构图工艺对ITO材质层进行处理得到阳极。
步骤(3)、通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有阳极的柔性衬底基板011上沉积一层有机树脂，得到有机树脂层，然后通过一次构图工艺对有机树脂层进行处理得到像素界定层019。
步骤(4)、通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有像素界定层019的柔性衬底基板011上沉积一层有机发光材料，得到有机发光材质层，然后通过一次构图工艺对有机发光材质层进行处理得到发光层。
步骤(5)、通过涂覆、磁控溅射、热蒸发或PECVD等方法在形成有发光层的柔性衬底基板011上沉积一层IZO作为阴极。该步骤(5)是以阴极为面状电极(也即是整个柔性显示基板01具有一个阴极)为例说明的，若阴极为块状电极，则在沉积IZO后可以通过构图工艺对沉积的IZO材质层进行处理，以得到阴极。
需要说明的是，在形成阴极之后，还可以形成隔垫物层和封装结构等结构。此外，由于柔性衬底基板011是柔性的，因此可以将柔性衬底基板011设置在硬质基板(例如玻璃基板或陶瓷基板)执行上述步骤1301至步骤1305，在执行完上述步骤1301至步骤1305后，可以将硬质基板剥离，以得到如图7所示的柔性显示基板01，本申请实施例对此不做限定。
还需要说明的是，本申请实施例提供的柔性显示基板的制造方法步骤的先后顺序可以进行适当调整，步骤也可以根据情况进行相应增减，任何熟悉本技术领域的技术人员在本申请揭露的技术范围内，可轻易想到变化的方法，都应涵盖在本申请的保护范围之内，因此不再赘述。
综上所述，本申请实施例提供的柔性显示基板的制造方法，由于柔性衬底基板的折弯区域中具有应力控制层，该应力控制层可以耦合柔性衬底基板与信号走线之间的应力，使得在对柔性显示基板折弯的过程中，位于柔性显示基板的折弯区域中的信号走线受到的应力较小，避免折弯过程中信号走线发生断裂，提高了柔性显示基板的折弯性能。
本申请实施例还提供了一种显示装置，该显示装置包括上述实施例提供的柔性显示基板01，上述实施例提供的柔性显示基板01具有相对设置的显示面(图中均未标出)和非显示面(图中均未标出)，且显示面具有边缘区域，在该显示装置中，柔性显示基板01的边缘区域被折弯至柔性显示基板01的非显示面所在侧，该柔性显示基板01上被折弯的区域可以称为该柔性显示基板01的折弯区域，柔性显示基板01的折弯区域与柔性衬底基板011的折弯区域对应.
其中，该显示装置可以为窄边框显示装置、无边框显示装置或全面屏显示装置，例如，该该显示装置可以为显示面板，手表、手环等可穿戴设备，手机、平板电脑等移动终端，或者，电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
本申请中术语“和/或”，仅仅是一种描述关联对象的关联关系，表示可以存在三种关系，例如，M和/或N，可以表示：单独存在M，同时存在M和N，单独存在N这三种情况。
以上所述仅为本申请的较佳实施例，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (9)

1.一种柔性显示基板，其特征在于，所述柔性显示基板包括：
柔性衬底基板以及设置在所述柔性衬底基板上的应力控制层和走线层，所述柔性衬底基板具有折弯区域，所述应力控制层至少位于所述折弯区域中，所述应力控制层为金属网格层，所述应力控制层远离所述柔性衬底基板的一面是非平整的表面，所述走线层中的信号走线在所述柔性衬底基板上的正投影部分位于所述折弯区域中，所述应力控制层用于耦合所述柔性衬底基板与所述信号走线之间的应力。
2.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述应力控制层位于所述折弯区域中。
3.根据权利要求1所述的柔性显示基板，其特征在于，所述柔性显示基板还包括：设置在所述应力控制层与所述走线层之间的第一绝缘层。
4.根据权利要求3所述的柔性显示基板，其特征在于，所述柔性显示基板还包括：设置在所述第一绝缘层与所述走线层之间的第二绝缘层，所述第二绝缘层上具有折弯孔，所述折弯孔在所述柔性衬底基板上的正投影与所述柔性衬底基板的折弯区域重叠，所述信号走线部分位于所述折弯孔中，部分位于所述第二绝缘层上。
5.根据权利要求4所述的柔性显示基板，其特征在于，所述信号走线包括源漏极走线，
所述第二绝缘层包括：依次设置在所述第一绝缘层与所述走线层之间的缓冲层、栅绝缘层和层间介质层；
所述柔性显示基板还包括：设置在所述缓冲层与所述栅绝缘层之间的有源层，以及，设置在所述栅绝缘层与所述层间介质层之间的栅极。
6.根据权利要求5所述的柔性显示基板，其特征在于，所述柔性显示基板还包括：依次设置在所述柔性衬底基板与所述应力控制层之间的屏障层和柔性基底层，以及，依次设置在所述走线层上的平坦层、阳极、像素界定层、发光层和阴极。
7.一种柔性显示基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括：
在柔性衬底基板上形成应力控制层，所述柔性衬底基板具有折弯区域，所述应力控制层至少位于所述折弯区域中，所述应力控制层为金属网格层，所述应力控制层远离所述柔性衬底基板的一面是非平整的表面；
在形成有所述应力控制层的柔性衬底基板上形成走线层，所述走线层中的信号走线在所述柔性衬底基板上的正投影部分位于所述折弯区域中；
其中，所述应力控制层用于耦合所述柔性衬底基板与所述信号走线之间的应力。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，在形成有所述应力控制层的柔性衬底基板上形成走线层之前，所述方法还包括：在形成有所述应力控制层的柔性衬底基板上形成第一绝缘层；
所述在形成有所述应力控制层的柔性衬底基板上形成走线层，包括：在形成有所述第一绝缘层的柔性衬底基板上形成走线层。
9.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括权利要求1至6任一所述的柔性显示基板，所述柔性显示基板具有相对设置的显示面和非显示面，所述显示面具有边缘区域，所述边缘区域被折弯至所述柔性显示基板的非显示面所在侧，所述柔性显示基板上被折弯的区域与所述柔性衬底基板的折弯区域对应。
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