CN109116691B - 一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方 - Google Patents

一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方 Download PDF

Info

Publication number
CN109116691B
CN109116691B CN201811116732.1A CN201811116732A CN109116691B CN 109116691 B CN109116691 B CN 109116691B CN 201811116732 A CN201811116732 A CN 201811116732A CN 109116691 B CN109116691 B CN 109116691B
Authority
CN
China
Prior art keywords
parts
coating
charge
ucl
nano oxide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201811116732.1A
Other languages
English (en)
Other versions
CN109116691A (zh
Inventor
覃源寿
李琨
刘孝
朱志翔
刘育峰
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hunan Zhelong Technology Co ltd
Original Assignee
Hunan Zhelong Technology Co ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hunan Zhelong Technology Co ltd filed Critical Hunan Zhelong Technology Co ltd
Priority to CN201811116732.1A priority Critical patent/CN109116691B/zh
Publication of CN109116691A publication Critical patent/CN109116691A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN109116691B publication Critical patent/CN109116691B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/05—Organic bonding materials; Methods for coating a substrate with a photoconductive layer; Inert supplements for use in photoconductive layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/02—Charge-receiving layers
    • G03G5/04—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor
    • G03G5/06—Photoconductive layers; Charge-generation layers or charge-transporting layers; Additives therefor; Binders therefor characterised by the photoconductive material being organic
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G5/00—Recording members for original recording by exposure, e.g. to light, to heat, to electrons; Manufacture thereof; Selection of materials therefor
    • G03G5/10—Bases for charge-receiving or other layers
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
    • Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)

Abstract

本发明公开了一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL，所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份。本发明利用UCL层的长条状纳米粉体颗粒，以防止激光到达铝基表面并形成反射。

Description

一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方
技术领域
本发明涉及有机感光鼓技术领域，尤其涉及一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方。
背景技术
有机感光鼓是一类在激光照射下能使光产生载流子形成并迁移的新型高技术信息处理器件，是激光打印机、数码复印机、激光传真机及多功能一体机等现代办公设备中最为核心的光电转换及成像不见，直接决定打印、复印等影像传输的质量。是集现代功能材料、现代先进制造技术于一体的高集成、高附加值的有机光电子信息产品。
有机感光鼓生产技术起源于美国和日本，设计新材料、光、电、集成系统、先进工艺技术与控制等多个高新技术领域，是高度集成与高科技含量的先进制造产业，长期以来一直为国外垄断。
目前，有机感光鼓主要由圆筒状铝基材和基材外表层涂布的有机感光材料组成；其中，有机感光材料主要系有树脂和功能材料组成，多数情况下为透明或半透明材料。基于这种情况下，为避免激光打印过程中在有机感光鼓内因入射光与反射光干涉造成的光强度不均现象，对于有机感光鼓所用的铝基材有了严格的表面粗度规格，从而增加铝基材加工的难度和成本。
发明内容
本发明的目的是为了解决现有技术中的问题，而提出的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方。
为了实现上述目的，本发明采用了如下技术方案：
一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份。
优选的，按照电荷阻挡层UCL原料中的长条状纳米氧化物的粉体颗粒为TiO2，ZnO，SiO中的一种，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致。
优选的，电荷阻挡层UCL原料中的长条状纳米氧化物的长度为100-300nm，且长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm所述电荷阻挡层UCL原料中球状纳米氧化物的直径为30nm。
优选的，所述电荷阻挡层UCL原料中的长条状纳米氧化物的占比量为10-60％，10-60％是长条状纳米氧化物的重量相对球形纳米氧化物的重量的百分比。
优选的，所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，其特征在于，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
优选的，所述步骤1中电荷阻挡层UCL的UC制备方法的具体步骤如下：
1.1、将电荷阻挡层UCL配方的材料混合溶解完全后，在研磨机上研磨2小时；
1.2、再加1mm锆珠，并用80％仓体填充；
1.3、制得液体用5μm过滤器过滤得到涂膜；
1.4、用圆环涂膜方式，在铝基上涂上一层涂膜，140度干燥30分钟，得到5μm厚的均匀涂层。
优选的，所述步骤2中电荷生成层CGL的CG制备方法的具体步骤如下：
2.1、将电荷生成层CGL配方的材料混合溶解完全后，在研磨机上研磨2小时；
2.2、再加0.5mm锆珠，并用80％仓体填充；
2.3、制得液体用5μm过滤器过滤得到涂膜；
2.4、用圆环涂膜方式，在UC涂层上涂上一层CG涂膜，100度干燥15分钟，得到0.2μm后的均匀涂层。
优选的，所述步骤3中电荷传输层CTL的CT制备方法的具体步骤如下：
3.1、将电荷传输层CTL配方的原料混合搅拌至完全溶解；
3.2、用圆环涂膜方式，在CG层上涂上一层CTL层，100度干燥30分钟，得到25μm膜厚的电荷传输层。
优选的，所述步骤1中铝基的粗度为0.3μm-1.2μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
优选的，所述步骤4制得感光鼓安装在彩色打印机上，连续打印30％浓度灰版样张，评价干涉纹水平分为六个等级，分别为：
0：均匀无干涉纹；
1：有轻微干涉纹可见；
2：可见干涉纹，但可接受范围；
3：可见明显干涉纹；
4：比较严重干涉纹；
5：很严重干涉纹。
与现有技术相比，本发明提供了一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，具备以下有益效果：
本发明利用UCL层的长条状纳米粉体颗粒，以防止激光到达铝基表面并形成反射；
加入的长条状纳米氧化粉体颗粒具有：
1,对激光打印机的入射激光一般波长600-800nm，通常为650,780nm两种形成散射，无法透过UCL层；
2,相对球形纳米氧化粉体，更具一定的遮蔽效果，可形成不透明UCL。
该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本发明结构简单，操作方便。
附图说明
图1为本发明提出的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的有机感光鼓制备流程框图；
图2为本发明提出的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的电荷阻挡层UCL的UC涂料制备流程框图；
图3为本发明提出的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的电荷生成层CGL的CG涂料制备流程框图；
图4为本发明提出的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的电荷传输层CTL的CT制备流程框图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份。
按照电荷阻挡层UCL原料中的长条状纳米氧化物的粉体颗粒为TiO2，ZnO，SiO中的一种，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致。
所述电荷阻挡层UCL原料中的长条状纳米氧化物的长度为100-300nm，且长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm所述电荷阻挡层UCL原料中球状纳米氧化物的直径为30nm。
所述电荷阻挡层UCL原料中的长条状纳米氧化物的占比量为10-60％，10-60％是长条状纳米氧化物的重量相对球形纳米氧化物的重量的百分比。
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，其特征在于，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中电荷阻挡层UCL的UC制备方法的具体步骤如下：
1.1、将电荷阻挡层UCL配方的材料混合溶解完全后，在研磨机上研磨2小时；
1.2、再加1mm锆珠，并用80％仓体填充；
1.3、制得液体用5μm过滤器过滤得到涂膜；
1.4、用圆环涂膜方式，在铝基上涂上一层涂膜，140度干燥30分钟，得到5μm厚的均匀涂层。
所述步骤2中电荷生成层CGL的CG制备方法的具体步骤如下：
2.1、将电荷生成层CGL配方的材料混合溶解完全后，在研磨机上研磨2小时；
2.2、再加0.5mm锆珠，并用80％仓体填充；
2.3、制得液体用5μm过滤器过滤得到涂膜；
2.4、用圆环涂膜方式，在UC涂层上涂上一层CG涂膜，100度干燥15分钟，得到0.2μm后的均匀涂层。
所述步骤3中电荷传输层CTL的CT制备方法的具体步骤如下：
3.1、将电荷传输层CTL配方的原料混合搅拌至完全溶解；
3.2、用圆环涂膜方式，在CG层上涂上一层CTL层，100度干燥30分钟，得到25μm膜厚的电荷传输层。
所述步骤1中铝基的粗度为0.3μm-1.2μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
所述步骤4制得感光鼓安装在彩色打印机上，连续打印30％浓度灰版样张，评价干涉纹水平分为六个等级，分别为：
0：均匀无干涉纹；
1：有轻微干涉纹可见；
2：可见干涉纹，但可接受范围；
3：可见明显干涉纹；
4：比较严重干涉纹；
5：很严重干涉纹。
实施例1
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述电荷阻挡层UCL原料中长条状纳米氧化物的粉体颗粒为TiO2，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致；所述长条状纳米氧化物的长度为200nm；所述球状纳米氧化物的直径为30nm，所述长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm；
所述长条状纳米氧化物的占比量为10％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为0.8μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
实施例2
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述电荷阻挡层UCL原料中长条状纳米氧化物的粉体颗粒为TiO2，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致；所述长条状纳米氧化物的长度为200nm；所述球状纳米氧化物的直径为30nm，所述长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm；
所述长条状纳米氧化物的占比量为30％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为0.8μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
实施例3
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述电荷阻挡层UCL原料中长条状纳米氧化物的粉体颗粒为TiO2，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致；所述长条状纳米氧化物的长度为200nm；所述球状纳米氧化物的直径为30nm，所述长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm；
所述长条状纳米氧化物的占比量为50％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为0.8μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
实施例4
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述电荷阻挡层UCL原料中长条状纳米氧化物的粉体颗粒为TiO2，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致；所述长条状纳米氧化物的长度为200nm；所述球状纳米氧化物的直径为30nm，所述长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm；
所述长条状纳米氧化物的占比量为30％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓；
所述步骤1中铝基的粗度为1.2μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
实施例5
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述电荷阻挡层UCL原料中长条状纳米氧化物的粉体颗粒为TiO2，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致；所述长条状纳米氧化物的长度为200nm；所述球状纳米氧化物的直径为30nm，所述长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm；
所述长条状纳米氧化物的占比量为30％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为0.3μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
实施例6
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL，
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述电荷阻挡层UCL原料中长条状纳米氧化物的粉体颗粒为ZnO，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致；所述长条状纳米氧化物的长度为200nm；所述球状纳米氧化物的直径为30nm，所述长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm；
所述长条状纳米氧化物的占比量为30％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为0.8μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
实施例7
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述电荷阻挡层UCL原料中长条状纳米氧化物的粉体颗粒为SiO，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致；所述长条状纳米氧化物的长度为200nm；所述球状纳米氧化物的直径为30nm，所述长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm；
所述长条状纳米氧化物的占比量为30％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为0.8μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
实施例8
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述电荷阻挡层UCL原料中长条状纳米氧化物的粉体颗粒为TiO2，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致；所述长条状纳米氧化物的长度为200nm；所述球状纳米氧化物的直径为30nm，所述长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm；
所述长条状纳米氧化物的占比量为5％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为0.8μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
实施例9
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述电荷阻挡层UCL原料中长条状纳米氧化物的粉体颗粒为TiO2，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致；所述长条状纳米氧化物的长度为200nm；所述球状纳米氧化物的直径为30nm，所述长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm；
所述长条状纳米氧化物的占比量为60％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为0.8μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
比较例1
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述长条状纳米氧化物的占比量为0％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为0.8μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
比较例2
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述长条状纳米氧化物的占比量为0％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为1.2μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
比较例3
如图1-4所示，一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL；
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述长条状纳米氧化物的占比量为0％；
所述一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，所述具体步骤如下：
1、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
2、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
3、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
4、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
所述步骤1中铝基的粗度为0.3μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
实施例1-实施例9和比较例1-比较例3是不同比例和不同的铝管表面粗度制得不同感光鼓；实施例1-实施例9感光鼓的编号分别为No.01、No.02、No.03、No.04、No.05、No.06、No.07、No.08、No.09、比较例1-比较例3的感光鼓的编号分别为No.10、No.11和No.12；将制得感光鼓安装在彩色打印机上，连续打印30％浓度灰版样张；
表1是实施例1-实施例9和比较例1-比较例3制得不同感光鼓的打印评价的统计表，评价干涉纹水平分为六个等级，分别为：0：均匀无干涉纹；1：有轻微干涉纹可见；2：可见干涉纹，但可接受范围；3：可见明显干涉纹；4：比较严重干涉纹；5：很严重干涉纹。
表一
Figure BDA0001810783150000211
Figure BDA0001810783150000221
从实施案例和比较例中可以得出结论，本发明在UC涂层中加入10-50％的长条状金属氧化物粉体对因激光反射造成的干涉不良有明显的抑制效果；
在UC涂料中加入长条状纳米氧化物粉体颗粒(TiO2，ZnO，SiO等)，可有效防止激光照射到铝基表面形成反射，从而防止干涉形成。
原理：
本发明通过在UCL涂层中添加一定量的长条状纳米氧化物粉体颗粒(10-50％相对球形纳米氧化粉体的重量)，长条状的长度在100-300nm最为合适，对入射的激光形成散射，防止激光照射到铝基表面反射形成干涉；
占比低于10％，防止干涉效果达不到；高于50％，易造成电子注入效率下降，漏光电位上升，打印浓度下降而变浅。
以上所述，仅为本发明较佳的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，根据本发明的技术方案及其发明构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，其特征在于：包括电荷阻挡层UCL、电荷生成层CGL和电荷传输层CTL，
所述电荷阻挡层UCL的UC涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：球状纳米氧化物30份、长条状纳米氧化物10份、聚酰胺树脂10份、甲醇250份；
所述电荷生成层CGL的CG涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：酞菁氧钛1.5份、PVB树脂1份、二氯甲烷97.5份；
所述电荷传输层CTL的CT涂料配方，按照质量分数计，由以下原料制备而成：电荷传输材料80份、聚碳酸树脂100份、抗氧剂1份、硅油0.02份、溶剂900份；
所述电荷阻挡层UCL原料中的长条状纳米氧化物的粉体颗粒为TiO2，ZnO，SiO中的一种，所述球状纳米氧化物与长条状纳米氧化物的粉体颗粒相一致；
所述电荷阻挡层UCL原料中的长条状纳米氧化物的长度为100-300nm，且长条状纳米氧化物的尺寸为70*150nm；
所述电荷阻挡层UCL原料中的长条状纳米氧化物的占比量为10-60％，10-60％是长条状纳米氧化物的重量相对球形纳米氧化物的重量的百分比。
2.根据权利要求1所述的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方，其特征在于，所述电荷阻挡层UCL原料中球状纳米氧化物的直径为30nm。
3.根据权利要求1-2任一所述的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，其特征在于，具体步骤如下：
(1)、在铝基材上涂上一层电荷阻挡层UCL；
(2)、在UCL上涂上一层电荷生成层CGL；
(3)、在CGL上涂上一层电荷传输层CTL；
(4)、以上三层涂完制得负充电型有机感光鼓。
4.根据权利要求3所述的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中电荷阻挡层UCL的UC涂料制备方法的具体步骤如下：
(1.1)、将电荷阻挡层UCL配方的材料混合溶解完全后，在研磨机上研磨2小时；
(1.2)、再加1mm锆珠，并用80％仓体填充；
(1.3)、制得液体用5μm过滤器过滤得到涂膜；
(1.4)、用圆环涂膜方式，在铝基上涂上一层涂膜，140度干燥30分钟，得到5μm厚的均匀涂层。
5.根据权利要求3所述的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中电荷生成层CGL的CG涂料制备方法的具体步骤如下：
(2.1)、将电荷生成层CGL配方的材料混合溶解完全后，在研磨机上研磨2小时；
(2.2)、再加0.5mm锆珠，并用80％仓体填充；
(2.3)、制得液体用5μm过滤器过滤得到涂膜；
(2.4)、用圆环涂膜方式，在UC涂层上涂上一层CG涂膜，100度干燥15分钟，得到0.2μm厚的均匀涂层。
6.根据权利要求4所述的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中电荷传输层CTL的CT涂料制备方法的具体步骤如下：
(3.1)、将电荷传输层CTL配方的原料混合搅拌至完全溶解；
(3.2)、用圆环涂膜方式，在CG层上涂上一层CTL层，100度干燥30分钟，得到25μm膜厚的电荷传输层。
7.根据权利要求4所述的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中铝基的粗度为0.3μm-1.2μm，且铝基的外径为30mm，长度为340mm。
8.根据权利要求3所述的一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)制得感光鼓安装在彩色打印机上，连续打印30％浓度灰版样张，评价干涉纹水平分为六个等级，分别为：
0：均匀无干涉纹；
1：有轻微干涉纹可见；
2：可见干涉纹，但可接受范围；
3：可见明显干涉纹；
4：比较严重干涉纹；
5：很严重干涉纹。
CN201811116732.1A 2018-09-25 2018-09-25 一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方 Active CN109116691B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811116732.1A CN109116691B (zh) 2018-09-25 2018-09-25 一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201811116732.1A CN109116691B (zh) 2018-09-25 2018-09-25 一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN109116691A CN109116691A (zh) 2019-01-01
CN109116691B true CN109116691B (zh) 2022-08-16

Family

ID=64856684

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201811116732.1A Active CN109116691B (zh) 2018-09-25 2018-09-25 一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN109116691B (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002131960A (ja) * 2000-10-23 2002-05-09 Fuji Denki Gazo Device Kk 電子写真用感光体およびその製造方法
JP2002244320A (ja) * 2000-12-13 2002-08-30 Sharp Corp 電子写真感光体およびそれを用いた電子写真装置
JP2003066638A (ja) * 2001-08-28 2003-03-05 Sharp Corp 電子写真感光体
CN101673772A (zh) * 2009-09-24 2010-03-17 复旦大学 一种可擦写的金属-绝缘体-硅电容器结构
CN102208442A (zh) * 2010-06-03 2011-10-05 复旦大学 一种适合于半导体闪存器件的栅叠层结构及制备方法
CN107247393A (zh) * 2017-06-21 2017-10-13 苏州恒久光电科技股份有限公司 超厚电荷阻挡层涂料制备方法、有机光导体制备方法及有机光导体

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6492079B2 (en) * 2000-03-28 2002-12-10 Ricoh Company, Ltd. Electrophotographic photoconductor, image forming apparatus, and process cartridge using the photoconductor

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002131960A (ja) * 2000-10-23 2002-05-09 Fuji Denki Gazo Device Kk 電子写真用感光体およびその製造方法
JP2002244320A (ja) * 2000-12-13 2002-08-30 Sharp Corp 電子写真感光体およびそれを用いた電子写真装置
JP2003066638A (ja) * 2001-08-28 2003-03-05 Sharp Corp 電子写真感光体
CN101673772A (zh) * 2009-09-24 2010-03-17 复旦大学 一种可擦写的金属-绝缘体-硅电容器结构
CN102208442A (zh) * 2010-06-03 2011-10-05 复旦大学 一种适合于半导体闪存器件的栅叠层结构及制备方法
CN107247393A (zh) * 2017-06-21 2017-10-13 苏州恒久光电科技股份有限公司 超厚电荷阻挡层涂料制备方法、有机光导体制备方法及有机光导体

Also Published As

Publication number Publication date
CN109116691A (zh) 2019-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100555088C (zh) 电子照相感光体和图像形成装置
CN101587309B (zh) 底涂层形成用涂布液以及电子照相感光体
US10152002B2 (en) Electrophotographic photosensitive member, process cartridge, and electrophotographic apparatus
DE102018108965B4 (de) Elektrofotografisches lichtempfindliches element, prozesskartusche und elektrofotografisches gerät
JP6090028B2 (ja) 電子写真感光体および画像形成装置
CN102778823A (zh) 电子照相感光体、包含该电子照相感光体的程序处理盒及图像形成装置
CN108803266A (zh) 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
US7462433B2 (en) Photoreceptor additive
CN101449209A (zh) 电子照相感光体、成像装置和电子照相盒
CN109116691B (zh) 一种弱化基材表面对有机感光鼓特性影响的配方
US6383699B1 (en) Photoreceptor with charge blocking layer containing quaternary ammonium salts
CN101443708A (zh) 底涂层形成用涂布液、底涂层形成用涂布液的制造方法、电子照相感光体、成像装置和电子照相盒
JP3847356B2 (ja) 電子写真感光体及び画像形成方法
CN110133971A (zh) 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
DE102022119569A1 (de) Elektrophotographisches photoempfindliches Bauelement, Prozesskartusche und elektrophotographisches Gerät
CN112391088A (zh) 一种提高感光鼓涂层耐磨性的涂料配方
US6828076B2 (en) Electrophotosensitive material and method of producing the same
JP2005266809A (ja) 画像形成部材
JP2000112162A (ja) 電子写真感光体及びその製造方法
CN109976113A (zh) 电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备
CN116627009A (zh) 一种弱化干涉条纹的电子照相感光体及其制备方法
TWI643040B (zh) 電子照片感光體及使用此之畫像形成裝置
US20210364937A1 (en) Electrophotographic photosensitive member, process cartridge and electrophotographic apparatus
CN112430430A (zh) 一种提高感光鼓外涂层耐磨性的配方
JP2011150346A (ja) 画像形成部材の再生方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20220715

Address after: 413000 enterprise office service building, Tenghui Pioneer Park, Nanxian Economic Development Zone, Yiyang City, Hunan Province

Applicant after: HUNAN ZHELONG TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Address before: 518000 second and third floors of Building 2, No. 2, Ditang Road, Shatou District, Western Industrial Zone, Shajing street, Bao'an District, Shenzhen, Guangdong Province

Applicant before: SHENZHEN ZHELONG TECHNOLOGY Co.,Ltd.

TA01 Transfer of patent application right
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant