CN109239991A - 一种显示面板的制程和显示面板 - Google Patents

一种显示面板的制程和显示面板 Download PDF

Info

Publication number
CN109239991A
CN109239991A CN201811179579.7A CN201811179579A CN109239991A CN 109239991 A CN109239991 A CN 109239991A CN 201811179579 A CN201811179579 A CN 201811179579A CN 109239991 A CN109239991 A CN 109239991A
Authority
CN
China
Prior art keywords
metal
layer
substrate
transparent electrode
metal layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN201811179579.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109239991B (zh
Inventor
吴川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
HKC Co Ltd
Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
HKC Co Ltd
Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by HKC Co Ltd, Chongqing HKC Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical HKC Co Ltd
Priority to CN201811179579.7A priority Critical patent/CN109239991B/zh
Priority to PCT/CN2018/115208 priority patent/WO2020073415A1/zh
Priority to US16/313,885 priority patent/US11119362B1/en
Publication of CN109239991A publication Critical patent/CN109239991A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109239991B publication Critical patent/CN109239991B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345—Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134318—Electrodes characterised by their geometrical arrangement having a patterned common electrode

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)

Abstract

本发明公开了一种显示面板的制程和显示面板。制程包括在衬底上覆盖金属材料层，形成第一金属层和公共线；第一金属层的上方形成栅极绝缘层，并把栅极绝缘层对应转接区的部位蚀刻掉形成栅极绝缘凹陷区；栅极绝缘层的上方形成第二金属层，并把第二金属层对应栅极绝缘凹陷区的部位蚀刻掉形成第二金属凹陷区；第二金属层的上方形成钝化层，并把钝化层对应转接区的部位蚀刻掉形成钝化凹陷区，第二金属层露出的表面为第二金属转接区；第一金属层对应转接区的上方形成透明电极层，使得透明电极层覆盖第二金属转接区，透明电极层与公共线连通；透明电极层的上方设置金球，并使金球连通第一基板的透明电极层和第二基板的公共电极。提高了显示质量。

Description

一种显示面板的制程和显示面板
技术领域
本发明涉及显示技术领域，更具体的说，涉及一种显示面板的制程和显示面板。
背景技术
液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶面板及背光模组(BacklightModule)。液晶面板的工作原理是在两片平行的基板当中放置液晶分子，并在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。
在VA(Vertical Alignment)技术的LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)中，液晶由加载在彩膜基板和阵列基板之间形成的垂直电场使之转动，从而使液晶形成不同的偏转角度，从而使得上偏光片能透过不同强度的光。在电场加载过程中，彩膜基板上的电场由Transfer Pad(转接区)将信号从阵列基板导入至彩膜基板。通常在面板周边设置一圈第一金属层和第二金属层的网状公共电极走线，在合适的位置设计Transfer Pad(转接区)。Transfer Pad(转接区)位置在第一金属层或者第一金属层和第二金属层之上铺上透明电极层即形成Transfer Pad(转接区)，面板实际工作过程中，由第一金属层传输的公共电极信号在Transfer Pad区域通过第一金属层经过金球最后传到彩膜基板的公共电极，从阵列基板传输至彩膜基板。
其中，在阵列基板侧AA区(可视区)外的框胶(sealant)区域内制作转接区(transfer pad)，然后在液晶盒制程阶段进行金球(Auball)撒布，以形成像素电极与共用电极之间的电气连接。但是，在框胶和金球涂布的时候，会造成显示异常。
发明内容
有鉴于上述问题，本发明提供一种新型的Transfer Pad设计，使得Transfer Pad区域有更深的沟槽，以提升显示质量的一种显示面板的制程和显示面板。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示面板的制程，包括：
在衬底上覆盖一层金属材料层，形成位于非显示区的第一金属层和位于显示区的公共线；
在第一金属层的上方形成栅极绝缘层，并把所述栅极绝缘层对应转接区的部位蚀刻掉形成栅极绝缘凹陷区；
在所述栅极绝缘层的上方形成第二金属层，并把所述第二金属层对应所述栅极绝缘凹陷区的部位蚀刻掉形成第二金属凹陷区；
在所述第二金属层的上方形成钝化层，并把所述钝化层对应转接区的部位蚀刻掉形成钝化凹陷区，所述钝化凹陷区的宽度宽于第二金属凹陷区的宽度，第二金属层露出的表面为第二金属转接区；
在所述第二金属层的上方形成透明电极层，使得所述透明电极层覆盖所述第二金属转接区，所述透明电极层通过所述第二金属转接区与所述公共线连通，以形成第一基板；
形成设有公共电极的第二基板；
在所述透明电极层的上方设置金球，并使所述金球连通所述第一基板的透明电极层和所述第二基板的公共电极。
可选的，在所述第二金属层的上方形成透明电极层，使得所述透明电极层覆盖所述第二金属转接区，所述透明电极层通过所述第二金属转接区与所述公共线连通的步骤包括：
形成的透明电极层覆盖在所述第一金属层对应所述转接区的上方的表面，以及栅极绝缘层、第二金属层对应第二金属凹陷区的侧壁和第二金属转接区处。
可选的，在所述第二金属层的上方形成透明电极层，使得所述透明电极层覆盖所述第二金属转接区，所述透明电极层通过所述第二金属转接区与所述公共线连通的步骤包括：
把第一金属层对应转接区的部位部分蚀刻掉形成第一金属凹陷区；
形成的透明电极层覆盖在第一金属凹陷区，以及栅极绝缘层、第二金属层对应第二金属凹陷区的侧壁和第二金属转接区处。
可选的，所述第一金属层和所述第一基板的公共线通过同一道制程形成，且相互电连接。
可选的，所述第二金属层和所述第一基板的公共线通过同一道制程形成，且相互电连接。
可选的，所述第一基板的公共线与所述第一金属层或第二金属层通过同一道光罩制成，所述第一金属层和第二金属层通过过孔电连接。
本发明还公开了一种显示面板，包括：
第一基板；
第二基板，和所述第一基板对置；
所述第一基板包括公共线，所述第二基板包括公共电极；
金球，设置在所述显示面板的非显示区，用于导通所述第一基板的公共线和第二基板的公共电极，所述金球设置的位置为转接区；
所述第一基板包括：
衬底；
第一金属层，设置在所述基板上；
栅极绝缘层，设置在所述第一金属层上方，对应转接区镂空，形成栅极绝缘凹陷区；
第二金属层，设置在所述栅极绝缘层上方，所述第二金属层对应栅极绝缘凹陷区的部位镂空，形成第二金属凹陷区；
钝化层，设置在所述第二金属层上方，所述钝化层对应栅极绝缘凹陷区的部位镂空，形成钝化凹陷区，所述钝化凹陷区的宽度大于第二金属层凹陷区的宽度，第二金属层露出的表面为第二金属转接区；
透明电极层，覆盖第二金属转接区，所述透明电极层与所述第一基板的公共线连通；
所述金球设置在所述透明电极层对应所述第二金属凹陷区的位置，连通所述第一基板的透明电极层和所述第二基板的公共电极。
可选的，所述透明电极层覆盖所述第二金属转接区，同时覆盖在所述第一金属层表面、栅极绝缘层以及第二金属层对应第二金属凹陷区一侧的侧壁。
可选的，第一金属凹陷区，位于所述第一金属层对应所述转接区的镂空处；所述透明电极层覆盖第一金属凹陷区，以及栅极绝缘层、第二金属层对应第二金属凹陷区一侧的侧壁和第二金属转接区处。
本发明还公开了一种显示装置，包括上述的显示面板。
在VA(Vertical Alignment)技术的LCD中，液晶由加载在第一基板和第二基板之间形成的垂直电场使之转动，从而使液晶形成不同的偏转角度，从而使得上偏光片能透过不同强度的光。在电场加载过程中，为了使第一基板上的公共线和第二基板的公共电极相互导通，第一基板的密封胶内要设置导电的转接区，以便金球接触上下基板；而不设置金球的位置，则可不设置转接区。在第一基板的转接区，铺设与公共线连通的透明电极层；而在不设置转接区的位置处，则可对公共线镂空成网格状以便对密封胶照光固化，这种方案，在对盒后，金球和密封胶涂布时，金球若被挤压突出转接区，就会造成上下基板导通不好，或盒厚异常，造成显示异常。而本方案中，透明电极层覆盖第二金属转接区，并且透明电极层通过第二金属转接区与公共线连通，而在透明电极层的上方设置金球，使得所述金球连通所述第一基板的透明电极层和第二基板的公共电极，最后实现第一基板的公共线和第二基板的公共电极相互导通。这样由于第二金属转接区加宽了转接区的整体宽度，可以使得涂布的密封胶避免溢出转接区，提高显示质量。
附图说明
所包括的附图用来提供对本申请实施例的进一步的理解，其构成了说明书的一部分，用于例示本申请的实施方式，并与文字描述一起来阐释本申请的原理。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。在附图中：
图1是本发明实施例一种显示面板基本结构的示意图；
图2是图1中A-A’区域放大的示意图；
图3是图1中A-A’区域剖面图的示意图；
图4是本发明实施例一种显示面板的制作流程的示意图；
图5是本发明实施例一种显示面板的结构的示意图(1)；
图6是本发明实施例一种显示面板的结构的示意图(2)；
图7为本发明实施例一种显示面板的结构的示意图(3)；
图8为本发明实施例一种显示装置的结构示意图。
其中，1、显示装置；2、显示面板；10、衬底；20、第一金属层；201、第一金属凹陷区；30、栅极绝缘层；301、栅极绝缘凹陷区；40、第二金属层；401、第二金属凹陷区；50、钝化层；501、钝化凹陷区；60、透明电极层；70、金球；80、第二基板；90、第二金属转接区；91、第一金属转接区；100、显示区；200、非显示区；201、第一连接区；202、转接区；203、第二连接区。
具体实施方式
这里所公开的具体结构和功能细节仅仅是代表性的，并且是用于描述本发明的示例性实施例的目的。但是本发明可以通过许多替换形式来具体实现，并且不应当被解释成仅仅受限于这里所阐述的实施例。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。另外，术语“包括”及其任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
这里所使用的术语仅仅是为了描述具体实施例而不意图限制示例性实施例。除非上下文明确地另有所指，否则这里所使用的单数形式“一个”、“一项”还意图包括复数。还应当理解的是，这里所使用的术语“包括”和/或“包含”规定所陈述的特征、整数、步骤、操作、单元和/或组件的存在，而不排除存在或添加一个或更多其他特征、整数、步骤、操作、单元、组件和/或其组合。
下面结合附图和较佳的实施例对本发明作进一步说明。
如图1至图8所示，本发明公开了一种显示面板的制程，包括：
在衬底10上覆盖一层金属材料层，形成位于非显示区200的第一金属层20和位于显示区100的公共线；
在第一金属层20的上方形成栅极绝缘层30，并把所述栅极绝缘层30对应转接区202的部位蚀刻掉形成栅极绝缘凹陷区301；
在所述栅极绝缘层30的上方形成第二金属层40，并把所述第二金属层40对应所述栅极绝缘凹陷区301的部位蚀刻掉形成第二金属凹陷区401；
在所述第二金属层40的上方形成钝化层50，并把所述钝化层50对应转接区202的部位蚀刻掉形成钝化凹陷区501，所述钝化凹陷区501的宽度宽于第二金属凹陷区401的宽度，第二金属层40露出的表面为第二金属转接区20290；
在所述第二金属层40的上方形成透明电极层60，使得所述透明电极层60覆盖所述第二金属转接区20290，所述透明电极层60通过所述第二金属转接区20290与所述公共线连通，以形成第一基板；
形成设有公共电极的第二基板80；
在所述透明电极层60的上方设置金球70，并使所述金球70连通所述第一基板的透明电极层60和所述第二基板80的公共电极。
其中，所述第一基板为阵列基板，所述第二基板80为彩膜基板。
在VA(Vertical Alignment)技术的LCD中，液晶由加载在阵列基板和彩膜基板之间形成的垂直电场使之转动，从而使液晶形成不同的偏转角度，从而使得上偏光片能透过不同强度的光。在电场加载过程中，为了使阵列基板上的公共线和彩膜基板的公共电极相互导通，阵列基板的密封胶内要设置导电的转接区202，以便金球70接触上下基板；而不设置金球70的位置，则可不设置转接区202。在阵列基板的转接区202，铺设与公共线连通的透明电极层60；而在不设置转接区202的位置处，则可对公共线镂空成网格状以便对密封胶照光固化，这种方案，在对盒后，金球70和密封胶涂布时，金球70若被挤压突出转接区202，就会造成上下基板导通不好，或盒厚异常，造成显示异常。而本方案中，透明电极层60覆盖第二金属转接区20290，并且透明电极层60通过第二金属转接区20290与公共线连通，而在透明电极层60的上方设置金球70，使得所述金球70连通所述阵列基板的透明电极层60和彩膜基板的公共电极，最后实现阵列基板的公共线和彩膜基板的公共电极相互导通。这样由于第二金属转接区20290加宽了转接区202的整体宽度，可以使得涂布的密封胶避免溢出转接区202，提高显示质量。
其中，衬底10可以为玻璃基板。
本实施例可选的，在所述第二金属层40的上方形成透明电极层60，使得所述透明电极层60覆盖所述第二金属转接区20290，所述透明电极层60通过所述第二金属转接区20290与所述公共线连通的步骤包括：
形成的透明电极层60覆盖在所述第一金属层20对应所述转接区202的上方的表面，以及栅极绝缘层30、第二金属层40对应第二金属凹陷区401的侧壁和第二金属转接区20290处。
本方案中，形成的透明电极层60覆盖在第一金属层20对应转接区202的上方的表面，透明电极层60直接和第一金属层20接触，导电性更好。
作为本发明的另一实施例，参考图4所示，公开了一种显示面板2的制程，包括：
S41：在衬底10上覆盖一层金属材料层，形成位于非显示区200的第一金属层20和位于显示区100的公共线，把第一金属层20对应转接区202的部位部分蚀刻掉形成第一金属凹陷区201；
S42：在第一金属层20的上方形成栅极绝缘层30，并把所述栅极绝缘层30对应转接区202的部位蚀刻掉形成栅极绝缘凹陷区301；
S43：在所述栅极绝缘层30的上方形成第二金属层40，并把所述第二金属层40对应所述栅极绝缘凹陷区301的部位蚀刻掉形成第二金属凹陷区401；
S44：在所述第二金属层40的上方形成钝化层50，并把所述钝化层50对应转接区202的部位蚀刻掉形成钝化凹陷区501，所述钝化凹陷区501的宽度宽于第二金属凹陷区401的宽度，第二金属层40露出的表面为第二金属转接区20290；
S45：在所述第二金属层40的上方形成透明电极层60，形成的所述透明电极层60覆盖在第一金属凹陷区201，以及栅极绝缘层30、第二金属层40对应第二金属凹陷区401的侧壁和第二金属转接区20290处；
S46：所述透明电极层60通过所述第二金属转接区20290与所述公共线连通，以形成第一基板；
S47：形成设有公共电极的第二基板80；
S48：在所述透明电极层60的上方设置金球70，并使所述金球70连通所述第一基板的透明电极层60和所述第二基板80的公共电极。
本方案中，把第一金属层20对应转接区202的部位部分蚀刻形成第一金属凹陷区201，形成的透明电极层60覆盖在第一金属凹陷区201，同时覆盖在栅极绝缘层30、第二金属层40对应第二金属凹陷区401的侧壁以及第二金属转接区20290处，使得转接区202的深度加深，可以使得涂布的密封胶避免溢出转接区202，提高显示质量。
本实施例可选的，所述第一金属层20和所述第一基板的公共线通过同一道制程形成，且相互电连接。
本方案中，第一基板为阵列基板，第一金属层20和阵列基板的公共线通过同一道制程形成，不需要通过打孔将电极进行连接，减少了制程。
本实施例可选的，所述第二金属层40和所述第一基板的公共线通过同一道制程形成，且相互电连接。
本方案中，第一基板为阵列基板，第二金属层40和阵列基板的公共线通过同一道制程形成，不需要通过打孔将电极进行连接，减少了制程。
本实施例可选的，所述第一基板的公共线与所述第一金属层20或第二金属层40通过同一道光罩制成，所述第一金属层20和第二金属层40通过过孔电连接。
本方案中，第一基板为阵列基板，第一金属层20和第二金属层40通过过孔电连接，减少了断线带来的断路的可能；阵列基板的第一公共电极与第一金属层20同层且电连接时，第二金属层40和显示区100的第二金属层40绝缘；阵列基板的第一公共电极与第二金属层40同层且电连接时，第一金属层20和显示区100的第一金属层20绝缘，防止串扰。
作为本发明的另一实施例，参考图5和图6所示，公开了一种显示面板2，包括：
第一基板；
第二基板80，和所述第一基板对置；
所述第一基板包括公共线，所述第二基板80包括公共电极；
金球70，设置在所述显示面板2的非显示区200，用于导通所述第一基板的公共线和第二基板80的公共电极，所述金球70设置的位置为转接区202；
所述第一基板包括：
衬底10；
第一金属层20，设置在所述基板上；
栅极绝缘层30，设置在所述第一金属层20上方，对应转接区202镂空，形成栅极绝缘凹陷区301；
第二金属层40，设置在所述栅极绝缘层30上方，所述第二金属层40对应栅极绝缘凹陷区301的部位镂空，形成第二金属凹陷区401；
钝化层50，设置在所述第二金属层40上方，所述钝化层50对应栅极绝缘凹陷区301的部位镂空，形成钝化凹陷区501，所述钝化凹陷区501的宽度大于第二金属层40凹陷区的宽度，第二金属层40露出的表面为第二金属转接区20290；
透明电极层60，覆盖第二金属转接区20290，所述透明电极层60与所述第一基板的公共线连通；
所述金球70设置在所述透明电极层60对应所述第二金属凹陷区401的位置，连通所述第一基板的透明电极层60和所述第二基板80的公共电极。
在VA(Vertical Alignment)技术的LCD中，液晶由加载在第一基板和第二基板80之间形成的垂直电场使之转动，从而使液晶形成不同的偏转角度，从而使得上偏光片能透过不同强度的光。在电场加载过程中，为了使第一基板上的公共线和第二基板80的公共电极相互导通，第一基板的密封胶内要设置导电的转接区202，以便金球70接触上下基板；而不设置金球70的位置，则可不设置转接区202。在第一基板的转接区202，铺设与公共线连通的透明电极层60；而在不设置转接区202的位置处，则可对公共线镂空成网格状以便对密封胶照光固化，这种方案，在对盒后，金球70和密封胶涂布时，金球70若被挤压突出转接区202，就会造成上下基板导通不好，或盒厚异常，造成显示异常。而本方案中，透明电极层60覆盖第二金属转接区20290，并且透明电极层60通过第二金属转接区20290与公共线连通，而在透明电极层60的上方设置金球70，使得所述金球70连通所述第一基板的透明电极层60和第二基板80的公共电极，最后实现第一基板的公共线和第二基板80的公共电极相互导通。这样由于第二金属转接区20290加宽了转接区202的整体宽度，可以使得涂布的密封胶避免溢出转接区202，提高显示质量。
本实施例可选的，参考图5所示，所述透明电极层60覆盖所述第二金属转接区20290，同时覆盖在所述第一金属层20表面、栅极绝缘层30以及第二金属层40对应第二金属凹陷区401一侧的侧壁。
本方案中，形成的透明电极层60覆盖在第一金属层20对应转接区202的上方的表面，透明电极层60直接和第一金属层20接触，导电性更好。
本实施例可选的，参考图6所示，第一金属凹陷区201，位于所述第一金属层20对应所述转接区202的镂空处；所述透明电极层60覆盖第一金属凹陷区201，以及栅极绝缘层30、第二金属层40对应第二金属凹陷区401一侧的侧壁和第二金属转接区20290处。
本方案中，把第一金属层20对应转接区202的部位部分蚀刻形成第一金属凹陷区201，形成的透明电极层60覆盖在第一金属凹陷区201，同时覆盖在栅极绝缘层30、第二金属层40对应第二金属凹陷区401的侧壁以及第二金属转接区20290处，使得转接区202的深度加深，可以使得涂布的密封胶避免溢出转接区202，提高显示质量。
其中，第一金属层20的厚度一般在或
其中，靠近第一连接区201的第二金属转接区20290的宽度为X1，一般X1的范围为5μm≤X1≤500μm或10μm≤X1≤500μm；靠近第二连接区203的第二金属转接区20290的宽度为X2，一般X2的范围为5μm≤X2≤500μm或10μm≤X1≤500μm。
作为本发明的另一实施例，参考图7所示，公开了一种显示面板2包括：
阵列基板；
彩膜基板，所述阵列基板和所述彩膜基板相对设置；
所述阵列基板包括公共线，所述彩膜基板包括公共电极；
金球70，设置在所述显示面板2的非显示区200，用于导通所述阵列基板的公共线和彩膜基板的公共电极，所述金球70设置的位置为转接区202；
所述阵列基板包括：
衬底10；
第一金属层20，设置在所述基板上，所述第一金属层20对应所述转接区202镂空，形成第一金属凹陷区201；
栅极绝缘层30，设置在所述第一金属层20上方，对应第一金属凹陷区201镂空，形成栅极绝缘凹陷区301，所述栅极绝缘凹陷区301的宽度大于所述第一金属凹陷区201的宽度，所述第一金属层露出的表面为第一金属转接区20291；
第二金属层40，设置在所述栅极绝缘层30上方，所述第二金属层40对应栅极绝缘凹陷区301的部位镂空，形成第二金属凹陷区401；
钝化层50，设置在所述第二金属层40上方，所述钝化层50对应所述第二金属凹陷区401的部位镂空，形成钝化凹陷区501；
透明电极层60，覆盖第一金属凹陷区201和第一金属转接区20291，所述透明电极层60与所述阵列基板的公共线连通；
所述金球70设置在所述透明电极层60对应所述第一金属凹陷区201的位置，连通所述第一基板的透明电极层60和所述第二基板80的公共电极。
本方案中，在制作阵列基板时，在基板上覆盖一层金属材料层，将金属材料层对应转接区202的位置部分蚀刻掉，形成第一金属凹陷区201，在第一金属凹陷区201上方形成透明电极层60，并将透明电极层60与公共线电连接，再在透明电极层60的上方设置金球70，金球70连通阵列基板的公共线和彩膜基板的公共电极，第一金属凹陷区201增加了转接区202的深度，可以使得涂布的金球70和密封胶避免溢出转接区202，提高显示质量。
作为本发明的另一实施例，参考图8所示，公开了一种显示装置1，包括上述的显示面板2。
本发明的面板可以是TN面板(全称为Twisted Nematic，即扭曲向列型面板)、IPS面板(In-PlaneSwitching，平面转换)、VA面板(Multi-domain Vertical Aignment，多象限垂直配向技术)，当然，也可以是其他类型的面板，适用即可。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种显示面板的制程，其特征在于，包括：
在衬底上覆盖一层金属材料层，形成位于非显示区的第一金属层和位于显示区的公共线；
在第一金属层的上方形成栅极绝缘层，并把所述栅极绝缘层对应转接区的部位蚀刻掉形成栅极绝缘凹陷区；
在所述栅极绝缘层的上方形成第二金属层，并把所述第二金属层对应所述栅极绝缘凹陷区的部位蚀刻掉形成第二金属凹陷区；
在所述第二金属层的上方形成钝化层，并把所述钝化层对应转接区的部位蚀刻掉形成钝化凹陷区，所述钝化凹陷区的宽度宽于第二金属凹陷区的宽度，第二金属层露出的表面为第二金属转接区；
在所述第二金属层的上方形成透明电极层，使得所述透明电极层覆盖所述第二金属转接区，所述透明电极层通过所述第二金属转接区与所述公共线连通，以形成第一基板；
形成设有公共电极的第二基板；
在所述透明电极层的上方设置金球，并使所述金球连通所述第一基板的透明电极层和所述第二基板的公共电极。
2.如权利要求1所述的一种显示面板的制程，其特征在于，在所述第二金属层的上方形成透明电极层，使得所述透明电极层覆盖所述第二金属转接区，所述透明电极层通过所述第二金属转接区与所述公共线连通的步骤包括：
形成的透明电极层覆盖在所述第一金属层对应所述转接区的上方的表面，以及栅极绝缘层、第二金属层对应第二金属凹陷区的侧壁和第二金属转接区处。
3.如权利要求1所述的一种显示面板的制程，其特征在于，在所述第二金属层的上方形成透明电极层，使得所述透明电极层覆盖所述第二金属转接区，所述透明电极层通过所述第二金属转接区与所述公共线连通的步骤包括：
把第一金属层对应转接区的部位部分蚀刻掉形成第一金属凹陷区；
形成的透明电极层覆盖在第一金属凹陷区，以及栅极绝缘层、第二金属层对应第二金属凹陷区的侧壁和第二金属转接区处。
4.如权利要求1所述的一种显示面板的制程，其特征在于，所述第一金属层和所述第一基板的公共线通过同一道制程形成，且相互电连接。
5.如权利要求1所述的一种显示面板的制程，其特征在于，所述第二金属层和所述第一基板的公共线通过同一道制程形成，且相互电连接。
6.如权利要求1所述的一种显示面板的制程，其特征在于，所述第一基板的公共线与所述第一金属层或第二金属层通过同一道光罩制成，所述第一金属层和第二金属层通过过孔电连接。
7.一种显示面板，其特征在于，包括：
第一基板；
第二基板，和所述第一基板对置；
所述第一基板包括公共线，所述第二基板包括公共电极；
金球，设置在所述显示面板的非显示区，用于导通所述第一基板的公共线和第二基板的公共电极，所述金球设置的位置为转接区；
所述第一基板包括：
衬底；
第一金属层，设置在所述基板上；
栅极绝缘层，设置在所述第一金属层上方，对应转接区镂空，形成栅极绝缘凹陷区；
第二金属层，设置在所述栅极绝缘层上方，所述第二金属层对应栅极绝缘凹陷区的部位镂空，形成第二金属凹陷区；
钝化层，设置在所述第二金属层上方，所述钝化层对应栅极绝缘凹陷区的部位镂空，形成钝化凹陷区，所述钝化凹陷区的宽度大于第二金属层凹陷区的宽度，第二金属层露出的表面为第二金属转接区；
透明电极层，覆盖第二金属转接区，所述透明电极层与所述第一基板的公共线连通；
所述金球设置在所述透明电极层对应所述第二金属凹陷区的位置，连通所述第一基板的透明电极层和所述第二基板的公共电极。
8.如权利要求7所述的一种显示面板，其特征在于，所述透明电极层覆盖所述第二金属转接区，同时覆盖在所述第一金属层表面、栅极绝缘层以及第二金属层对应第二金属凹陷区一侧的侧壁。
9.如权利要求7所述的一种显示面板，其特征在于，
第一金属凹陷区，位于所述第一金属层对应所述转接区的镂空处；所述透明电极层覆盖第一金属凹陷区，以及栅极绝缘层、第二金属层对应第二金属凹陷区一侧的侧壁和第二金属转接区处。
10.一种显示装置，包括如权利要求7至9任意一项所述的显示面板。
CN201811179579.7A 2018-10-10 2018-10-10 一种显示面板的制程和显示面板 Active CN109239991B (zh)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811179579.7A CN109239991B (zh) 2018-10-10 2018-10-10 一种显示面板的制程和显示面板
PCT/CN2018/115208 WO2020073415A1 (zh) 2018-10-10 2018-11-13 显示面板的制程和显示面板
US16/313,885 US11119362B1 (en) 2018-10-10 2018-11-13 Display panel manufacturing process and display panel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811179579.7A CN109239991B (zh) 2018-10-10 2018-10-10 一种显示面板的制程和显示面板

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109239991A true CN109239991A (zh) 2019-01-18
CN109239991B CN109239991B (zh) 2021-01-08

Family

ID=65054429

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811179579.7A Active CN109239991B (zh) 2018-10-10 2018-10-10 一种显示面板的制程和显示面板

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11119362B1 (zh)
CN (1) CN109239991B (zh)
WO (1) WO2020073415A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110109300A (zh) * 2019-04-23 2019-08-09 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及显示面板的制作方法
WO2021184542A1 (zh) * 2020-03-18 2021-09-23 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板及显示面板

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109239998B (zh) * 2018-10-10 2020-03-31 惠科股份有限公司 一种显示面板和显示面板的制程
CN114594625B (zh) * 2022-02-23 2023-11-21 厦门天马微电子有限公司 显示面板及其制作方法

Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003029275A (ja) * 2001-07-19 2003-01-29 Seiko Epson Corp 電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法
JP2003066465A (ja) * 2001-08-30 2003-03-05 Seiko Epson Corp 液晶装置及びその製造方法
JP2004053815A (ja) * 2002-07-18 2004-02-19 Sharp Corp 液晶表示装置
JP2004294799A (ja) * 2003-03-27 2004-10-21 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子
KR20070003165A (ko) * 2005-06-30 2007-01-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
JP2007219235A (ja) * 2006-02-17 2007-08-30 United Microdisplay Optronics Corp 液晶パネル及びその製作方法
JP2008070652A (ja) * 2006-09-14 2008-03-27 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
US20110194062A1 (en) * 2010-02-11 2011-08-11 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Liquid crystal display device
CN102354069A (zh) * 2011-06-24 2012-02-15 友达光电股份有限公司 液晶显示面板
CN102645790A (zh) * 2011-02-22 2012-08-22 斯坦雷电气株式会社 液晶光学元件及液晶光学元件的制造方法
CN102650776A (zh) * 2011-08-02 2012-08-29 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶显示面板及液晶显示器
CN203287657U (zh) * 2013-05-30 2013-11-13 上海天马微电子有限公司 内嵌式触摸彩膜基板及液晶显示器
CN104216189A (zh) * 2014-09-26 2014-12-17 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种液晶显示面板及其制造方法
CN104317125A (zh) * 2014-11-13 2015-01-28 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种显示装置
CN104777650A (zh) * 2015-04-22 2015-07-15 京东方科技集团股份有限公司 Tft阵列基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置
US20170097533A1 (en) * 2015-10-02 2017-04-06 Samsung Display Co. Ltd. Liquid crystal display and method of manufacturing the same
CN107024809A (zh) * 2017-05-27 2017-08-08 深圳市华星光电技术有限公司 液晶盒透镜面板及液晶显示装置

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI372282B (en) * 2008-08-25 2012-09-11 Au Optronics Corp Liquid crystal display panel and manufacturing method thereof
CN101699335A (zh) * 2009-06-24 2010-04-28 深超光电（深圳）有限公司 液晶显示面板及其制造方法
KR101591476B1 (ko) * 2009-10-19 2016-02-19 삼성디스플레이 주식회사 표시 기판, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 표시 장치
CN102830550B (zh) * 2011-06-15 2015-05-27 上海天马微电子有限公司 液晶显示装置
KR20160065315A (ko) * 2014-11-28 2016-06-09 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치
KR102431444B1 (ko) * 2015-07-14 2022-08-11 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
CN108255354B (zh) * 2016-12-29 2021-03-12 南京瀚宇彩欣科技有限责任公司 内嵌式触控显示面板

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003029275A (ja) * 2001-07-19 2003-01-29 Seiko Epson Corp 電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法
JP2003066465A (ja) * 2001-08-30 2003-03-05 Seiko Epson Corp 液晶装置及びその製造方法
JP2004053815A (ja) * 2002-07-18 2004-02-19 Sharp Corp 液晶表示装置
JP2004294799A (ja) * 2003-03-27 2004-10-21 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子
KR20070003165A (ko) * 2005-06-30 2007-01-05 엘지.필립스 엘시디 주식회사 액정표시소자 및 그 제조방법
JP2007219235A (ja) * 2006-02-17 2007-08-30 United Microdisplay Optronics Corp 液晶パネル及びその製作方法
JP2008070652A (ja) * 2006-09-14 2008-03-27 Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd 液晶表示装置
US20110194062A1 (en) * 2010-02-11 2011-08-11 Samsung Mobile Display Co., Ltd. Liquid crystal display device
CN102645790A (zh) * 2011-02-22 2012-08-22 斯坦雷电气株式会社 液晶光学元件及液晶光学元件的制造方法
CN102354069A (zh) * 2011-06-24 2012-02-15 友达光电股份有限公司 液晶显示面板
CN102650776A (zh) * 2011-08-02 2012-08-29 北京京东方光电科技有限公司 一种液晶显示面板及液晶显示器
CN203287657U (zh) * 2013-05-30 2013-11-13 上海天马微电子有限公司 内嵌式触摸彩膜基板及液晶显示器
CN104216189A (zh) * 2014-09-26 2014-12-17 南京中电熊猫液晶显示科技有限公司 一种液晶显示面板及其制造方法
CN104317125A (zh) * 2014-11-13 2015-01-28 合肥鑫晟光电科技有限公司 一种显示装置
CN104777650A (zh) * 2015-04-22 2015-07-15 京东方科技集团股份有限公司 Tft阵列基板、其制作方法、液晶显示面板及显示装置
US20170097533A1 (en) * 2015-10-02 2017-04-06 Samsung Display Co. Ltd. Liquid crystal display and method of manufacturing the same
CN107024809A (zh) * 2017-05-27 2017-08-08 深圳市华星光电技术有限公司 液晶盒透镜面板及液晶显示装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110109300A (zh) * 2019-04-23 2019-08-09 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及显示面板的制作方法
CN110109300B (zh) * 2019-04-23 2021-12-03 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 一种显示面板及显示面板的制作方法
WO2021184542A1 (zh) * 2020-03-18 2021-09-23 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板及显示面板

Also Published As

Publication number Publication date
US20210263354A1 (en) 2021-08-26
US11119362B1 (en) 2021-09-14
CN109239991B (zh) 2021-01-08
WO2020073415A1 (zh) 2020-04-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN109239991A (zh) 一种显示面板的制程和显示面板
KR100698047B1 (ko) 횡전계형 액정 표시 장치 및 그 제조 방법
KR100736114B1 (ko) 횡전계 방식의 액정표시장치 및 그 제조방법
US9176348B2 (en) Liquid crystal display panel and liquid crystal display device
CN105511189A (zh) Va型coa液晶显示面板
CN105470269A (zh) Tft阵列基板及其制作方法
GB2408622A (en) Color filter array substrate and fabricating method thereof
CN102033376A (zh) 用于边缘场开关模式液晶显示器件的阵列基板及其制造方法
CN109239998A (zh) 一种显示面板和显示面板的制程
CN208999729U (zh) 一种显示面板和显示装置
US20030122978A1 (en) Liquid crystal display device having single bodied compensating pattern and method of fabricating the same
CN102902112A (zh) 液晶显示装置
US11409166B2 (en) Display panel and display device
CN106200153A (zh) 一种液晶显示装置
CN109616494A (zh) 一种阵列基板、阵列基板的制作方法和显示面板
CN102566178A (zh) 一种薄膜晶体管液晶显示器、基板及制造方法
CN109557736B (zh) 一种阵列基板、显示面板及显示设备
CN208999732U (zh) 一种显示面板和显示装置
CN104020621A (zh) 一种阵列基板及其制备方法、显示装置
CN112558363A (zh) 液晶显示装置
CN109283761A (zh) 一种显示面板、显示面板的制作方法和显示装置
CN107272245A (zh) 一种显示基板的制作方法、显示基板及显示装置
WO2020062462A1 (zh) 一种显示面板和显示装置
CN218602433U (zh) 阵列基板和显示面板
US20130155363A1 (en) Array Substrate, LCD and Manufacturing Method of Array Substrate

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant