CN109073855A - 光学装置及摄像装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种在使第1及第2聚焦透镜独立移动的双聚焦型光学装置中，能够更进一步减缓致动器之间的磁干扰的光学装置及摄像装置。在从光轴方向观察的状态下，将连结聚焦用位置传感器(33)与光轴(Ax)的线设为第1基准线(BL1)，将与第1基准线(BL1)正交且通过光轴(Ax)的线设为第2基准线(BL2)。在通过第2基准线(BL2)区分的第1区域(AR1)及第2区域(AR2)中，在第1区域(AR1)配设聚焦用位置传感器(33)。将X方向VCM(52)及Y方向VCM(53)配设于第2区域(AR2)。X方向VCM(52)及Y方向VCM(53)施加于聚焦用位置传感器(33)的磁力的影响得以抑制。

Description

光学装置及摄像装置
技术领域
本发明涉及一种光学装置及摄像装置。
背景技术
在数码相机等摄像装置或透镜镜筒等光学装置中，小型化的要求高，而且还要求提高自动聚焦的速度。因此，进行如下加工，即与将聚焦系统由多个聚焦透镜组来构成且由单独的聚焦透镜组构成的情况相比，缩短行程长度(例如，专利文献1)。由此，能够实现镜筒总长度的缩短化及自动聚焦的速度提高。并且，在微距镜头中，还能够改善微距区域的性能劣化。
但是，数码相机等摄像装置或透镜镜筒等光学装置中设置有防振机构的情况较多。防振机构具有防振透镜及致动器，致动器使防振透镜沿间距方向及偏摆方向位移。由此，由手抖而引起的图像振动减少(例如，专利文献2)。作为使防振透镜位移的致动器，可使用由线圈及磁体构成的线性致动器(音圈马达(Voice Coil Motor))。
并且，作为使聚焦透镜组等可动透镜移动的致动器，除了旋转式马达以外，有时还使用音圈马达。并且，在这种光学装置中设置有光圈、ND(中性密度(Neutral Density))滤光片及快门这一光量控制部件以及分别驱动它们的致动器。
在专利文献2中所记载的光学装置中，在镜筒部件内容纳使防振透镜沿彼此不同的方向位移的第1及第2致动器、使可动透镜移动的由磁体及线圈构成的第3致动器、使光量控制部件动作的由磁体及线圈构成的第4致动器，且这些致动器在光轴方向观察下彼此不重合的方式配置，以抑制光学装置中的致动器之间的磁干扰。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2011-242791号公报
专利文献2：日本特开2010-072062号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
然而，如专利文献2中所记载的光学装置，在光轴方向观察下，当以第1至第4致动器彼此均不重合的方式配置时，虽然能够抑制由各致动器而引起的磁干扰，但可有助于小型化的有效的配置变得困难。
从一开始，为了能够实现镜筒总长度的缩短化及自动聚焦的速度提高，而将聚焦系统由多个聚焦透镜组来构成时，除了与用于分别使聚焦透镜组移动的致动器即音圈马达或基于这些音圈马达的用于检测各聚焦透镜组位置的位置传感器的磁干扰以外，还需要考虑与防振机构的音圈马达或其位置传感器的磁干扰。因此，仅以光轴方向观察下的各致动器彼此不重合的方式配置，无法有效地抑制磁干扰而使各部高精度地动作。
本发明的目的在于提供一种在使第1及第2聚焦透镜独立移动的双聚焦型光学装置中，设成能够更进一步减缓致动器之间的磁干扰的光学装置及摄像装置。
用于解决技术课题的手段
本发明的光学装置具有第1聚焦透镜框、第2聚焦透镜框、抖动校正透镜框、第1～第4音圈马达及第1～第4位置传感器。第1聚焦透镜框保持使被摄体像对焦的第1聚焦透镜，且沿第1聚焦透镜的光轴方向移动。第2聚焦透镜框在光轴方向上从第1聚焦透镜隔开配设，且保持使被摄体像对焦的第2聚焦透镜，并且沿光轴方向移动。抖动校正透镜框保持配设于第1聚焦透镜及第2聚焦透镜之间的抖动校正透镜，且沿与第1聚焦透镜的光轴正交的方向移动。第1音圈马达具备第1驱动用磁体、第1磁轭及安装于第1透镜框的第1线圈，并通过向第1线圈通电而使第1透镜框沿光轴方向移动。第2音圈马达具备第2驱动用磁体、第2磁轭及安装于第2透镜框的第2线圈，并通过向第2线圈通电而使第2透镜框沿光轴方向移动。第3音圈马达具备第3驱动用磁体、第3磁轭及安装于抖动校正透镜框的第3线圈，并通过向第3线圈通电而在与光轴正交的面内使抖动校正透镜框沿第1方向移动。第4音圈马达具备第4驱动用磁体、第4磁轭及安装于抖动校正透镜框的第4线圈，并通过向第4线圈通电而在与光轴正交的面内使抖动校正透镜框沿与第1方向正交的第2方向移动。第1位置传感器磁检测第1透镜框的光轴方向的位置。第2位置传感器磁检测第2透镜框的光轴方向的位置。第3位置传感器磁检测抖动校正透镜框的第1方向的位置。第4位置传感器磁检测抖动校正透镜框的第2方向的位置。在从光轴方向观察的状态下，将连结第1位置传感器与光轴的线设为第1基准线，将与第1基准线正交且通过光轴的线设为第2基准线。第1位置传感器及第2位置传感器在通过第2基准线区分的第1区域及第2区域中，配设于第1区域。第3音圈马达的第3驱动用磁体及第3磁轭和第4音圈马达的第4驱动用磁体及第4磁轭配设于第2区域。
另外，优选相对于第1基准线，第3位置传感器及第4位置传感器线对称地配设。在该情况下，能够消除第1及第2音圈马达向第3位置传感器及第4位置传感器的磁力影响的偏向，并且，能够提高防振性能。在从光轴方向观察的状态下，优选第1位置传感器与第2位置传感器重叠配设。在该情况下，能够有效地抑制磁力的影响。并且，在从光轴方向观察的状态下，优选在第1基准线上线对称地配设第3音圈马达及第4音圈马达。在该情况下，第1位置传感器及第2位置传感器也从第3音圈马达及第4音圈马达以等距离隔开，因此能够更均匀地抑制第3音圈马达及第4音圈马达的磁力的影响。
优选第1位置传感器及第2位置传感器具有磁检测第1传感器磁体及第1传感器磁体的位置的变化的第1磁传感器，第3位置传感器及第4位置传感器具有磁检测第2传感器磁体及第2传感器磁体的位置的变化的第2磁传感器，第2磁传感器为霍尔元件，第1磁传感器为与霍尔元件相比检测更弱的磁力的磁传感器。在该情况下，能够使具有与霍尔元件相比检测更弱的磁力的第1磁传感器的第1位置传感器及第2位置传感器远离磁力影响最大的第3音圈马达及第4音圈马达的磁体及磁轭，从而能够有效地抑制由此而引起的磁力的影响。
优选具有：一对第1导向件，沿光轴方向引导第1透镜框；及导向件滑动部，形成于第1透镜框，且用于第1导向件的滑动。一对第1导向件在第1基准线上隔着光轴配设。第1线圈配设于第1聚焦透镜的外周。第1驱动用磁体及第1磁轭设置有多个，多个各第1驱动用磁体及各第1磁轭在第1基准线上线对称地配设。并且，第2线圈配设于第2聚焦透镜的外周。第2驱动用磁体及第2磁轭设置有多个，多个各第2驱动用磁体及各第2磁轭在第1基准线上线对称地配设。在该情况下，相对于1个线圈，将一对第2导向件在第1基准线上隔着光轴配设，将磁体及磁轭在第1基准线上线对称地配设，因此线圈、磁体、磁轭平衡良好地配设于对称位置，从而第1音圈马达及第2音圈马达平滑地动作。
优选第1驱动用磁体及第1磁轭、第2驱动用磁体及第2磁轭分别为4个，各磁体及各磁轭在第2基准线上线对称地配设。并且，优选第1线圈及第2线圈在从光轴方向观察的状态下形成为六边形。通过设为上述配置，各部件平衡良好地配设，因此能够使第1音圈马达及第2音圈马达的移动更平滑。
优选构成第1音圈马达及第2音圈马达的第1驱动用磁体及第2驱动用磁体、第1磁轭及第2磁轭、第1线圈及第2线圈为相同形状。并且，优选第1聚焦透镜及第2聚焦透镜沿光轴方向移动的移动量相等。而且，优选第1聚焦透镜及第2聚焦透镜沿光轴方向移动的移动量相等，且重量相等。通过将它们设为相同的结构，除了实现组件种类的减少以外，容易使这些第1音圈马达与第2音圈马达同步。
本发明的摄像装置优选具有上述光学装置及拍摄通过光学装置获得的被摄体像的成像元件。并且，在本发明的摄像装置中，优选光学装置包含于具有相对于具有成像元件的相机主体装卸自如的连接器的可换镜头单元。
发明效果
根据本发明，在通过音圈马达使第1及第2聚焦透镜独立移动的双聚焦型光学装置中，能够更进一步减缓音圈马达及磁传感器的磁干扰。
附图说明
图1是表示本发明的摄像装置的示意性结构的剖视图。
图2是沿光轴方向分解表示第1聚焦机构、光圈机构、防振机构及第2聚焦机构的立体图。
图3是表示沿光轴方向分解第1聚焦机构并从前侧观察的状态的立体图。
图4是表示沿光轴方向分解第1聚焦机构并从后侧观察的状态的立体图。
图5是从光轴方向观察了第1聚焦机构及防振机构的主要部分的主视图。
图6是从光轴方向观察了聚焦透镜框的背视图。
图7是沿光轴方向分解表示第1聚焦机构、防振机构及第2聚焦机构的主要部分的立体图。
具体实施方式
如图1所示，实施了本发明的摄像装置10具有作为光学装置的透镜单元11及相机主体12。透镜单元11作为可换镜头单元而构成。该透镜单元11具有相对于相机主体12装卸自如的连接器13。另外，透镜单元11可以与相机主体12构成为一体。
透镜单元11在镜筒部件19内具备光学系统14。光学系统14具有从被摄体侧沿光轴Ax依次配设的第1透镜21、第2透镜22、第3透镜23、第4透镜24及第5透镜25。另外，分别以1片透镜来示意地表示第1透镜21～第5透镜25，但它们可以是多片透镜组。
相机主体12具备拍摄通过光学系统14获得的被摄体的光学像的成像元件7。控制部8向成像元件7输入摄像时刻等各种摄像条件信息，并取入从成像元件7输出的所拍摄的图像信号。而且，对所取入的图像信号实施模拟处理及数字处理，并生成输出用摄像图像数据。
如图2所示，在镜筒部件19内也从被摄体侧依次配设有第1聚焦机构15、光圈机构16、防振机构17及第2聚焦机构18。
在镜筒部件19的外周旋转自如地安装有聚焦环20。当进行手动聚焦时，若旋转聚焦环20，则根据该旋转，例如作为第2透镜22的第1聚焦透镜22及作为第4透镜24的第2聚焦透镜24分别独立地沿光轴Ax的方向(以下，光轴方向)移动。通过该移动，第1聚焦透镜22及第2聚焦透镜24配设于与摄影距离相应的规定的光轴方向的位置，从而能够进行对焦。
第1透镜21及第5透镜25为固定透镜，且分别固定于镜筒部件19的前端侧(被摄体侧)及后端侧(成像元件7侧)。作为第2透镜22的第1聚焦透镜22、作为第3透镜23的抖动校正透镜23及作为第4透镜24的第2聚焦透镜24为可动透镜。
第1聚焦透镜22由第1聚焦机构15驱动，且沿光轴方向移动。第2聚焦透镜24由第2聚焦机构18驱动，且沿光轴方向移动。
如图3及图4所示，第1聚焦机构15在圆筒状的聚焦筒28中具有聚焦透镜框30(相当于第1透镜框)、聚焦用音圈马达(以下，称为VCM，相当于第1VCM)31、作为第1导向件的一对导向棒32a、32b、作为第1位置传感器的聚焦用位置传感器33及底座29。聚焦透镜框30保持第1聚焦透镜22。聚焦透镜框30通过一对导向棒32a、32b保持为沿光轴方向移动自如。导向棒32a、32b配设成从底座29向与光轴Ax平行方向突出。这一对导向棒32a、32b以光轴Ax为中心在与光轴Ax正交的底座29的直径方向上隔开配设。
聚焦用VCM31具备1个线圈34(相当于第1线圈)、4个驱动用磁体35(相当于第1驱动用磁体)及4个磁轭36(相当于第1磁轭)，通过向线圈34通电而使聚焦透镜框30沿光轴方向移动。
线圈34为卷绕铜线等而形成的空芯线圈。该线圈34在第1聚焦透镜22的外侧位置上安装于聚焦透镜框30。
如图5所示，线圈34在从光轴方向观察的状态下形成为六边形。该线圈34呈将对置的一对边设为长于其余4个边的长边34a且将剩余4个边设为短边34b的纵长的大致六边形。并且，连结短边34b的顶角部分被倒角加工，并且还包含基于该倒角的连结边34c，因此严格而言呈八边形。在本发明中，严格而言如此将对顶角部分进行倒角加工而呈八边形的形状也作为大致六边形来包含于六边形中。
如图6所示，聚焦透镜框30也与线圈34相同地，在从光轴方向观察的状态下，外形形成为大致六边形。而且，在一对长边30a的外周方向中央部，滑动部40、41(相当于导向件滑动部)向通过光轴Ax的直径方向突出形成。在一侧滑动部40的前端形成有滑动筒40a，在另一侧滑动部41的前端形成有滑动槽41a。
如图3所示，滑动筒40a形成为与光轴方向平行。在该滑动筒40a中插穿一侧导向棒32a。并且，在滑动槽41a中卡合有导向棒32b。通过这一对导向棒32a、32b与滑动筒40a、滑动槽41a的卡合，聚焦透镜框30沿光轴方向被移动引导。
如图3及图4所示，磁轭36由磁性体构成，且形成为以夹持线圈34及驱动用磁体35的方式使外侧磁轭36a与内侧磁轭36b对置的U字状。在外侧磁轭36a的内侧面安装有驱动用磁体35。
在聚焦透镜框30中形成有内侧磁轭36b进入的开口30e(参考图6)。在内侧磁轭36b进入该开口30e之后，连结板36d嵌合于外侧磁轭36a及内侧磁轭36b的缺口。由此，如图5所示，驱动用磁体35及磁轭36分别配设于线圈34的4个短边34b的部分。
磁轭36固定于聚焦筒28的内周面。线圈34配设于磁轭36与驱动用磁体35之间，且在通过通电而由驱动用磁体35产生的磁场内沿光轴方向移动。
聚焦用位置传感器33检测聚焦透镜框30的光轴方向上的位置。聚焦用位置传感器33具有棒状的位置检测用磁体33a(相当于第1传感器磁体)及磁传感器33b(相当于第1磁传感器)。位置检测用磁体33a埋入于聚焦透镜框30的滑动筒40a的外侧面，而表面露出至外部。
在磁传感器33b中使用利用了巨磁阻效应(GMR-Giant Magneto Resistiveeffect)的GMR元件。磁传感器33b安装于聚焦筒28的外侧。在聚焦筒28中形成有使位置检测用磁体33a露出至聚焦筒28的外部的开口28a(参考图3及图4)。磁传感器33b经由该开口28a接近配设于位置检测用磁体33a。由此，磁传感器33b检测位置检测用磁体33a的磁力并输出与磁力的强度相应的检测信号。
磁传感器33b的输出信号传送至相机主体12的控制部8。控制部8根据磁传感器33b的输出信号检测聚焦透镜框30的光轴方向上的位置，并通过第1聚焦机构15将第1聚焦透镜22移动至所希望的位置而进行对焦。
在本实施方式中，如图5所示，基于导向棒32的聚焦透镜框30的导向位置及基于向线圈34通电的聚焦透镜框30的磁力作用位置位于以光轴Ax为中心的同心圆上。因此，以光轴Ax为中心，导向棒32、驱动用磁体35及磁轭36成为保持平衡的配置。因此，通过向线圈34通电，能够使聚焦透镜框30沿光轴方向平滑地移动。
如图2所示，第2聚焦机构18在圆筒状的聚焦筒28(参考图1)中具备聚焦透镜框(相当于第2透镜框)30、聚焦用VCM(相当于第2VCM)31、一对导向棒(第2导向件)32a、32b及聚焦用位置传感器(第2聚焦用位置传感器)33。除了在聚焦透镜框30中代替第1聚焦透镜22安装有第2聚焦透镜24以外，设为与第1聚焦机构15相同的结构。因此，对相同构成部件标注相同符号，并省略重复说明。
另外，当在第1聚焦机构15与第2聚焦机构18之间，欲识别各构成部件时，对第1聚焦机构15的部件标注第1，对第2聚焦机构18的部件标注第2。第2聚焦机构18将安装方向设为在前后方向上与第1聚焦机构15相反的方向，但也可以将它们设为相同的方向。如图7所示，在从光轴方向观察的状态下，以第1聚焦用位置传感器33与第2聚焦用位置传感器33(相当于第2位置传感器)重叠的方式，配设第1聚焦机构15及第2聚焦机构18。
如图2所示，在第1聚焦机构15与第2聚焦机构18之间安装有光圈机构16及防振机构17。光圈机构16具有配设于光轴Ax上的光圈叶片16a。通过增减由该光圈叶片16a形成的光圈开口的直径，调整入射于相机主体12的摄影光的光量。
防振机构17具有抖动校正透镜23、抖动校正透镜框51、X方向VCM52(相当于第3VCM)、Y方向VCM53(相当于第4VCM)、X方向位置传感器54(相当于第3位置传感器，参考图7)、Y方向位置传感器55(相当于第4位置传感器，参考图7)及固定板56(参考图5)。抖动校正透镜框51保持抖动校正透镜23，且沿X方向(相当于第1方向，参考图7)及Y方向(相当于第2方向，参考图7)移动自如地安装于固定板56。
X方向VCM52具有驱动用磁体52a(相当于第3驱动用磁体)、线圈52b(相当于第3线圈)及磁轭52c(相当于第3磁轭)，且使抖动校正透镜框51沿X方向移动。驱动用磁体52a固定于磁轭52c，磁轭52c固定于固定板56。线圈52b固定于抖动校正透镜框51。Y方向VCM53具有驱动用磁体53a(相当于第4驱动用磁体)、线圈53b(相当于第4线圈)及磁轭53c(相当于第4磁轭)，且使抖动校正透镜框51沿Y方向移动。驱动用磁体53a固定于磁轭53c，磁轭53c固定于固定板56。并且，线圈53b固定于抖动校正透镜框51。
X方向位置传感器54检测抖动校正透镜框51的X方向的透镜位置，Y方向位置传感器55检测抖动校正透镜框51的Y方向的透镜位置。X方向位置传感器54具有位置检测用磁体54a(相当于第2传感器磁体)及磁传感器54b(相当于第2磁传感器)。相同地，Y方向位置传感器55也具有位置检测用磁体55a(相当于第2传感器磁体)及磁传感器55b(相当于第2磁传感器)。
在磁传感器54b、55b中使用霍尔元件。磁传感器54b、55b例如固定于固定板56。并且，位置检测用磁体54a、55a固定于抖动校正透镜框51。磁传感器54b、55b接近配设于位置检测用磁体54a、55a。由此，磁传感器54b、55b检测位置检测用磁体54a、55a的磁力，并输出与磁力的强度相应的检测信号。该检测信号传送至控制部8。在控制部8中，若由省略图示的振动陀螺仪传感器检测到摄像装置10的移动，则使用X方向VCM52及Y方向VCM53使抖动校正透镜23在XY面上向抵消由该移动而引起的图像的抖动的方向位移，由此校正图像抖动。
接着，对本实施方式的作用进行说明。若通过释放操作开始拍摄，则第1聚焦机构15及第2聚焦机构18工作，第1聚焦透镜22及第2聚焦透镜24沿光轴方向移动，以进行对焦控制。如此通过使用第1聚焦机构15及第2聚焦机构18对多个聚焦透镜22、24进行对焦控制，透镜移动量被分散，因此能够进行迅速的对焦。尤其使多个聚焦透镜22、24移动，因此能够在微距摄影中进行迅速且高精度的对焦。并且，若检测到摄像装置10的抖动，则防振机构17工作而使抖动校正透镜23在XY面上移动。由此，图像抖动得以校正。
如图1及图2所示，镜筒部件19内依次彼此接近地配设有第1聚焦机构15、光圈机构16、防振机构17及第2聚焦机构18。因此，若未将这些驱动源即VCM31、52、53和由磁传感器构成的位置传感器33、54、55配置在适当的位置，则存在发生磁干扰的顾虑。若受到干扰，则位置传感器33、54、55变得无法检测准确的位置，从而产生误动作或异音。
尤其，第1聚焦机构15及第2聚焦机构18用作为磁传感器33b使用了GMR元件的聚焦用位置传感器33来检测聚焦透镜框30的位置，因此容易受到来自相邻的防振机构17的VCM52、53或作为磁传感器54b、55b使用了霍尔元件的位置传感器54、55的磁场的影响。因此，从光轴方向观察，使用了GMR元件的聚焦用位置传感器33配置在离防振机构17的VCM52、53及位置传感器54、55最远的位置来抑制磁干扰的产生。
以下，参考图5并利用第1基准线BL1及第2基准线BL2对各位置传感器33、54、55及各VCM31、52、53的配置进行说明。第1基准线BL1在从光轴方向观察的状态下延长连结聚焦用位置传感器33与光轴Ax的线。第2基准线BL2为通过光轴Ax且与第1基准线BL1正交的线。另外，相对于第1基准线BL1及第2基准线BL2以45°角度交叉的2根线为与X方向平行的水平线HL及与Y方向平行的垂直线VL。
聚焦透镜框30保持为通过作为一对导向件32的导向棒32a、32b沿光轴方向移动自如。导向棒32a、32b在第1基准线BL1上隔着光轴Ax配设。线圈34配设于第1聚焦透镜22的外周，且具有一对对置的长边34a及与它们连续的两对短边34b，并且形成为大致六边形状。驱动用磁体35及磁轭36分别在线圈34的短边34b设置有4个。这些4个驱动用磁体35及磁轭36相对于第1基准线BL1及第2基准线BL2线对称地配设。
聚焦用位置传感器33在通过第2基准线BL2区分的第1区域AR1及第2区域AR2中，配设于第1区域AR1。相对于此，防振机构17的X方向VCM(第3VCM)52的第3驱动用磁体52a、第3线圈52b、第3磁轭52c和Y方向VCM(第4VCM)53的第4驱动用磁体53a、第4线圈53b、第3磁轭52c相对于第2区域AR2的第1基准线BL1配设于线对称的位置。如此，防振机构17的各VCM52、53的各磁体52a、53a及线圈52b、53b从光轴方向观察彼此以等距离远离聚焦用位置传感器33，因此在第1聚焦机构15及第2聚焦机构18中，能够抑制X方向VCM52及Y方向VCM53施加于聚焦用位置传感器33的磁力的影响。因此，聚焦用位置传感器33的位置检测精度不会下降，从而能够以高精度进行对焦。并且，基于聚焦用位置传感器33的检测位置的精度下降的不稳定的动作消失，从而异音的产生等得以抑制。
如图7所示，在从光轴方向观察的状态下，第1聚焦机构15的第1聚焦用位置传感器33与第2聚焦机构18的第2聚焦用位置传感器33重叠配设，由此能够消除由各聚焦用位置传感器33而引起的光轴Ax周围的磁力的偏向。并且，在从光轴方向观察的状态下，在第1基准线BL1上线对称的位置上配设X方向VCM52及Y方向VCM53的驱动用磁体52a、53a及线圈52b、53b，由此聚焦用位置传感器33从X方向VCM52及Y方向VCM53以等距离分开。因此，能够更均匀地抑制X方向VCM52及Y方向VCM53的磁力的影响。
在聚焦用位置传感器33中使用与霍尔元件相比能够检测更弱的磁力的GMR元件。因此，能够以高精度检测聚焦位置。另一方面，容易受到其他磁体的磁力的影响。因此，通过设为将聚焦用位置传感器33远离X方向VCM52及Y方向VCM53的磁体52a、53a及线圈52b、53b的结构，能够有效地抑制由磁体52a、53a及线圈52b、53b而引起的对聚焦用位置传感器33的磁力的影响。
并且，相对于第1基准线BL1，位置传感器54、55线对称地配设，由此能够消除自第1及第2聚焦用VCM31向位置检测用磁体54a、55a的磁力影响的偏向。由此，能够提高防振性能。
对1个线圈34，在第1基准线BL1上隔着光轴Ax配设一对导向件32，将驱动用磁体35及磁轭36相对于第1基准线BL1线对称地配设，因此线圈34、驱动用磁体35、磁轭36等各部件在对称位置上平衡良好地配设，从而能够使聚焦用VCM31平滑地移动。
通过将第1聚焦机构15及第2聚焦机构18的驱动用磁体35(相当于第1、第2驱动用磁体)及磁轭36(相当于第1、第2磁轭)设为4个，且各驱动用磁体35及各磁轭36在第2基准线BL2上线对称地配设，平衡良好地配设各部件。因此，能够使第1聚焦机构15及第2聚焦机构18的移动更平滑。并且，通过将第1及第2聚焦机构15、18的线圈34(相当于第1、第2线圈)在从光轴方向观察的状态下形成为六边形，能够在对置的一对边上配设滑动部40、41，在剩余两对的边上配设磁体35及磁轭36，从而能够实现平衡良好的配置，从而能够使聚焦透镜框30平滑地移动。
通过在第1聚焦机构15及第2聚焦机构18中相同地构成线圈34、驱动用磁体35及磁轭36，除了能够实现组件种类的减少以外，容易使第1聚焦机构15与第2聚焦机构18同步。第1聚焦透镜22及第2聚焦透镜24通过将沿光轴方向移动的移动量设为相等，进一步容易使它们同步。而且，通过将沿光轴方向移动的移动量及重量设为相等，进一步容易使它们同步。
另外，在上述实施方式中，通过相机主体12侧的控制部8来进行聚焦控制及抖动校正，但代替它们，也可以在透镜单元11中设置控制部，并通过该透镜单元11的控制部进行聚焦控制及抖动校正。
当赋予变焦机构时，设置转动自如的变焦环(省略图示)，通过变焦环的转动操作，在第1透镜21、第1聚焦机构15、光圈机构16及防振机构17、第2聚焦机构18的各机构部的透镜组中，使1个以上的透镜沿光轴方向移动。由此，根据变焦环的转动操作能够进行变焦操作。
符号说明
7-成像元件，8-控制部，10-摄像装置，11-透镜单元，12-相机主体，13-连接器，14-光学系统，15-第1聚焦机构，16-光圈机构，16a-光圈叶片，17-防振机构，18-第2聚焦机构，19-镜筒部件，20-聚焦环，21-第1透镜，22-第1聚焦透镜(第2透镜)，23-抖动校正透镜(第3透镜)，24-第2聚焦透镜(第4透镜)，25-第5透镜，28-聚焦筒，29-底座，30-聚焦透镜框(第1、第2透镜框)，30a-长边，30e-开口，31-聚焦用VCM(第1、第2音圈马达)，32-导向件(第1、第2导向件)，32a、32b-导向棒，33-聚焦用位置传感器(第1、第2位置传感器)，33a-位置检测用磁体(第1传感器磁体)，33b-磁传感器(第1磁传感器)，34-线圈(第1、第2线圈)，34a-长边，34b-短边，34c-连结边，35-驱动用磁体(第1、第2驱动用磁体)，36-磁轭(第1、第2磁轭)，36a-外侧磁轭，36b-内侧磁轭，36d-连结板，40-滑动部(导向件滑动部)，40a-滑动筒，41-滑动部(导向件滑动部)，41a-滑动槽，51-抖动校正透镜框，52-X方向VCM(第3VCM)，52a-驱动用磁体(第3驱动用磁体)，52b-线圈(第3线圈)，52c-磁轭(第3磁轭)，53-Y方向VCM(第4VCM)，53a-驱动用磁体(第4驱动用磁体)，53b-线圈(第4线圈)，53c-磁轭(第4磁轭)，54-X方向位置传感器(第3位置传感器)，54a-位置检测用磁体(第2传感器磁体)，54b-磁传感器(第2磁传感器)，55-Y方向位置传感器(第4位置传感器)，55a-位置检测用磁体(第2传感器磁体)，55b-磁传感器(第2磁传感器)，56-固定板，Ax-光轴，BL1-第1基准线，BL2-第2基准线，HL-水平线，VL-垂直线，AR1-第1区域，AR2-第2区域。

Claims (14)

1.一种光学装置，其具有：
第1透镜框，保持使被摄体像对焦的第1聚焦透镜，且沿所述第1聚焦透镜的光轴方向移动；
第2透镜框，在所述光轴方向上从所述第1聚焦透镜隔开配设，且保持使所述被摄体像对焦的第2聚焦透镜，并且沿所述光轴方向移动；
抖动校正透镜框，保持配设于所述第1聚焦透镜及第2聚焦透镜之间的抖动校正透镜，且沿与所述第1聚焦透镜的光轴正交的方向移动；
第1音圈马达，具备第1驱动用磁体、第1磁轭及安装于所述第1透镜框的第1线圈，并通过向所述第1线圈通电而使所述第1透镜框沿所述光轴方向移动；
第2音圈马达，具备第2驱动用磁体、第2磁轭及安装于所述第2透镜框的第2线圈，并通过向所述第2线圈通电而使所述第2透镜框沿所述光轴方向移动；
第3音圈马达，具备第3驱动用磁体、第3磁轭及安装于所述抖动校正透镜框的第3线圈，并通过向所述第3线圈通电而在与所述光轴正交的面内使所述抖动校正透镜框沿第1方向移动；
第4音圈马达，具备第4驱动用磁体、第4磁轭及安装于所述抖动校正透镜框的第4线圈，并通过向所述第4线圈通电而在与所述光轴正交的面内使所述抖动校正透镜框沿与所述第1方向正交的第2方向移动；
第1位置传感器，磁检测所述第1透镜框的所述光轴方向的位置；
第2位置传感器，磁检测所述第2透镜框的所述光轴方向的位置；
第3位置传感器，磁检测所述抖动校正透镜框的所述第1方向的位置；及
第4位置传感器，磁检测所述抖动校正透镜框的所述第2方向的位置，
在从所述光轴方向观察的状态下，
当将连结所述第1位置传感器与所述光轴的线设为第1基准线，将与所述第1基准线正交且通过所述光轴的线设为第2基准线时，所述第1位置传感器及第2位置传感器在通过所述第2基准线区分的第1区域及第2区域中，配设于所述第1区域，
所述第3音圈马达的所述第3驱动用磁体及所述第3磁轭和所述第4音圈马达的所述第4驱动用磁体及所述第4磁轭配设于所述第2区域。
2.根据权利要求1所述的光学装置，其中，
相对于所述第1基准线，所述第3位置传感器及第4位置传感器线对称地配设。
3.根据权利要求1或2所述的光学装置，其中，
在从所述光轴方向观察的状态下，
所述第1位置传感器与所述第2位置传感器重叠配设。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光学装置，其中，
在从所述光轴方向观察的状态下，在所述第1基准线上线对称地配设所述第3音圈马达和所述第4音圈马达。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光学装置，其中，
所述第1位置传感器及所述第2位置传感器具有磁检测第1传感器磁体及所述第1传感器磁体的位置的变化的第1磁传感器，
所述第3位置传感器及所述第4位置传感器具有磁检测第2传感器磁体及所述第2传感器磁体的位置的变化的第2磁传感器，
所述第2磁传感器为霍尔元件，与所述霍尔元件相比所述第1磁传感器为检测更弱的磁力的磁传感器。
6.根据权利要求5所述的光学装置，其具有：
一对第1导向件，在所述第1基准线上，隔着所述光轴配设，且沿所述光轴方向引导所述第1透镜框；及
导向件滑动部，形成于所述第1透镜框，且用于所述第1导向件的滑动，
所述第1线圈配设于所述第1聚焦透镜的外周，
所述第1驱动用磁体及所述第1磁轭设置有多个，多个各所述第1驱动用磁体及各所述第1磁轭在所述第1基准线上线对称地配设。
7.根据权利要求5所述的光学装置，其具有：
一对第2导向件，在所述第1基准线上，隔着所述光轴配设，且沿所述光轴方向引导所述第2透镜框；及
导向件滑动部，形成于所述第2透镜框，且用于所述第2导向件的滑动，
所述第2线圈配设于所述第2聚焦透镜的外周，
所述第2驱动用磁体及所述第2磁轭设置有多个，多个各所述第2驱动用磁体及各所述第2磁轭在所述第1基准线上线对称地配设。
8.根据权利要求7所述的光学装置，其中，
所述第1驱动用磁体及所述第1磁轭、所述第2驱动用磁体及所述第2磁轭分别为4个，各所述磁体及各所述磁轭在所述第2基准线上线对称地配设。
9.根据权利要求8所述的光学装置，其中，
所述第1线圈及所述第2线圈在从所述光轴方向观察的状态下形成为六边形。
10.根据权利要求9所述的光学装置，其中，
构成所述第1音圈马达及所述第2音圈马达的所述第1驱动用磁体及所述第2驱动用磁体、所述第1磁轭及所述第2磁轭、所述第1线圈及所述第2线圈为相同形状。
11.根据权利要求10所述的光学装置，其中，
所述第1聚焦透镜及所述第2聚焦透镜沿光轴方向移动的移动量相等。
12.根据权利要求10所述的光学装置，其中，
所述第1聚焦透镜及所述第2聚焦透镜沿光轴方向移动的移动量相等，且重量相等。
13.一种摄像装置，其具有：
权利要求1至12中任一项所述的光学装置；及
成像元件，拍摄通过所述光学装置获得的所述被摄体像。
14.根据权利要求13所述的摄像装置，其中，
所述光学装置包含于具有相对于具有所述成像元件的相机主体装卸自如的连接器的可换镜头单元。
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