CN112349865B - Oled面板的制作方法、oled面板以及电子设备 - Google Patents
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Abstract
本公开提供了一种OLED面板的制作方法、OLED面板以及电子设备，在制备OLED面板的过程中，像素定义层制备之后在其表面上涂覆具有羟基以及不饱和碳碳双键的有机光诱导材料，使有机光诱导材料与像素定义层反应生成高分子聚合膜层，进而避免像素定义层受紫外辐射发生深度降解，从材料稳定性角度，根本性地解决了像素定义层受紫外辐射发生降解产生酸性气体，避免了酸性气体对OLED有机功能层以及各个电极的损坏，并且通过高分子聚合膜层实现对像素定义层、有机功能层等其他层级结构进行保护，实现对OLED面板使用寿命的提升。
Description
技术领域
本公开涉及显示器领域，特别涉及一种有机发光二极管(OLED，Organic Light-Emitting Diode)面板的制作方法、OLED面板以及电子设备。
背景技术
近年来，由于OLED显示技术具有自发光、宽视角、广色域、高对比度、轻薄、可折叠、可弯曲、轻薄易携带等特点，成为显示领域研发的主要方向，且OLED显示在智能手表、智能手机以及车载终端等各个领域的产品越来越多样化，使得不同的使用环境对产品性能要求也越来越高。
目前，OLED面临的挑战之一即为面板寿命，尤其是紫外光(UV，ultravioletlight)照射下寿命极短，如图1所示，实线代表OLED面板在紫外光照射下的使用寿命曲线，点线代表OLED面板未在紫外光照射下的使用寿命曲线，由图1可得出结论：在UV照射下，常规OLED产品的相对亮度由100％降低至95％时的时长从1100小时降至450小时左右，降幅约60％，紫外照射严重缩短了OLED面板的使用寿命，而该类柔性OLED产品紫外环境下寿命较低的问题会制约着OLED显示技术的应用。
发明内容
本公开实施例的目的在于提供一种OLED面板的制作方法、OLED面板以及电子设备，用以解决现有技术中OLED面板在紫外环境下寿命较短的问题。
本公开的实施例采用如下技术方案：一种OLED面板的制作方法，包括：在基底层表面依次制作阳极层和第一像素定义层；在所述第一像素定义层远离所述阳极层的第一表面涂覆有机光诱导材料，使所述第一像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应生成高分子聚合膜层；其中，所述有机光诱导材料的结构至少包括羟基以及不饱和碳碳双键；在所述有机光诱导材料远离所述第一像素定义层的表面制作有机功能层和阴极层。
进一步，所述预设条件至少包括：紫外光辐射。
进一步，所述在所述第一像素定义层远离所述阳极层的第一表面涂覆有机光诱导材料，使所述第一像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应生成高分子聚合膜层，包括：所述第一像素定义层在紫外光辐射下分解生成第一中间体；所述第一中间体与所述有机光诱导材料的羟基反应生成第四中间体；所述第四中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键聚合生成第一高分子聚合物；其中，所述高分子聚合膜层至少包括第一高分子聚合物。
进一步，所述在所述第一像素定义层远离所述阳极层的第一表面涂覆有机光诱导材料，使所述第一像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应生成高分子聚合膜层，包括：所述第一像素定义层在紫外光辐射下分解生成第二中间体；所述第二中间体与所述有机光诱导材料的羟基反应生成第五中间体；所述第五中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键聚合生成第二高分子聚合物；其中，所述高分子聚合膜层至少包括第二高分子聚合物。
进一步，，所述有机光诱导材料的结构还包括：二苯甲酮官能团。
进一步，所述第一像素定义层在紫外光辐射下分解生成第一中间体之后，还包括：所述第一中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键发生环加成反应生成第三中间体；其中，所述第三中间体的结构中至少包括所述二苯甲酮官能团。
进一步，所述第一高分子聚合物的结构和所述第二高分子聚合物的结构中至少包括所述二苯甲酮官能团。
进一步，在所述第一像素定义层远离所述阳极层的第一表面涂覆有机光诱导材料，使所述第一像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应生成高分子聚合膜层之后，还包括：在所述有机光诱导材料远离第一像素定义层的表面制作第二像素定义层；在所述第二像素定义层远离所述有机光诱导材料的表面制作有机功能层和阴极层。
本公开实施例还提供了一种OLED面板的制作方法，包括：在基底层表面制作阳极层；在所述阳极层远离所述基底层一侧制作第三像素定义层；其中，所述第三像素定义层中掺杂有有机光诱导材料，使所述第三像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应，形成改性的第三像素定义层；所述有机光诱导材料的结构至少包括羟基以及不饱和碳碳双键；在所述第三像素定义层远离所述阳极层的表面制作有机功能层和阴极层。
进一步，所述预设条件至少包括：紫外光辐射。
进一步，所述第三像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应，形成改性的第三像素定义层，包括：所述第三像素定义层在紫外光辐射下分解生成第一中间体；所述第一中间体与所述有机光诱导材料的羟基反应生成第四中间体；所述第四中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键聚合生成第一高分子聚合物。
进一步，所述第三像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应，形成改性的第三像素定义层，包括：所述第三像素定义层在紫外光辐射下分解生成第二中间体；所述第二中间体与所述有机光诱导材料的羟基反应生成第五中间体；所述第五中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键聚合生成第二高分子聚合物。
进一步，所述有机光诱导材料的结构还包括：二苯甲酮官能团。
进一步，所述第三像素定义层在紫外光辐射下分解生成第一中间体之后，还包括：所述第一中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键发生环加成反应生成第三中间体；其中，所述第三中间体的结构中至少包括所述二苯甲酮官能团。
进一步，所示有机光诱导材料的掺杂量占所述第三像素定义层中像素定义材料总量的0.1％～0.5％。
本公开实施例还提供了一种OLED面板，其基于上述制作方法进行制作。
本公开实施例还提供了一种电子设备，至少包括上述的OLED面板。
本公开实施例的有益效果在于：在制备OLED面板的过程中，像素定义层制备之后在其表面上涂覆具有羟基以及不饱和碳碳双键的有机光诱导材料，使有机光诱导材料与像素定义层反应生成高分子聚合膜层，进而避免像素定义层在紫外辐射下发生深度降解，从材料稳定性角度，根本性地解决像素定义层发生降解产生酸性气体，避免了酸性气体对OLED有机功能层以及各个电极的损坏，并且通过高分子聚合膜层实现对像素定义层、有机功能层等其他层级结构进行保护，实现对OLED面板使用寿命的提升。
附图说明
为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有技术中OLED使用寿命曲线示意图；
图2为本公开第一实施例中OLED面板的制作方法流程图；
图3为本公开第二实施例中OLED面板的制作方法流程图；
图4为本公开第三实施例中OLED面板的第一种层级结构示意图；
图5为本公开第三实施例中OLED面板的第二种层级结构示意图；
图6为本公开第三实施例中OLED面板的第三种层级结构示意图；
图7为本公开第三实施例中OLED面板的第四种层级结构示意图；
图8为本公开第三实施例中OLED面板的有机光诱导材料与第三像素定义层中PDL材料发生反应后的结构示意图。
附图标记
1-基底层 2-阳极层 3-第一像素定义层 31-有机光诱导材料
32-高分子聚合膜层 33-第二像素定义层 4-有机功能层 5-阴极层
6-第三像素定义层 7-改性后的第三像素定义层
具体实施方式
此处参考附图描述本公开的各种方案以及特征。
应理解的是，可以对此处申请的实施例做出各种修改。因此，上述说明书不应该视为限制，而仅是作为实施例的范例。本领域的技术人员将想到在本公开的范围和精神内的其他修改。
包含在说明书中并构成说明书的一部分的附图示出了本公开的实施例，并且与上面给出的对本公开的大致描述以及下面给出的对实施例的详细描述一起用于解释本公开的原理。
通过下面参照附图对给定为非限制性实例的实施例的优选形式的描述，本公开的这些和其它特性将会变得显而易见。
还应当理解，尽管已经参照一些具体实例对本公开进行了描述，但本领域技术人员能够确定地实现本公开的很多其它等效形式，它们具有如权利要求的特征并因此都位于借此所限定的保护范围内。
当结合附图时，鉴于以下详细说明，本公开的上述和其他方面、特征和优势将变得更为显而易见。
此后参照附图描述本公开的具体实施例；然而，应当理解，所申请的实施例仅仅是本公开的实例，其可采用多种方式实施。熟知和/或重复的功能和结构并未详细描述以避免不必要或多余的细节使得本公开模糊不清。因此，本文所申请的具体的结构性和功能性细节并非意在限定，而是仅仅作为权利要求的基础和代表性基础用于教导本领域技术人员以实质上任意合适的详细结构多样地使用本公开。
本说明书可使用词组“在一种实施例中”、“在另一个实施例中”、“在又一实施例中”或“在其他实施例中”，其均可指代根据本公开的相同或不同实施例中的一个或多个。
像素定义层(PDL，Pixel Define Layer)主要用于界定OLED各像素位置，使OLED的RGB子像素蒸镀在以PDL为界定位置的阳极上。由于PDL材料含有α-重氮羰基结构，为一类α-重氮羰基化合物，该类化合物属于一类不稳定的化合物，光、热、路易斯酸、质子酸及某些金属或者金属盐及金属配合物均能使其分解。故PDL材料在紫外线照射时，逐级被降解，最终分解为二氧化硫、二氧化碳等酸性气体及水分子，该类酸性气体对OLED有机功能层及阳极、阴极金属电极均具有一定的腐蚀作用，水分子对有机功能层材料的破坏作用，进而会不同程度地引起OLED在UV照射下寿命下降的问题及暗点多发的问题。
具体地PDL材料在UV光照下降解过程如下：
上式虚线框中即为PDL材料的α-重氮羰基结构，其结构不稳定，在受紫外线辐射(UV-hv)或者热辐射(△)作用下均易脱去1分子N2，形成第一中间体D1分子情况的过渡态，D1分子在紫外辐射或者热辐射的作用下发生分子内重排生成第二中间体D2分子，D2分子在紫外线辐射作用下进一步被分解为CO2和SO2及H2O等小分子。
为了解决上述PDL材料在紫外光照射下分解导致的OLED显示面板寿命降低的问题，本公开第一实施例提供了一种OLED面板的制作方法，其流程图如图2所示，主要包括步骤S1至S3：
S1，在基底层表面依次制作阳极层和第一像素定义层；
S2，在第一像素定义层远离阳极层的第一表面涂覆有机光诱导材料，使第一像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应生成高分子聚合膜层；
S3，在有机光诱导材料远离第一像素定义层的表面制作有机功能层和阴极层。
基底层为至少包括PI基底、缓冲层、薄膜晶体管(TFT，Thin Film Transistor)元件及平坦层等，在基底层表面则制备阳极层和第一像素定义层(PDL)，需要注意的是，上述层级结构均为OLED面板中的基础结构，其制备方法均可以使用现有方式进行制备，本实施例不进行详细赘述。
本实施例为了解决PDL材料在紫外光照射下分解的问题，在第一PDL层远离阳极层的第一表面涂覆一层有机光诱导材料Q，使有机光诱导材料Q在预定条件下与PDL材料进行反应，生成具有保护效果的高分子聚合膜层，高分子聚合膜层即可以作为屏障将第一PDL层包裹起来，阻止其在UV照射下进一步深度降解，避免产生酸性气体腐蚀OLED面板结构。应当了解的是，本实施例中所涉及的预定条件主要指在紫外光照射环境中，在实际执行本实施例的方法时，具体选用的紫外光波长以及紫外光照射的时长等参数，均可以根据实际需求进行调整，本实施例在此不进行限制。
具体地，有机光诱导材料Q主要为一类同时含有多羟基(-OH)、不饱和碳碳双键(-CH＝CH2)的有机材料，例如2-甲基-2-丙烯酸-2-羟基-3-(4-苯甲酰-3-羟基苯氧基)-2-羟基丙酯，其结构示意如下所示：
根据对PDL材料的降解描述，为了阻止PDL分解产生二氧化硫和二氧化碳等酸性气体，本实施例可以通过阻止第二中间体D2的产生或阻止第二中间体D2分解来实现避免酸性气体产生的目的。另外，本实施例中的有机光诱导材料Q还可以包括二苯甲酮官能团，因其具有吸收紫外线的特性，可以使生成的中间体或高分子聚合物中包含二苯甲酮官能团，使其具有吸收紫外线的功能，进一步起到对OLED面板的保护作用。
实际实现时，PDL材料在紫外线辐射下易脱去1分子N2，形成第一中间体D1分子，在其上旋涂有机光诱导材料Q后，在紫外光辐射下，D1分子与有机光诱导材料Q中醇羟基(-OH)进行反应生成第四中间体D4，D4中不饱和双键与机光诱导材料Q中的不饱和碳碳双键进一步进行聚合反应生成高分子聚合物P1，相对于原有PDL材料，高分子聚合物P1的分子量大幅度增加，并且P1中不含有不稳定的α-重氮羰基结构，因此稳定的P1即可以作为高分子聚合膜层形成对第一PDL层的保护。与此同时，该阶段反应过程及时地将PDL降解生成的中间体D1转化为高分子聚合物P1，可有效地阻止其进一步反应生成第二中间体D2，即从根源上降低了酸性气体的产生。
同时，有机光诱导材料Q中的不饱和碳碳双键在紫外光照下易形成自由基，在第一中间体D1生成之后，使得D1分子孤对电子位置与有机光诱导材料Q中不饱和碳碳双键进行环加成反应，生成第三中间体D3，因引入有机光诱导材料Q进行反应，使得生成的第三中间体D3结构中含有二苯甲酮官能团，故第三中间体D3具有吸收紫外线的特性，同时分子量相对较高的第三中间体D3热分解温度会有所增加，使其具有更好的热稳定性。上述阶段的反应示意如下所示：
进一步地，对于部分未与有机光诱导材料Q反应的第一中间体D1来说，其在紫外光照射下会继续分解成第二中间体D2，有机光诱导材料Q的羟基(-OH)与中间体D2分子中的羧基(-COOH)发生缩合反应生成第五中间体D5，第五中间体D5中的不饱和碳碳双键与有机光诱导材料Q中的不饱和碳碳双键进一步聚合反应生成第二高分子聚合物P2，相对于原有PDL材料，第二高分子聚合物P2的分子量大幅度增加，并且P2中不含有不稳定的α-重氮羰基结构，因此稳定的P2即可以作为高分子聚合膜层形成对第一PDL层的保护。与此同时，该阶段反应过程及时地将第二中间体D2转化为第二高分子聚合物P2，可有效地阻止其进一步分解生成酸性气体，即从根源上降低了酸性气体的产生，该阶段详细的反应过程如下。
应当了解的是，在有机光诱导材料Q具有二甲苯酮官能团时，经过上述反应生成的第一高分子聚合物P1和第二高分子聚合物P2的结构中均引入上述二甲苯酮官能团，由于二甲苯酮官能团自身所具备的吸收紫外线的特性，使得第一高分子聚合物P1和第二高分子聚合物P2均具有吸收紫外线的特性，进而第一高分子聚合物P1和第二高分子聚合物P2作为高分子聚合膜层覆盖在第一PDL层上时，其可以吸收照射进来的紫外光线，阻止紫外光线PDL材料的降解，防止其降解后产生的酸性气体破坏OLED面板结构。
本实施例通过引入有机光诱导材料Q，一方面消除了PDL材料结构中不稳定的α-重氮羰基，生成更稳定的化合物，另一方面将PDL材料紫外辐射下降解生成的中间体D1及D2分子反应转化为含二苯甲酮的高分子聚合物P1，P2和中间体D3、D4和D5，其均具备吸收紫外线的特性，能阻止PDL材料进一步降解，并且上述生成的物质的分子量远高于PDL材料，使OLED面板具有更好的耐热性。
在有机光诱导材料Q制备完毕后，可在其远离第一PDL层一侧的表面制备OLED的其他层级结构，例如有机功能层、阴极层等等，其具体的制作方式均可直接使用现有技术实现，本实施例不再进行赘述。进一步地，在制备PDL层时可以将其制备为三明治结构，即通过旋涂、曝光、显影等程序制备第一PDL层后，在其上旋涂有机光诱导材料Q，然后再继续制备以薄层的第二PDL层，并且利用制备第二PDL层时曝光显影使用的紫外光，使有机光诱导材料Q与第一PDL层充分反应生成热稳定性更好的高分子聚合膜层，进而提升了高分子聚合膜层的生成效率，保证了高分子聚合膜层的稳定性。
本公开第二实施例提供了另一种OLED面板的制作方法，其流程图如图3所示，主要包括步骤S21至S23：
S21，在基底层表面制作阳极层；
S22，在阳极层远离基底层一侧制作第三像素定义层；
S23，在第三像素定义层远离阳极层的表面制作有机功能层和阴极层。
需要注意的是，本实施例中基底层结构、阳极层的制作方法、有机功能层和阴极层的具体结构和制作方法均与本公开第一实施例中相同，本实施例中所使用的有机光诱导材料也与第一实施例中的有机光诱导材料相同，在本实施例中不再进行重复赘述。
而本实施例与第一实施例的区别在于，本实施例中在阳极层上制作的第三像素定义层，其制作材料并不是单纯的PDL材料，而是均匀掺杂有有机光诱导材料的PDL材料，有机光诱导材料的掺杂量约占PDL总量的0.1％～0.5％，通过旋涂、曝光、显影等方式制备第三PDL层时，即可基于制备第三PDL层时所使用的紫外光作为有机光诱导材料与第三PDL层中的PDL材料反应的预定条件，形成改性后的第三PDL层。
具体地，本实施例中的第三PDL层的PDL材料与第一实施例中的第一PDL层中的PDL材料完全相同，其在紫外光照射下同样会分解，进而产生第一中间体D1以及第二中间体D2等，在其内部掺杂有有机光诱导材料之后，其在紫外光照射下所可能发生的反应与第一实施例中第一PDL层与有机光诱导材料所发生的反应相同，在反应过程中所能生成的高分子聚合物和其他中间体也均相同，具体反应原理和各个物质生成过程详见第一实施例即可，本实施例不重复进行赘述。在经过紫外光照射后，第三PDL层变为含有第一高分子聚合物P1、第二高分子聚合物P2及中间体D3，D4，D5等改性后的第三PDL层，而改性后的第三PDL层因含P1、P2、D3、D4和D5等抗紫外线物质，而变得更为稳定，可避免紫外辐射下OLED面板受PDL裂解生成的酸性气体的损坏，提升OLED面板寿命。
本实施例在PDL材料中直接掺杂有机光诱导材料，无需改变现有的OLED层级结构，在紫外光照射下使有机光诱导材料与像素定义层反应生成具有抗紫外特性的高分子聚合物以及各种中间体，进而避免像素定义层在紫外辐射下发生深度降解，从材料稳定性角度，根本性地解决像素定义层发生降解产生酸性气体，避免了酸性气体对OLED有机功能层以及各个电极的损坏，实现对像素定义层、有机功能层等其他层级结构进行保护，实现对OLED面板使用寿命的提升。
本公开的第三实施例提供了一种OLED面板，该面板是基于本公开第一实施例或第二实施例提供的制作方法进行制作的。其中，图4至图7为基于第一实施例提供的制作方法所制作出的OLED面板的层级结构示意图，主要包括基底层1、阳极层2、第一PDL层3、有机光诱导材料31、高分子聚合膜层32、有机功能层4以及阴极层5，其中，图4为示出了有机光诱导材料31未与第一PDL层反应时的层级结构示意，此时第一PDL层3和有机功能层4之间为有机光诱导材料31，图5则示出了有机光诱导材料31与第一PDL层3反应之后的层级结构示意，此时第一PDL层3和有机功能层4之间为高分子聚合膜层32，在高分子聚合膜层32生成后，由于其结构中不存在不稳定的α-重氮羰基，并且有机光诱导材料31与第一PDL层3反应生成的高分子聚合物以及各中间体均具有较大分子量，形成了更加稳定的保护膜以对PDL层进行了保护，并且在其具有二甲苯酮官能团时具备吸收紫外线的能力，改善了OLED面板在紫外光照射下寿命缩短的问题。
其中，基底层1至少包括PI基底，缓冲层，TFT元件及平坦层等(图中未示出)；阳极层2可至少包括第一ITO层、Ag层以及第二ITO层(图中未示出)；有机功能层4至少包括空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层、发光层、空穴阻挡层、电子传输层、电子注入层(图中未示出)；阴极层5主要为OLED面板的CTD(cathode)，其可以选用一定比例的镁和银制成，优选的Mg：Ag为1:9到8:2之间。阴极层5以上的如光取出层、封装层及上功能组件层等等其制备方法均可以使用现有方式进行制备，本实施例不进行详细赘述。
图6示出了OLED面板的第三种层级结构示意图，其中，在高分子聚合膜层32与有机功能层4之间还存在一层第二PDL层33，在通过旋涂、曝光、显影等方式制备第二PDL层33时，即可基于制备第二PDL层33时所使用的紫外光作为有机光诱导材料31与第一PDL层3和第二PDL层33反应的预定条件，图6中第二PDL层33厚度为视觉效果，故有放大处理，实际仅为一薄层，在制备第二PDL层33过程中，有机光诱导材料31与第一PDL层3和第二PDL层33均会反应，最终形成如图6所示的示意结构，即在第一PDL层第一表面形成保护屏障。该种三明治结构设计，可提升高分子聚合膜层32的生成效率，保证了高分子聚合膜层32的稳定性，其次，相较于图4结构，在OLED制备PDL层过程中，可提前形成高分子聚合物保护屏障保护OLED面板寿命。
图7和图8示出了OLED面板的第四种层级结构示意图，即对应的是使用本公开第二实施例中的OLED面板制作方法所制作出的OLED面板的层级结构。其中，将有机光诱导材料31均匀地掺杂在第三PDL层6中，有机光诱导材料31的掺杂量约为0.1％～0.5％。通过旋涂、曝光、显影等方式制备第三PDL层6时，即可基于制备第三PDL层6时所使用的紫外光作为有机光诱导材料31与第三PDL层6中的PDL材料反应的预定条件，图8示出了有机光诱导材料31与第三PDL层6中PDL材料发生反应后的结构示意图，此时的第三PDL层6变为含有第一高分子聚合物P1、第二高分子聚合物P2及中间体D3，D4，D5等改性后的第三PDL层7。改性后的PDL层7因含P1、P2、D3、D4和D5等抗紫外线物质，而变得更为稳定，可避免紫外辐射下OLED面板受PDL裂解生成的酸性气体的损坏，提升OLED面板寿命。
本公开第四实施例提供了一种电子设备，该电子设备具有本公开第三实施例中所提供的OLED面板，因该面板在制作流程中引入有机光诱导材料Q，消除了PDL材料结构中不稳定的α-重氮羰基，生成更稳定的化合物，同时，将PDL材料紫外辐射下降解生成的中间体D1及D2分子反应转化为含二苯甲酮的高分子聚合物P1，P2和中间体D3、D4和D5，其均具备吸收紫外线的特性，能阻止PDL材料进一步降解，并且上述生成的物质的分子量远高于PDL材料，使OLED面板具有更好的耐热性，并且从根本上降低了酸性气体的生成，降低了酸性气体对OLED有机功能层以及各个电极的损坏。
以上对本公开多个实施例进行了详细说明，但本公开不限于这些具体的实施例，本领域技术人员在本公开构思的基础上，能够做出多种变型和修改实施例，这些变型和修改都应落入本公开所要求保护的范围之内。
Claims (9)
1.一种OLED面板的制作方法，其特征在于，包括：
在基底层表面依次制作阳极层和第一像素定义层；
在所述第一像素定义层远离所述阳极层的第一表面涂覆有机光诱导材料，使所述第一像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应生成高分子聚合膜层；其中，所述有机光诱导材料的结构至少包括羟基以及不饱和碳碳双键；
在所述有机光诱导材料远离所述第一像素定义层的表面制作有机功能层和阴极层；
所述预定条件至少包括：紫外光辐射；
所述在所述第一像素定义层远离所述阳极层的第一表面涂覆有机光诱导材料，使所述第一像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应生成高分子聚合膜层，包括：
所述第一像素定义层在紫外光辐射下分解生成第一中间体；
所述第一中间体与所述有机光诱导材料的羟基反应生成第四中间体；
所述第四中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键聚合生成第一高分子聚合物；
其中，所述高分子聚合膜层至少包括第一高分子聚合物；
所述在所述第一像素定义层远离所述阳极层的第一表面涂覆有机光诱导材料，使所述第一像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应生成高分子聚合膜层，包括：
所述第一像素定义层在紫外光辐射下分解生成第二中间体；
所述第二中间体与所述有机光诱导材料的羟基反应生成第五中间体；
所述第五中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键聚合生成第二高分子聚合物；
其中，所述高分子聚合膜层至少包括第二高分子聚合物；
所述有机光诱导材料的结构还包括：二苯甲酮官能团。
2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一像素定义层在紫外光辐射下分解生成第一中间体之后，还包括：
所述第一中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键发生环加成反应生成第三中间体；
其中，所述第三中间体的结构中至少包括所述二苯甲酮官能团。
3.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述第一高分子聚合物的结构和所述第二高分子聚合物的结构中至少包括所述二苯甲酮官能团。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的制作方法，其特征在于，在所述第一像素定义层远离所述阳极层的第一表面涂覆有机光诱导材料，使所述第一像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应生成高分子聚合膜层之后，还包括：
在所述有机光诱导材料远离第一像素定义层的表面制作第二像素定义层；
在所述第二像素定义层远离所述有机光诱导材料的表面制作有机功能层和阴极层。
5.一种OLED面板的制作方法，其特征在于，包括：
在基底层表面制作阳极层；
在所述阳极层远离所述基底层一侧制作第三像素定义层；其中，所述第三像素定义层中掺杂有有机光诱导材料，使所述第三像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应，形成改性的第三像素定义层；所述有机光诱导材料的结构至少包括羟基以及不饱和碳碳双键；
在所述第三像素定义层远离所述阳极层的表面制作有机功能层和阴极层；
所述预定条件至少包括：紫外光辐射；
所述第三像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应，形成改性的第三像素定义层，包括：
所述第三像素定义层在紫外光辐射下分解生成第一中间体；
所述第一中间体与所述有机光诱导材料的羟基反应生成第四中间体；
所述第四中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键聚合生成第一高分子聚合物；
所述第三像素定义层在预定条件下与有机光诱导材料反应，形成改性的第三像素定义层，包括：
所述第三像素定义层在紫外光辐射下分解生成第二中间体；
所述第二中间体与所述有机光诱导材料的羟基反应生成第五中间体；
所述第五中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键聚合生成第二高分子聚合物；
所述有机光诱导材料的结构还包括：二苯甲酮官能团。
6.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述第三像素定义层在紫外光辐射下分解生成第一中间体之后，还包括：
所述第一中间体与所述有机光诱导材料的不饱和碳碳双键发生环加成反应生成第三中间体；
其中，所述第三中间体的结构中至少包括所述二苯甲酮官能团。
7.根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，所述有机光诱导材料的掺杂量占所述第三像素定义层中像素定义材料总量的0.1％～0.5％。
8.一种OLED面板，其特征在于，基于权利要求1至7中任一项所述的制作方法进行制作。
9.一种电子设备，其特征在于，至少包括权利要求8所述的OLED显示面板。
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