CN109100915A - 一种光阻组合物、像素界定结构及其制作方法、显示面板 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种光阻组合物、像素界定结构及其制作方法、显示面板,该光阻组合物包括:有机成膜树脂、超疏水性可聚合单体、多官能团可交联聚合单体、光引发剂、添加剂和溶剂。由于在本发明提供的光阻组合物中,超疏水性可聚合单体的沸点比溶剂的沸点高,且比多官能团可交联聚合单体、光引发剂和添加剂的沸点低,故通过对光阻组合物进行加热处理,可使得超疏水性可聚合单体在除去溶剂后的光阻组合物中梯度分布,导致除去溶剂后的光阻组合物顶部与底部的亲疏水性质不同。基于此,在采用本发明提供的光阻组合物来制作顶部与底部亲疏水性质不同的像素界定结构时,通过一次构图工艺即可形成,因而简化了像素界定结构的制作工艺。
Description
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种光阻组合物、像素界定结构及其制作方法、显示面板。
背景技术
随着互联网的普及,以及显示技术的不断发展,高品质的显示面板已成为众多电子消费产品的重要特征。与液晶显示面板相比,有机电致发光显示面板具有自发光、能耗低、生产成本低、视角宽、对比度高、响应速度快、色彩展示更为逼真、更易于实现轻薄化和柔性化等优点。目前,在手机、数码相机、电脑、个人数字助理等显示领域,有机电致发光(OLED)显示面板已经开始取代传统的液晶显示面板,有望成为下一代显示面板的主流选择。
在OLED显示面板中,像素界定层包括开口区(即像素区)以及用于限定开口区的像素界定结构(即Bank区)。具体地,像素界定结构是开口区之间的一层有机阻挡物,一般呈现上窄下宽的正梯形结构,以限制喷墨打印的墨水向四周溢出。其制作工艺一般包括光阻材料的涂覆、曝光、显影、固化等工艺,将开口区的光阻材料去除,形成开口区以及像素界定结构。一方面,为避免喷墨溶液在像素界定结构的顶部铺展污染相邻像素,造成串色,像素界定结构的上半部分区域需与喷墨溶液(即墨水)呈现疏液性质;另一方面,为使喷墨溶液在开口区内部均匀铺展开,像素界定结构底部区域需与喷墨溶液呈现亲液性质。为实现像素界定结构顶部与底部疏亲液的区别,用于形成像素界定结构的光阻材料往往由至少一层亲液性质的材料和至少一层疏液性质的材料构成。由此使得需要经过多次构图工艺来形成像素界定结构,制作工艺比较复杂。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供一种光阻组合物、像素界定结构及其制作方法、显示面板,用以简化像素界定结构的制作工艺。
因此,本发明实施例提供的一种光阻组合物,包括:有机成膜树脂、超疏水性可聚合单体、多官能团可交联聚合单体、光引发剂、添加剂和溶剂;
其中,所述超疏水性可聚合单体的沸点比所述溶剂的沸点高,且比所述多官能团可交联聚合单体、所述光引发剂和所述添加剂的沸点低;
所述添加剂,用于阻止所述光阻组合物中各组分之间发生聚合反应,使所述光阻组合物具备流动性,并消除所述光阻组合物中的气泡;
所述溶剂,用于分散所述超疏水性可聚合单体、所述多官能团可交联聚合单体、所述光引发剂和所述添加剂。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述光阻组合物中,所述有机成膜树脂的质量占比为5%-25%,所述超疏水性可聚合单体的质量占比为0.5%-2%,所述多官能团可交联聚合单体的质量占比为0.1%-1%,所述光引发剂的质量占比为0.5%-2%,所述添加剂的质量占比为0.1%-1%,所述溶剂的质量占比为69%-93.8%。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述光阻组合物中,所述超疏水性可聚合单体为以下之一或任意组合:
2,2,2-三氟乙基甲基丙烯酸酯、2,2,3,4,4,4-六氟丁基甲基丙烯酸酯、2,2,3,3-四氟丙基甲基丙烯酸酯和全氟环己基甲基丙烯酸酯。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述光阻组合物中,所述多官能团可交联聚合单体为以下之一或任意组合:
聚二季戊四醇五丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯和乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述光阻组合物中,所述光引发剂为以下之一或任意组合:
硝基苯胺、蒽醌、二苯甲酮和N-乙酰-4-硝基萘胺。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述光阻组合物中,所述添加剂包括阻聚剂、流平剂和消泡剂;
其中,所述阻聚剂用于阻止所述光阻组合物中各组分之间发生聚合反应,且所述阻聚剂为以下之一或任意组合:
对苯二酚、2-仲丁基-4,6-二硝基苯酚、对叔丁基邻苯二酚、2,5-二特丁基对苯二酚、异戊醇、正己醇、丙三醇和正己烷;
所述流平剂用于使所述光阻组合物具备流动性,所述流平剂为以下之一或任意组合:
丙烯酸类化合物、有机硅类化合物和氟碳类化合物;
所述消泡剂用于消除所述光阻组合物中的气泡,所述消泡剂为以下之一或任意组合:
乳化硅油、高碳醇脂肪酸酯复合物、聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚、聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚、聚氧丙烯甘油醚、聚氧丙烯聚氧乙烯甘油醚和聚二甲基硅氧烷。
在一种可能的实现方式中,在本发明实施例提供的上述光阻组合物中,所述溶剂为以下之一或任意组合:
乙酸乙酯、四氢呋喃、二氧六环、三恶烷、乙酸正丁酯、乙酸叔丁酯、乙二醇单乙酸酯、乙二醇甲醚乙酸酯、N-甲基吡咯、丙二醇、乙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸乙氧乙酯、二甲氧基乙醛、丙二醇甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲醚和乙酸乙二醇乙醚。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种上述光阻组合物制作像素界定结构的方法,包括:
在阵列基板上涂覆光阻组合物,并减压抽气除去溶剂,形成像素界定结构的基体;
对所述基体进行前烘工艺,使得超疏水性可聚合单体梯度分布在所述基体中;
对包含有梯度分布的超疏水性可聚合单体的基体进行曝光工艺,使得基体中的超疏水性可聚合单体与多官能团可交联聚合单体提供的交联桥键、及光引发剂提供的自由基结合,发生聚合反应;
对发生聚合反应后的基体依次进行显影、后烘工艺,形成固定形状的所述像素界定结构。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种采用上述方法制作的像素界定结构。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种显示面板,包括像素界定层,所述像素界定层包括开口和用于限定所述开口所在区域的像素界定结构,所述像素界定结构为上述像素界定结构。
本发明有益效果如下:
在本发明实施例提供的光阻组合物、像素界定结构及其制作方法、显示面板中,该光阻组合物,包括:有机成膜树脂、超疏水性可聚合单体、多官能团可交联聚合单体、光引发剂、添加剂和溶剂;其中,超疏水性可聚合单体的沸点比溶剂的沸点高,且比多官能团可交联聚合单体、光引发剂和添加剂的沸点低;添加剂,用于阻止光阻组合物中各组分之间发生聚合反应,同时保证光阻组合物的流动性,并消除光阻组合物中的气泡;溶剂,用于分散超疏水性可聚合单体、多官能团可交联聚合单体、光引发剂和添加剂。由于在本发明提供的光阻组合物中,超疏水性可聚合单体的沸点比溶剂的沸点高,且比多官能团可交联聚合单体、光引发剂和添加剂的沸点低,故通过对光阻组合物进行加热处理,可使得超疏水性可聚合单体在除去溶剂后的光阻组合物中梯度分布,导致除去溶剂后的光阻组合物顶部与底部的亲疏水性质不同。基于此,在采用本发明提供的光阻组合物来制作顶部与底部亲疏水性质不同的像素界定结构时,通过一次构图工艺即可形成,因而简化了像素界定结构的制作工艺。
附图说明
图1为本发明实施例一提供的将光阻组合物固化所得薄膜上表面的水滴接触角测试图;
图2为本发明实施例一提供的将光阻组合物固化所得薄膜下表面的水滴接触角测试图;
图3为本发明实施例二提供的将光阻组合物固化所得薄膜上表面的水滴接触角测试图;
图4为本发明实施例二提供的将光阻组合物固化所得薄膜下表面的水滴接触角测试图;
图5为本发明实施例提供的采用光阻组合物制作像素界定结构的方法的流程图;
图6为现有技术中不具备像素界定结构的阵列基板的结构示意图;
图7为涂覆有光阻组合物的阵列基板的结构示意图;
图8为前烘工艺过程中的阵列基板的结构示意图;
图9为曝光工艺过程中的阵列基板的结构示意图;
图10为后烘工艺过程中的阵列基板的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图,对本发明实施例提供的光阻组合物、像素界定结构及其制作方法、显示面板的具体实施方式进行详细的说明。需要说明的是本说明书所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例;并且在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合;此外,基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
本发明实施例提供的一种光阻组合物,包括:有机成膜树脂、超疏水性可聚合单体、多官能团可交联聚合单体、光引发剂、添加剂和溶剂;
其中,超疏水性可聚合单体的沸点比溶剂的沸点高,且比多官能团可交联聚合单体、光引发剂和添加剂的沸点低;
添加剂,用于阻止光阻组合物中各组分之间发生聚合反应,使光阻组合物具备流动性,并消除光阻组合物中的气泡;
溶剂,用于分散超疏水性可聚合单体、多官能团可交联聚合单体、光引发剂和添加剂。
在本发明实施例提供的上述光阻组合物中,由于超疏水性可聚合单体的沸点比溶剂的沸点高,且比多官能团可交联聚合单体、光引发剂和添加剂的沸点低,故通过对光阻组合物进行加热处理,可使得超疏水性可聚合单体在除去溶剂后的光阻组合物中梯度分布,导致除去溶剂后的光阻组合物顶部与底部的亲疏水性质不同。基于此,在采用本发明提供的光阻组合物来制作顶部与底部亲疏水性质不同的像素界定结构时,通过一次构图工艺即可形成,因而简化了像素界定结构的制作工艺。
可以理解的是,在本发明实施例提供的上述光阻组合物中,超疏水性可聚合单体在紫外光的作用下可发生聚合反应,多官能团可交联聚合单体为超疏水性可聚合单体的聚合反应提供交联桥键,光引发剂为超疏水性可聚合单体的聚合反应提供自由基。且添加剂的阻聚作用相对于超疏水性可聚合单体与多官能团可交联聚合单体提供的交联桥键、及光引发剂提供的自由基的结合能力较弱,在紫外光引发聚合反应的过程中可忽略不计。具体地,添加剂的阻聚作用主要在光阻组合物的存储、运输等过程中体现。
具体地,在本发明实施例提供的上述光阻组合物中,有机成膜树脂的质量占比为5%-25%,超疏水性可聚合单体的质量占比为0.5%-2%,多官能团可交联聚合单体的质量占比为0.1%-1%,光引发剂的质量占比为0.5%-2%,添加剂的质量占比为0.1%-1%,溶剂的质量占比为69%-93.8%。
具体地,在本发明实施例提供的上述光阻组合物中,超疏水性可聚合单体为以下之一或任意组合:
2,2,2-三氟乙基甲基丙烯酸酯、2,2,3,4,4,4-六氟丁基甲基丙烯酸酯、2,2,3,3-四氟丙基甲基丙烯酸酯和全氟环己基甲基丙烯酸酯。
多官能团可交联聚合单体为以下之一或任意组合:
聚二季戊四醇五丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯和乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯。
光引发剂为以下之一或任意组合:
硝基苯胺、蒽醌、二苯甲酮和N-乙酰-4-硝基萘胺。
添加剂包括阻聚剂、流平剂和消泡剂;
其中,阻聚剂用于阻止光阻组合物中各组分之间发生聚合反应,且阻聚剂为以下之一或任意组合:
对苯二酚、2-仲丁基-4,6-二硝基苯酚、对叔丁基邻苯二酚、2,5-二特丁基对苯二酚、异戊醇、正己醇、丙三醇和正己烷;
流平剂用于使光阻组合物具备流动性,流平剂为以下之一或任意组合:
丙烯酸类化合物、有机硅类化合物和氟碳类化合物;
消泡剂用于消除光阻组合物中的气泡,消泡剂为以下之一或任意组合:
乳化硅油、高碳醇脂肪酸酯复合物、聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚、聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚、聚氧丙烯甘油醚、聚氧丙烯聚氧乙烯甘油醚和聚二甲基硅氧烷。
溶剂为以下之一或任意组合:
乙酸乙酯、四氢呋喃、二氧六环、三恶烷、乙酸正丁酯、乙酸叔丁酯、乙二醇单乙酸酯、乙二醇甲醚乙酸酯、N-甲基吡咯、丙二醇、乙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸乙氧乙酯、二甲氧基乙醛、丙二醇甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲醚和乙酸乙二醇乙醚。
为了更好地理解本发明的技术方案,以下两个实施例将上述光阻组合物固化成薄膜,并对薄膜表面的亲疏水性进行了测试。
实施例一
在本发明实施例一提供的光阻组合物中有机成膜树脂的质量占比为15%,且有机成膜树脂的材质为亚克力系主体材料;作为光引发剂的N-乙酰-4-硝基萘胺的质量占比为0.5%;作为超疏水性可聚合单体的2,2,3,4,4,4-六氟丁基甲基丙烯酸酯的质量占比为2%;作为多官能团可交联聚合单体的聚二季戊四醇六丙烯酸酯的质量占比为0.5%;添加剂的质量占比为0.1%-1%,具体地,添加剂由2-仲丁基-4,6-二硝基苯酚和聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚构成,且2-仲丁基-4,6-二硝基苯酚和聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚的质量比为1:4;溶剂的质量占比为81%-81.9%,具体地,溶剂由二氧六环和乙酸叔丁酯构成,且二氧六环和乙酸叔丁酯的质量比为2:3。
进一步地,通过以下步骤将上述光阻组合物固化成薄膜。首先,采用旋涂法在聚四氟乙烯衬底上旋涂一层上述光阻组合物,然后经150℃加热盘加热1min,之后采用100mW/cm2的365nm的紫外光光照固化成薄膜,最后将薄膜从聚四氟乙烯衬底上揭下来。
接下来测试该薄膜上下表面的亲疏水性,具体地,通过测试薄膜上下表面的水滴接触角来表征其亲疏水性,结果如图1和图2所示。其中,图1为薄膜上表面的水滴接触角测试图,测得其水滴接触角为158°,即薄膜上表面表现为超疏水性质;图2为薄膜下表面的水滴接触角测试图,测得其水滴接触角为82.65°,即薄膜下表面表现为亲水性质,且亲水性相比于上表面明显较大。由此说明采用上述光阻组合物可制备出上下表面亲疏水性质明显不同的薄膜。
实施例二
在本发明实施例二提供的光阻组合物中有机成膜树脂的质量占比为15%,且有机成膜树脂的材质为亚克力系主体材料;光引发剂的质量占比为0.4%,具体地,光引发剂由硝基萘胺和二苯甲酮构成,且硝基萘胺和二苯甲酮的质量比为3:1;作为超疏水性可聚合单体的全氟环己基甲基丙烯酸酯的质量占比为2%;作为多官能团可交联聚合单体的聚二季戊四醇六丙烯酸酯的质量占比为0.5%;添加剂的质量占比为0.1%-1%,具体地,添加剂由2-仲丁基-4,6-二硝基苯酚和聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚构成,且2-仲丁基-4,6-二硝基苯酚和聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚的质量比为1:4;溶剂的质量占比为81.1%-82%,具体地,溶剂由四氢呋喃和乙酸叔丁酯构成,且四氢呋喃和乙酸叔丁酯的质量比为2:3。
进一步地,通过以下步骤将上述光阻组合物固化成薄膜。首先,采用旋涂法在聚四氟乙烯衬底上旋涂一层上述光阻组合物,然后经160℃加热盘加热1min,之后采用100mW/cm2的365nm的紫外光光照固化成薄膜,最后将薄膜从聚四氟乙烯衬底上揭下来。
接下来测试该薄膜上下表面的亲疏水性,具体地,通过测试薄膜上下表面的水滴接触角来表征其亲疏水性,结果如图3和图4所示。其中,图3为薄膜上表面的水滴接触角测试图,测得其水滴接触角为154°,即薄膜上表面表现为超疏水性质;图4为薄膜下表面的水滴接触角测试图,测得其水滴接触角为76.35°,即薄膜下表面表现为亲水性质,且亲水性相比于上表面明显较大。由此说明采用上述光阻组合物可制备出上下表面亲疏水性质明显不同的薄膜。
由上述两个实施例可以看出,采用本发明提供的光阻组合物可以获得上表面(即顶部)与下表面(即底部)亲疏水性质相差很大的薄膜,因此,采用本发明提供的光阻组合物可以制备出顶部与底部亲疏水性质不同的像素界定结构。以下对采用本发明提供的光阻组合物制作像素界定结构的方法进行详细说明。
具体地,采用本发明提供的光阻组合物制作像素界定结构的方法,如图5所示,包括:
S501、在阵列基板上涂覆光阻组合物,并减压抽气除去溶剂,形成像素界定结构的基体;
具体地,在阵列基板上涂覆光阻组合物之前,还需要提供一种不具有像素界定结构的阵列基板601,如图6所示。进一步地,即可采用旋涂等方法在阵列基板601上涂覆一层光阻组合物602,如图7所示。具体地光阻组合物602所在层的厚度可以1μm~3μm,除去溶剂的减压抽气压力30Pa。
S502、对基体进行前烘工艺,使得超疏水性可聚合单体梯度分布在基体中;
具体地,在对基体603进行前烘工艺时,对应的阵列基板的结构示意图如图8所示。且为使得超疏水性可聚合单体(即图8中黑点)可在基体603中自下而上移动,最终梯度分布在基体603中,所需前烘的温度应高于超疏水性可聚合单体的沸点,且低于多官能团可交联聚合单体、光引发剂和添加剂的沸点。且可以理解的是,前烘工艺的时间越长,超疏水性可聚合单体在基体603中的浓度越低,且呈现自上而下递减的趋势。因此,可以通过控制前烘温度、时间来实现基体603中自顶部至底部超疏水性可聚合单体的梯度分布。例如,在超疏水性可聚合单体为2,2,3,4,4,4-六氟丁基甲基丙烯酸酯时,前烘工艺的温度可以为150℃~160℃,时间可以为1~2min。
S503、对包含有梯度分布的超疏水性可聚合单体的基体进行曝光工艺,使得基体中的超疏水性可聚合单体与多官能团可交联聚合单体提供的交联桥键、及光引发剂提供的自由基结合,发生聚合反应;
具体地,曝光工艺所需紫外光的能量密度为30mJ/cm2~100mJ/cm2,使得超疏水性可聚合单体与多官能团可交联聚合单体提供的交联桥键、及光引发剂提供的自由基结合后固定在基体603中,从而使得基体603顶部与底部的亲疏水性不同,如图9所示。
S504、对发生聚合反应后的基体依次进行显影、后烘工艺,形成固定形状的像素界定结构。
具体地,后烘工艺的温度为230℃,时间为30min,最终得到上窄下宽的正梯形像素界定结构604,如图10所示。
由上述描述可以看出,采用本发明提供的光阻组合物,通过前烘、曝光、显影、后烘一次构图工艺,即形成了顶部至底部疏水性质到亲水性质梯度变化的像素界定结构。在简化了像素界定结构的制作工艺的基础上,保证了墨水不再顶部铺展污染相邻像素,并且墨水可以在像素开口内部均匀铺展,提高了发光材料成膜的均一性,提高了显示面板的显示效果与产品质量。
基于同一发明构思,本发明实施例提供了一种采用上述方法制作的像素界定结构,由于该像素界定结构解决问题的原理与上述方法解决问题的原理相似,因此,本发明实施例提供的该像素界定结构的实施可以参见本发明实施例提供的上述方法的实施,重复之处不再赘述。
基于同一发明构思,本发明实施例还提供了一种显示面板,包括像素界定层,该像素界定层包括开口和用于限定开口所在区域的上述像素界定结构。该显示面板为OLED显示面板,具体可以应用为:手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相机、导航仪、智能手表、健身腕带、个人数字助理、自助存/取款机等任何具有显示功能的产品或部件。对于显示面板的其它必不可少的组成部分均为本领域的普通技术人员应该理解具有的,在此不做赘述,也不应作为对本发明的限制。该显示面板的实施可以参见上述像素界定结构的实施例,重复之处不再赘述。
显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种光阻组合物,其特征在于,包括:有机成膜树脂、超疏水性可聚合单体、多官能团可交联聚合单体、光引发剂、添加剂和溶剂;
其中,所述超疏水性可聚合单体的沸点比所述溶剂的沸点高,且比所述多官能团可交联聚合单体、所述光引发剂和所述添加剂的沸点低;
所述添加剂,用于阻止所述光阻组合物中各组分之间发生聚合反应,使所述光阻组合物具备流动性,并消除所述光阻组合物中的气泡;
所述溶剂,用于分散所述超疏水性可聚合单体、所述多官能团可交联聚合单体、所述光引发剂和所述添加剂。
2.如权利要求1所述的光阻组合物,其特征在于,所述有机成膜树脂的质量占比为5%-25%,所述超疏水性可聚合单体的质量占比为0.5%-2%,所述多官能团可交联聚合单体的质量占比为0.1%-1%,所述光引发剂的质量占比为0.5%-2%,所述添加剂的质量占比为0.1%-1%,所述溶剂的质量占比为69%-93.8%。
3.如权利要求1所述的光阻组合物,其特征在于,所述超疏水性可聚合单体为以下之一或任意组合:
2,2,2-三氟乙基甲基丙烯酸酯、2,2,3,4,4,4-六氟丁基甲基丙烯酸酯、2,2,3,3-四氟丙基甲基丙烯酸酯和全氟环己基甲基丙烯酸酯。
4.如权利要求1所述的光阻组合物,其特征在于,所述多官能团可交联聚合单体为以下之一或任意组合:
聚二季戊四醇五丙烯酸酯、聚二季戊四醇六丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯和乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯。
5.如权利要求1所述的光阻组合物,其特征在于,所述光引发剂为以下之一或任意组合:
硝基苯胺、蒽醌、二苯甲酮和N-乙酰-4-硝基萘胺。
6.如权利要求1所述的光阻组合物,其特征在于,所述添加剂包括阻聚剂、流平剂和消泡剂;
其中,所述阻聚剂用于阻止所述光阻组合物中各组分之间发生聚合反应,且所述阻聚剂为以下之一或任意组合:
对苯二酚、2-仲丁基-4,6-二硝基苯酚、对叔丁基邻苯二酚、2,5-二特丁基对苯二酚、异戊醇、正己醇、丙三醇和正己烷;
所述流平剂用于使所述光阻组合物具备流动性,所述流平剂为以下之一或任意组合:
丙烯酸类化合物、有机硅类化合物和氟碳类化合物;
所述消泡剂用于消除所述光阻组合物中的气泡,所述消泡剂为以下之一或任意组合:
乳化硅油、高碳醇脂肪酸酯复合物、聚氧乙烯聚氧丙烯季戊四醇醚、聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚、聚氧丙烯甘油醚、聚氧丙烯聚氧乙烯甘油醚和聚二甲基硅氧烷。
7.如权利要求1所述的光阻组合物,其特征在于,所述溶剂为以下之一或任意组合:
乙酸乙酯、四氢呋喃、二氧六环、三恶烷、乙酸正丁酯、乙酸叔丁酯、乙二醇单乙酸酯、乙二醇甲醚乙酸酯、N-甲基吡咯、丙二醇、乙二醇烷基醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、乙酸乙氧乙酯、二甲氧基乙醛、丙二醇甲醚醋酸酯、3-乙氧基丙酸乙酯、丙二醇甲醚和乙酸乙二醇乙醚。
8.一种采用如权利要求1-7任一项所述的光阻组合物制作像素界定结构的方法,其特征在于,包括:
在阵列基板上涂覆光阻组合物,并减压抽气除去溶剂,形成像素界定结构的基体;
对所述基体进行前烘工艺,使得超疏水性可聚合单体梯度分布在所述基体中;
对包含有梯度分布的超疏水性可聚合单体的基体进行曝光工艺,使得基体中的超疏水性可聚合单体与多官能团可交联聚合单体提供的交联桥键、及光引发剂提供的自由基结合,发生聚合反应;
对发生聚合反应后的基体依次进行显影、后烘工艺,形成固定形状的所述像素界定结构。
9.一种像素界定结构,其特征在于,所述像素界定结构采用如权利要求8所述的方法制作。
10.一种显示面板,包括像素界定层,所述像素界定层包括开口和用于限定所述开口所在区域的像素界定结构,其特征在于,所述像素界定结构为如权利要求9所述的像素界定结构。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810967527.XA CN109100915B (zh) | 2018-08-23 | 2018-08-23 | 一种光阻组合物、像素界定结构及其制作方法、显示面板 |
US16/458,341 US11579525B2 (en) | 2018-08-23 | 2019-07-01 | Photoresist composition, pixel definition structure and manufacturing method thereof, and display panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810967527.XA CN109100915B (zh) | 2018-08-23 | 2018-08-23 | 一种光阻组合物、像素界定结构及其制作方法、显示面板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN109100915A true CN109100915A (zh) | 2018-12-28 |
CN109100915B CN109100915B (zh) | 2021-12-14 |
Family
ID=64851073
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810967527.XA Active CN109100915B (zh) | 2018-08-23 | 2018-08-23 | 一种光阻组合物、像素界定结构及其制作方法、显示面板 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11579525B2 (zh) |
CN (1) | CN109100915B (zh) |
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2018
- 2018-08-23 CN CN201810967527.XA patent/CN109100915B/zh active Active
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---|---|
US20200064734A1 (en) | 2020-02-27 |
US11579525B2 (en) | 2023-02-14 |
CN109100915B (zh) | 2021-12-14 |
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---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |