CN109188582A - 一种花式反光布及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种花式反光布,包括基布层、涂胶层、反光层和镀膜层,所述涂胶层位于基布层上端,所述反光层由若干个玻璃微珠组成,且玻璃微珠粘附在涂胶层表面,所述镀膜层位于反光层靠近涂胶层的一侧。本发明采用纳米银离子作为布料的抗菌整理液,采用浸渍和轧染的工艺来对布料进行处理,并在抗菌整理液中加入柠檬酸以此来调高布料的柔软度。与传统的花式反光布的生产工艺相比,本发明步骤简单,加工质量更好。
Description
技术领域
本发明属于反光布领域,更具体地说,尤其涉及一种花式反光布。同时,本发明还涉及一种花式反光布的制备方法。
背景技术
反光材料, 也称为回归反射材料或逆反射材料, 包括反光膜、反光油墨、反光标线漆、反光布、反光革、 反光织带和反光安全性丝织物等。其原理是在相应的材料表面上引入一种高折射率的玻璃微珠或三棱镜微晶格结构。反光布是一种常见的反光材料,由于加工工艺及本身材料结构的限制,反光布不能频繁的清洗。而传统的反光布一般只注重其布料的反光性能,对其抗菌性能并不是很注重,虽然现在市面上已经出现具有抗菌能力的反光布,但是其加工工艺复杂,生产成本较高。为此我们需要一种工艺简单花式反光布及其制备方法来解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种花式反光布及其制备方法,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
一种花式反光布,包括基布层、涂胶层、反光层和镀膜层,所述涂胶层位于基布层上端,所述反光层由若干个玻璃微珠组成,且玻璃微珠粘附在涂胶层表面,所述镀膜层位于反光层靠近涂胶层的一侧。
优选的,所述基布层是由涤纶织成的印花布体。
一种花式反光布的制备方法,包括如下步骤:
S1、基布层处理:选择纳米银抗菌剂作为抗菌整理液,先将纳米银抗菌剂溶解在35-40℃的水中,待抗菌剂完全溶解后,向水溶液中加入柠檬酸,然后将印花布浸渍在溶液中,浸渍完成后通过轧液机对布料进行轧液处理,其轧液率为80-90%,处理完成后,将布料送入烘干机内,在温度为120℃的环境下进行位于30-60s的烘干处理,从而得到抗菌基布层;
S2、反光膜制备,将植珠胶涂在PET薄膜表面,然后通过烘干机对其进行烘干,从而在PET薄膜表面形成一层植珠层,然后通过压辊和复合辊将玻璃微珠压覆在涂胶层表面,从而形成植珠,接着将经过植珠处理的PET薄膜放入真空镀膜机中进行镀膜加工,从而制得反光膜;
S3、压合成型:先在基布层的表面涂覆一侧复合胶,然后将反光膜背部的PET薄膜剥离,接着将反光膜与基布层热压贴合在一起,从而制得成品。
优选的,所述纳米银抗菌剂的型号为JL-8001。
优选的,所述步骤S1中水料比为5:1。
优选的,所述步骤S1中,柠檬酸所占比重为2%。
与现有技术相比,本发明的有益效果是:本发明采用纳米银离子作为布料的抗菌整理液,采用浸渍和轧染的工艺来对布料进行处理,并在抗菌整理液中加入柠檬酸以此来调高布料的柔软度。与传统的花式反光布的生产工艺相比,本发明步骤简单,加工质量更好。
附图说明
图1为本发明的结构示意图。
图中:1基布层、2涂胶层、3反光层、4镀膜层。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合具体实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
一种花式反光布,包括基布层1、涂胶层2、反光层3和镀膜层4,所述涂胶层2位于基布层1上端,所述反光层3由若干个玻璃微珠组成,且玻璃微珠粘附在涂胶层2表面,所述镀膜层4位于反光层3靠近涂胶层2的一侧。
具体的,所述基布层1是由涤纶织成的印花布体。
一种花式反光布的制备方法,包括如下步骤:
S1、基布层处理:选择纳米银抗菌剂作为抗菌整理液,先将纳米银抗菌剂溶解在35-40℃的水中,待抗菌剂完全溶解后,向水溶液中加入柠檬酸,然后将印花布浸渍在溶液中,浸渍完成后通过轧液机对布料进行轧液处理,其轧液率为80-90%,处理完成后,将布料送入烘干机内,在温度为120℃的环境下进行位于30-60s的烘干处理,从而得到抗菌基布层;
S2、反光膜制备,将植珠胶涂在PET薄膜表面,然后通过烘干机对其进行烘干,从而在PET薄膜表面形成一层植珠层,然后通过压辊和复合辊将玻璃微珠压覆在涂胶层表面,从而形成植珠,接着将经过植珠处理的PET薄膜放入真空镀膜机中进行镀膜加工,从而制得反光膜;
S3、压合成型:先在基布层的表面涂覆一侧复合胶,然后将反光膜背部的PET薄膜剥离,接着将反光膜与基布层热压贴合在一起,从而制得成品。
具体的,所述纳米银抗菌剂的型号为JL-8001。
具体的,所述步骤S1中水料比为5:1。
具体的,所述步骤S1中,柠檬酸所占比重为2%。
本发明采用纳米银离子作为布料的抗菌整理液,采用浸渍和轧染的工艺来对布料进行处理,并在抗菌整理液中加入柠檬酸以此来调高布料的柔软度。与传统的花式反光布的生产工艺相比,本发明步骤简单,加工质量更好。
以上所述,仅为本发明较佳的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种花式反光布,包括基布层(1)、涂胶层(2)、反光层(3)和镀膜层(4),其特征在于:所述涂胶层(2)位于基布层(1)上端,所述反光层(3)由若干个玻璃微珠组成,且玻璃微珠粘附在涂胶层(2)表面,所述镀膜层(4)位于反光层(3)靠近涂胶层(2)的一侧。
2.根据权利要求1所述的一种花式反光布,其特征在于:所述基布层(1)是由涤纶织成的印花布体。
3.一种权利要求1所述的花式反光布的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、基布层处理:选择纳米银抗菌剂作为抗菌整理液,先将纳米银抗菌剂溶解在35-40℃的水中,待抗菌剂完全溶解后,向水溶液中加入柠檬酸,然后将印花布浸渍在溶液中,浸渍完成后通过轧液机对布料进行轧液处理,其轧液率为80-90%,处理完成后,将布料送入烘干机内,在温度为120℃的环境下进行位于30-60s的烘干处理,从而得到抗菌基布层;
S2、反光膜制备,将植珠胶涂在PET薄膜表面,然后通过烘干机对其进行烘干,从而在PET薄膜表面形成一层植珠层,然后通过压辊和复合辊将玻璃微珠压覆在涂胶层表面,从而形成植珠,接着将经过植珠处理的PET薄膜放入真空镀膜机中进行镀膜加工,从而制得反光膜;
S3、压合成型:先在基布层的表面涂覆一侧复合胶,然后将反光膜背部的PET薄膜剥离,接着将反光膜与基布层热压贴合在一起,从而制得成品。
4.根据权利要求3所述的一种花式反光布的制备方法,其特征在于:所述纳米银抗菌剂的型号为JL-8001。
5.根据权利要求1所述的一种花式反光布的制备方法,其特征在于:所述步骤S1中水料比为5:1。
6.根据权利要求1所述的一种花式反光布的制备方法,其特征在于:所述步骤S1中,柠檬酸所占比重为2%。
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