JP6789734B2 - 像ブレ補正装置、レンズ装置、および、撮像装置 - Google Patents

Description

本発明は、手振れなどに起因する像ブレを低減する像ブレ補正装置に関する。

従来から、光学系の全部または一部を光軸と直交する方向に移動することにより像ブレを低減する像ブレ補正装置が知られている。像ブレ補正装置は、大きな像ブレを補正するため、光学系を大きく移動させることが要求される。特許文献１には、像ブレ補正として、複数の補正レンズ群を用いてシフト補正およびチルト補正をそれぞれ行うことにより、光学性能を劣化させることなく大きな像ブレを補正するズームレンズが開示されている。

特開２０１５−１２５２４６号公報

特許文献１のズームレンズでは、状況に応じて、像ブレ補正を行う複数の補正レンズ群の距離が互いに小さくなる場合がある。通常、補正レンズでは、磁石とコイルとの電磁作用により駆動する、いわゆるＶＣＭが用いられる場合が多い。しかし、複数の補正レンズ群の距離が互いに小さくなると、一方の補正レンズ群を駆動する磁石からの漏れ磁束が、磁気干渉として他方の補正レンズ群に影響を与える。この結果、補正精度が低下する可能性がある。

そこで本発明は、複数の補正レンズ群の間における磁気干渉を低減して補正精度の低下を抑制する像ブレ補正装置、レンズ装置、および、撮像装置を提供する。

本発明の一側面としての像ブレ補正装置は、光軸と異なる方向に移動する第１光学素子と、第１着磁方向に着磁された第１磁石と第１コイルとを含み、電磁作用により前記第１光学素子を駆動する第１駆動部と、前記光軸と異なる方向に移動する、前記第１光学素子と異なる第２光学素子と、前記第１着磁方向と平行ではない第２着磁方向に着磁された第２磁石と第２コイルとを含み、電磁作用により前記第２光学素子を駆動する第２駆動部と、を有し、前記第１磁石は、前記第２磁石を前記第２着磁方向に投影した第２領域の外側に配置されており、前記第２磁石は、前記第１磁石を前記第１着磁方向に投影した第１領域の外側に配置されている。

本発明の他の側面としてのレンズ装置は、前記像ブレ補正装置を有する。

本発明の他の側面としての撮像装置は、前記レンズ装置を有する。

本発明の他の目的及び特徴は、以下の実施例において説明される。

本発明によれば、複数の補正レンズ群の間における磁気干渉を低減して補正精度の低下を抑制する像ブレ補正装置、レンズ装置、および、撮像装置を提供することができる。

本実施形態における撮像装置の断面図である。 本実施形態におけるレンズ鏡筒の断面図である。 本実施形態における像ブレ補正装置および遮光群の分解斜視図である。 本実施形態における像ブレ補正装置および遮光群の断面図である。 本実施形態における第１補正部の第１磁石と第２補正部の第２磁石との位置関係の説明図である。 本実施形態における像ブレ補正装置の動作を示すフローチャートである。 本実施形態における第１補正部の補正動作の説明図である。 本実施形態における第２補正部の補正動作の説明図である。 本実施形態における第１補正部の第１磁石と第２補正部の付勢部との位置関係の説明図である。 本実施形態における第１補正部の第１磁石および第１コイルと第２補正部の第２磁石との位置関係の説明図である。 本実施形態における第１磁石と第２磁石との位置関係の説明図である。 従来例における像ブレ補正装置の説明図である。 本実施形態と従来例における像ブレ補正装置の吸引力の比較図である。

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。

まず、図１を参照して、本実施形態における撮像装置の概略について説明する。図１は、撮像装置１の側面から見た断面図である。本実施形態において、撮像装置１は、カメラ本体２０（撮像装置本体）と、カメラ本体２０に着脱可能なレンズ鏡筒１０（交換レンズ、レンズ装置）とを備えて構成されている。ただし本実施形態は、これに限定されるものではなく、レンズ鏡筒１０とカメラ本体２０とが一体的に構成された撮像装置にも適用可能である。

光軸１０ａは、レンズ鏡筒１０の光学系（撮像光学系）の中心に相当する。カメラ本体２０に設けられた撮像部２１は、ＣＭＯＳセンサなどの撮像素子（光電変換部）を含み、レンズ鏡筒１０を介して形成された光学像（被写体像）を光電変換して電気信号（画像データ）を出力する。撮像部２１は、光軸１０ａを中心とした光束を撮影することが可能な位置に設けられている。本実施形態において、撮像部２１はカメラ本体２０に設けられているが、これに限定されるものではなく、撮像部２１をレンズ鏡筒１０に設けてもよい。操作部２２は、ユーザが撮影開始または終了を指示するスイッチである。ユーザは、カメラ本体２０に設けられた設定部（不図示）などを操作することにより、静止画や動画の撮影状態を切り換えることができる。またカメラ本体２０には、電力を供給する電源や撮影画像を記録する記憶部など（いずれも不図示）が設けられている。

撮像装置１は、レンズ鏡筒１０およびカメラ本体２０の各部を制御するＣＰＵ２５（カメラＣＰＵ、制御部）を有する。本実施形態において、ＣＰＵ２５は、振れ検出手段（不図示）などにより検出された振れを低減するように、後述の像ブレ補正装置１１の動作を制御する。なお、レンズ鏡筒１０が交換レンズである場合、レンズ鏡筒１０にもＣＰＵ（レンズＣＰＵ）を設けることができる。この場合、レンズ鏡筒１０のＣＰＵは、カメラ本体２０のＣＰＵ２５の指令に基づき、ＣＰＵ２５との通信を介して像ブレ補正装置１１の動作を制御する。

次に、図２を参照して、レンズ鏡筒１０の構成について詳述する。図２は、レンズ鏡筒１０の断面図である。レンズ鏡筒１０は、複数のレンズ群を有する。複数のレンズ群により、レンズ鏡筒１０の焦点距離が決定される。各レンズ群は、光軸１０ａに沿った方向（光軸方向）に進退することにより、焦点距離を変化させることができる。前群１５（前レンズ群）をカメラ本体２０から遠ざかる方向（物体側）に移動することにより、長焦点距離を実現することが可能である。特定の距離に存在する被写体の像を撮像部２１に結像させる合焦状態を保つため、フォーカス群１６が光軸方向に進退する。これにより、様々な距離にある被写体を撮像部２１上で結像することが可能となる。

像ブレ補正装置１１は、ユーザの手振れなどに起因する像ブレを防止または低減するため、所定のレンズ群（補正レンズ）を光軸１０ａと直交する方向に移動して光学的に像ブレを補正する。本実施形態において、像ブレ補正装置１１は、第１補正部１２と第２補正部１３とを備えて構成される。第１補正部１２と第２補正部１３の光軸方向における位置関係は、設定された焦点距離に応じて変化する。特に最も長焦点の状態に設定された場合、第１補正部１２と第２補正部１３との間の距離が最も小さくなる。なお、第１補正部１２および第２補正部１３の構成や動作に関する詳細については後述する。遮光群１４は、被写体からの光束を通過または遮光するように動作する。

次に、図３および図４を参照して、像ブレ補正装置１１（第１補正部１２、第２補正部１３）および遮光群１４について詳述する。図３は、像ブレ補正装置１１および遮光群１４の斜視分解図である。図４は像ブレ補正装置１１および遮光群１４の断面図であり、図４（ａ）〜（ｃ）は第１補正部１２、第２補正部１３、および、遮光群１４のそれぞれの光軸１０ａを通る断面図を示している。

まず、図３および図４（ａ）を参照して、第１補正部１２について説明する。１２１は、複数のレンズを含み、光軸１０ａと異なる方向（光軸１０ａと直交する方向）に移動して像ブレ補正を行う第１光学素子である。１２２は、樹脂などで成形され、第１光学素子１２１を保持する第１保持部である。また第１保持部１２２は、第１磁石１２４ｍを保持する。１２３は、樹脂などで成形される第１固定部であり、直線部を有する第１コイル１２４ｃを保持している。第１駆動部１２４は、第１磁石１２４ｍおよび第１コイル１２４ｃを備えて構成され、第１コイル１２４ｃへの通電で生じる電磁作用により第１磁石１２４ｍに駆動力が発生する。第１駆動部１２４の駆動力により、第１光学素子１２１が駆動される。

第１補正部１２は、２つの第１駆動部１２４を含む。２つの第１コイル１２４ｃの直線部は、互いに異なる方向を向いており、電磁作用によりそれぞれの直線部が互いに異なる方向に力を発生する。２つの第１駆動部１２４は、光軸方向に見た場合、光軸１０ａを中心として略９０°の角度をなすように配置される。そして、２つの第１駆動部１２４は互いに直交する方向に力を発生することができ、第１光学素子１２１を様々な方向へ移動することが可能となる。１２６は球形状の転動ボールであり、高硬度を要し、セラミックなどから構成される。転動ボール１２６は、第１保持部１２２および第１固定部１２３のそれぞれの、第１中心点１２１ｃを中心とする球面により狭持される。これにより、第１保持部１２２は、第１固定部１２３に対して、球面状に沿って移動することが可能となる。１２５は、コイル状の引っ張りばねを備えた付勢部である。付勢部１２５は、第１保持部１２２と第１固定部１２３との間を、転動ボール１２６を狭持するように付勢する。これにより、第１保持部１２２が浮くことなく移動することが可能となる。

１２７は、第１固定部１２３に設けられた第１磁気検出部である。第１磁気検出部１２７は、第１保持部１２２に設けられた検出磁石１２８の移動による磁界の変化を検出する。磁界の変化の検出により、第１保持部１２２の移動量に換算することができる。第１磁石１２４ｍの中心は、第１中心点１２１ｃから第１半径Ｒ１の距離に位置している。このため、第１磁石１２４ｍの中心は、光軸１０ａの上（光軸上）の第１中心点１２１ｃを持ち第１半径Ｒ１の球面に沿って矢印Ａ１の方向に移動する。第１磁石１２４ｍは２極着磁（磁化）されており、第１磁石１２４ｍの着磁方向（磁化方向）は第１磁石１２４ｍ（の中心）から第１中心点１２１ｃへ向かう第１着磁方向Ｂ１である。なお本実施形態において、第１半径Ｒ１は有限の値となるように設定されているが、第１半径Ｒ１が無限となる場合、第１磁石１２４ｍが光軸１０ａと直交して移動することとなる。また本実施形態において、２つの第１磁石１２４ｍのうち一方について説明したが、他方についても同様であるため、その説明については省略する。

続いて、図３および図４（ｂ）を参照して、第２補正部１３について説明する。１３１は、複数のレンズを含み、光軸１０ａと異なる方向（光軸１０ａと直交する方向）に移動して像ブレ補正を行う第２光学素子である。１３２は、樹脂などで成形され、第２光学素子１３１を保持する第２保持部である。また第２保持部１３２は、第２磁石１３４ｍを保持する。１３３は、樹脂などで成形される第２固定部であり、コイルホルダ１３８を介して、直線部を有する第２コイル１３４ｃを保持している。第２駆動部１３４は、第２磁石１３４ｍおよび第２コイル１３４ｃを備えて構成され、第２コイル１３４ｃへの通電で生じる電磁作用により第２磁石１３４ｍに駆動力が発生する。第２駆動部１３４の駆動力により、第２光学素子１３１が駆動される。

第２補正部１３は、２つの第２駆動部１３４を有する。２つの第２コイル１３４ｃの直線部は、互いに異なる方向を向いており、電磁作用により互いに異なる方向に力を発生する。２つの第２駆動部１３４は、光軸方向に見た場合、光軸１０ａを中心として略９０°の角度をなすように配置される。そして、２つの第２駆動部１３４は互いに直交する方向に力を発生することができ、第２光学素子１３１を様々な方向へ移動することが可能となる。１３６は球形状の転動ボールであり、高硬度を要し、セラミックなどから構成される。転動ボール１３６は、第２保持部１３２および第２固定部１３３のそれぞれの中心が同じとなる球面（第２中心点１３１ｃを中心とする球面）により狭持される。これにより、第２保持部１３２は、第２固定部１３３に対して、球面状に沿って移動することが可能となる。１３５は、コイル状の引っ張りばねを備えた付勢部である。付勢部１３５は、第２保持部１３２と第２固定部１３３との間を、転動ボール１３６を狭持するように付勢する。これにより、第２保持部１３２が浮くことなく移動することが可能となる。通常、付勢部１３５は金属材料を用いて構成されるが、磁性材料を用いてもよい。また付勢部１３５は、第２光学素子１３１の移動に応じて、その端部が移動する。

１３７は、第２固定部１３３に設けられた第２磁気検出部である。第２磁気検出部１３７は、第２保持部１３２に設けられた第２磁石１３４ｍの移動による磁界の変化を検出する。磁界の変化の検出により、第２保持部１３２の移動量に換算することができる。第２磁石１３４ｍの中心は、第２中心点１３１ｃから第２半径Ｒ２の距離に位置している。このため、第２磁石１３４ｍの中心は、光軸１０ａ上（光軸上）の第２中心点１３１ｃを持ち第２半径Ｒ２の球面に沿って矢印Ａ２の方向に移動する。第２磁石１３４ｍは２極着磁（磁化）されており、第２磁石１３４ｍの着磁方向（磁化方向）は第２磁石１３４ｍ（の中心）から第２中心点１３１ｃへ向かう第２着磁方向Ｂ２である。

続いて、図３および図４（ｃ）を参照して、遮光群１４について説明する。１４１は、薄いフィルム状に形成され、光軸１０ａと異なる方向（光軸１０ａと直交する方向）に移動して遮光を行う遮光部材である。遮光部材１４１は、回動することにより、被写体からの光束を通過させ、または、制限する（遮光する）ことができる。また遮光部材１４１は、撮影の際におけるシャッタとして用いることもできる。１４３は、固定部であり、遮光部材１４１を回動可能に保持している。１４２は駆動軸であり、第３磁石１４４ｍと同軸上に固定されている。駆動軸１４２が回転することにより、遮光部材１４１を回動することができる。

１４４ｙは、磁性材料からなるヨークである。ヨーク１４４ｙは、第３コイル１４４ｃの通電により発生する磁束を第３磁石１４４ｍの近傍まで伝達する。第３磁石１４４ｍと第３コイル１４４ｃとヨーク１４４ｙとにより、遮光部材１４１を駆動する第３駆動部１４４が構成される。第３磁石１４４ｍは、第３コイル１４４ｃへの通電で生じる電磁作用により駆動される。第３磁石１４４ｍは、光軸１０ａと直交する方向に着磁されている。このため第３磁石１４４ｍの着磁方向は、光軸１０ａと直交する矢印Ｂ３の方向である。

次に、図５を参照して、像ブレ補正装置１１における第１補正部１２の第１磁石１２４ｍと第２補正部１３の第２磁石１３４ｍとの位置関係について説明する。図５は、第１磁石１２４ｍと第２磁石１３４ｍとの位置関係の説明図である。図５（ａ）は、第１磁石１２４ｍの一つに関して第１着磁方向Ｂ１の方向から見た場合における、像ブレ補正装置１１の要部構成図である。図５（ｂ）は、第２磁石１３４ｍの一つに関して第２着磁方向Ｂ２の方向から見た場合における、像ブレ補正装置１１の要部構成図である。

２つの第１磁石１２４ｍはそれぞれ、第１着磁方向Ｂ１に着磁されているため、第１着磁方向Ｂ１への磁力の影響が大きい。図５（ａ）において、一方の第１磁石１２４ｍの外形をハッチングで示している。また図５（ａ）は、第１磁石１２４ｍの第１着磁方向Ｂ１から見た図であるため、ハッチング部を紙面の奥行き方向の領域において、磁力の影響が大きい。そこで本実施形態では、第１磁石１２４ｍの外形を第１着磁方向Ｂ１に投影した第１領域内（図５（ａ）中のハッチング部の範囲内）に、第２磁石１３４ｍが配置されていない。すなわち第２磁石１３４ｍは、第１磁石１２４ｍを第１着磁方向Ｂ１に投影した第１領域の外側（図５（ａ）中のハッチング部の範囲外）に配置されている。このため、第１磁石１２４ｍが第２磁石１３４ｍに対して及ぼし得る磁力の影響は小さい。

図５（ｂ）において、一方の第２磁石１３４ｍの外形をハッチングで示している。また図５（ｂ）は、第２磁石１３４ｍを第２着磁方向Ｂ２から見た図であるため、ハッチング部を紙面の奥行き方向の領域において、磁力の影響が大きい。そこで本実施形態では、第２磁石１３４ｍの外形を第２着磁方向Ｂ２に投影した第２領域内（図５（ｂ）中のハッチング部の範囲内）に、第１磁石１２４ｍが配置されていない。すなわち第１磁石１２４ｍは、第２磁石１３４ｍを第２着磁方向Ｂ２に投影した第２領域の外側（図５（ｂ）中のハッチング部の範囲外）に配置されている。このため、第２磁石１３４ｍが第１磁石１２４ｍに対して及ぼし得る磁力の影響は小さい。

このように本実施形態では、第１磁石１２４ｍおよび第２磁石１３４ｍは、互いの磁力の干渉（磁気干渉）を低減するように配置されている。このため、第１磁石１２４ｍと第２磁石１３４ｍとの間で発生する磁気干渉を低減し、補正精度の低下を防ぐ（または低減する）ことが可能となる。第１磁石１２４ｍおよび第２磁石１３４ｍはそれぞれ２つずつ配置されているが、前述の一方の磁石に関する説明は他方の磁石に関しても同様である。

次に、図１１を参照して、２つの第１磁石１２４ｍと２つの第２磁石１３４ｍとの位置関係について説明する。図１１は、光軸方向から第１補正部１２および第２補正部１３を見た場合における、２つの第１磁石１２４ｍと２つの第２磁石１３４ｍとの位置関係の説明図である。２つの第１磁石１２４ｍは、光軸１０ａを中心として互いに略９０°の角度をなすように配置されている。同様に、２つの第２磁石１３４ｍは、光軸１０ａを中心として互いに略９０°の角度をなすように配置されている。また、光軸方向から見て、第１磁石１２４ｍの一方は第２磁石１３４ｍに挟まれており、かつ第２磁石１３４ｍの一方は第１磁石１２４ｍに挟まれている。これにより、２つの第１磁石１２４ｍおよび２つの第２磁石１３４ｍを狭い領域に集めて配置することが可能となり、レンズ鏡筒１０内のスペースを有効に活用することができる。

次に、第２磁石１３４ｍと第３磁石１４４ｍとの位置関係について説明する。図４（ｂ）に示されるように、第２磁石１３４ｍは、光軸１０ａと直交する第２着磁方向Ｂ２に着磁されている。また、図４（ｃ）に示されるように、第３磁石１４４ｍは、光軸１０ａと直交する第３着磁方向Ｂ３に着磁されている。また、第２磁石１３４ｍを有する第２補正部１３と第３磁石１４４ｍを有する遮光群１４は、光軸１０ａに沿った方向（光軸方向）に並べて配置される。このため、第２磁石１３４ｍと第３磁石１４４ｍは、光軸方向に沿って互いにずれて配置されている。

このように、第２磁石１３４ｍの外形を第２着磁方向Ｂ２に投影した第２領域内（図５（ｂ）中のハッチング部の範囲内）に、第３磁石１４４ｍが配置されていない。すなわち第３磁石１４４ｍは、第２磁石１３４ｍを第２着磁方向Ｂ２に投影した第２領域の外側（図５（ｂ）中のハッチング部の範囲外）に配置されている。また、第３磁石１４４ｍの外形を第３着磁方向Ｂ３に投影した第３領域内に、第２磁石１３４ｍが配置されていない。すなわち第２磁石１３４ｍは、第３磁石１４４ｍを第３着磁方向Ｂ３に投影した第３領域の外側に配置されている。このように本実施形態では、第２磁石１３４ｍおよび第３磁石１４４ｍは、互いの磁力の干渉（磁気干渉）を低減するように配置されている。このため、第２磁石１３４ｍと第３磁石１４４ｍとの間で発生する磁気干渉を低減し、補正精度の低下を抑制することが可能となる。

図５（ｂ）は、第２磁石１３４ｍの着磁方向（第２着磁方向Ｂ２）から見た図であり、像ブレ補正装置１１の側面図に相当する。また図５（ｂ）は、像ブレ補正装置１１が像ブレ補正を実施していない非動作時の状態（像ブレ補正装置１１が動作していない状態）を示している。図５（ｂ）に示されるように、非動作時に光軸方向において、第１磁石１２４ｍ、第２磁石１３４ｍ、第１光学素子１２１、および、第２光学素子１３１の位置は、以下の関係を満たすように配置されることが好ましい。すなわち、第１磁石１２４ｍは、第１磁石１２４ｍと第２光学素子１３１（第２光学素子１３１の最も物体側の面）との間の最近接距離Ｃ１よりも、第１磁石１２４ｍと第２磁石１３４ｍとの間の最近接距離Ｃ２のほうが長くなるように配置される。また、第２磁石１３４ｍは、第１光学素子１２１（第１光学素子１２１の最も像側の面）と第２磁石１３４ｍとの間の最近接距離Ｃ３よりも、第１磁石１２４ｍと第２磁石１３４ｍとの間の最近接距離Ｃ２のほうが長くなるように配置される。これにより、第１補正部１２の第１光学素子１２１と第２補正部１３の第２光学素子１３１とを極力近づけることが可能となり、光学的な制約を少なくすることができる。また、第１磁石１２４ｍと第２磁石１３４ｍとの間で発生する磁気干渉を低減し、補正精度の低下を抑制することが可能となる。

次に、図９を参照して、第１補正部１２の第１磁石１２４ｍと第２補正部１３の付勢部１３５（磁性材料）との位置関係について説明する。図９は、第１磁石１２４ｍと付勢部１３５との位置関係の説明図であり、ハッチングされた第１磁石１２４ｍの着磁方向（第１着磁方向Ｂ１）から見た場合を示している。図９は、第１着磁方向Ｂ１から見た図であるため、ハッチング部を紙面の奥行き方向の領域において、磁力の影響が大きい。

そこで本実施形態では、第１磁石１２４ｍの外形を第１着磁方向Ｂ１に投影した領域内（図９中のハッチング部の範囲内）に、磁性材料からなる付勢部１３５が配置されていない。すなわち付勢部１３５は、第１磁石１２４ｍを第１着磁方向Ｂ１に投影した領域の外側（図９中のハッチング部の範囲外）に配置されている。このため、第１磁石１２４ｍが付勢部１３５に対して及ぼし得る磁力の影響は小さい。

次に、図１０を参照して、第１補正部１２の第１磁石１２４ｍおよび第１コイル１２４ｃと、第２補正部１３の第２磁石１３４ｍとの位置関係について説明する。図１０は、第１磁石１２４ｍ、第１コイル１２４ｃ、および、第２磁石１３４ｍの位置関係の説明図であり、第１補正部１２および第２補正部１３の光軸１０ａを通る断面図を示している。

第１磁石１２４ｍの中心Ｇ１と第２磁石１３４ｍの中心Ｇ３との間の距離Ｌ２は、第１コイル１２４ｃの中心Ｇ２と第２磁石１３４ｍの中心Ｇ３との間の距離Ｌ１よりも長い（Ｌ１＜Ｌ２）。このように第１磁石１２４ｍと第２磁石１３４ｍとの間の距離を大きくすることにより、第１磁石１２４ｍと第２磁石１３４ｍとの間の磁気干渉を低減することができる。

次に、図６を参照して、本実施形態における像ブレ補正装置１１の動作（像ブレ補正動作）について説明する。図６は、像ブレ補正装置１１の動作を示すフローチャートである。図６の各ステップは、撮像装置１のＣＰＵ２５の指令に基づいて実行される。

まず、ステップＳ１０１において、ＣＰＵ２５は、加速度計や角加速度計などの振れ検出手段を用いて、撮像装置１の振れを検出する。または、ＣＰＵ２５は、撮像部２１（撮像素子）からの出力信号（撮影画像データ）に基づいて被写体像の移動量（動きベクトル）を算出し、その移動量を振れ（像ブレ）として検出してもよい。

続いてステップＳ１０２において、ＣＰＵ２５は、ステップＳ１０２にて検出された振れに基づいて、像ブレが生じないようにする（像ブレを低減する）ために必要な像ブレ補正装置１１の目標位置を算出する。像ブレ補正装置１１は、第１補正部１２および第２補正部１３を有する。このためＣＰＵ２５は、第１補正部１２および第２補正部１３のそれぞれの目標位置を算出する。像ブレ補正の際に、ＣＰＵ２５は、後述するように、焦点距離に応じて第１補正部１２のみを動作させて第２補正部１３を動作させないように制御することもできる。

続いてステップＳ１０３において、ＣＰＵ２５は、第１補正部１２および第２補正部１３のそれぞれに駆動指示（制御信号）を出力し、第１光学素子１２１および第２光学素子１３１を移動することにより、像ブレ補正を行う。続いてステップＳ１０４において、ユーザの指示やＣＰＵ２５の指示に基づいて、像ブレ補正を継続するか否かを判定する。像ブレ補正を継続する場合、ステップＳ１０１に戻り、ステップＳ１０１〜Ｓ１０４を繰り返す。一方、像ブレ補正を継続しない場合、本フローを終了する。

次に、図７および図８を参照して、本実施形態における第１補正部１２および第２補正部１３の具体的な補正動作を説明する。図７は、第１補正部１２の補正動作の説明図である。図７（ａ）は第１補正部１２の動作により第１光学素子１２１が移動した状態の断面図、図７（ｂ）は第１補正部１２の動作による像（被写体像）の移動量をそれぞれ示している。図８は、第２補正部１３の補正動作の説明図である。図８（ａ）は第２補正部１３の動作により第２光学素子１３１が移動した状態の断面図、図８（ｂ）は第２補正部１３の動作による像（被写体像）の移動量をそれぞれ示している。

まず、図７を参照して、第１補正部１２の補正動作に関して説明する。図７（ａ）に示されるように、第１駆動部１２４の電磁作用により駆動力が発生し、第１磁石１２４ｍが第１磁石移動量Ｍ１だけ移動した場合を考える。第１磁石１２４ｍは、前述の第１半径Ｒ１の球面状に沿って移動するため、第１光学素子１２１は、光軸１０ａと直交する方向に並進移動（シフト）するとともに、回転移動（チルト）もしている。ただし、第１半径Ｒ１は、第１補正部１２の大きさよりも十分に大きいため、第１光学素子１２１はシフト主体の移動となる。このような補正動作により、図７（ｂ）に示されるように、被写体像は第１像移動量Ｄ１だけ移動する。

一般に、光学素子を大きくシフトさせると、通過する光束により形成される像において、光量の不足や、光学収差による劣化が発生する。第１補正部１２は、シフトと同時にチルトも行うことにより、光学収差による像の劣化を低減する。ただし、第１光学素子１２１のシフトが大きくなると、第１光学素子１２１のチルトでは、像の劣化を防止（または十分に低減）することができないことがある。このようにシフトが大きくなった場合、第１補正部１２の補正動作に加えて、第２補正部１３の補正動作を行うことにより、像の劣化を防止（十分に低減）することが可能となる。

続いて、図８を参照して、第２補正部１３の補正動作に関して説明する。図８（ａ）に示されるように、第２駆動部１３４の電磁作用により駆動力が発生し、第２磁石１３４ｍが第２磁石移動量Ｍ２だけ移動した場合を考える。第２磁石１３４ｍは、前述の第２半径Ｒ２の球面状に沿って移動するため、第２光学素子１３１は、回転移動（チルト）するとともに、光軸１０ａと直交する方向に並進移動（シフト）もしている。ただし、第２中心点１３１ｃは、第２補正部１３の内部に存在するため、第１半径Ｒ１と第２半径Ｒ２とは互いに異なる。第１半径Ｒ１と比べると、第２半径Ｒ２は小さいため、第２光学素子１３１はチルトが主体の移動となる。これにより、前述のとおり、第１補正部１２のシフトにより発生する光学収差を第２補正部１３のチルトにより補正することが可能となる。ただし、第２補正部１３は、微小なシフトの成分を有する。このため、第２補正部１３の補正動作により、図８（ｂ）に示されるように、被写体像は第２移動量Ｄ２だけ移動する。

図７および図８において、第１磁石移動量Ｍ１と第２磁石移動量Ｍ２とは互いに同じであるとして描かれている。この状態において、第１像移動量Ｄ１は、第２移動量Ｄ２よりも大きい。これは、前述のとおり、第１補正部１２がシフト主体の動作であり、第２補正部１３がチルト主体の動作であるためである。これは、第１補正部１２と第２補正部１３とを比較した場合、同じ移動量だけ磁石を移動したとしても、それぞれが像の移動に寄与する量が異なることを意味している。このように、第１補正部１２は、第１補正部１２の移動量が大きい場合、光学収差を補正する効果が大きい。したがって、レンズ鏡筒１０の焦点距離の変化により、第１補正部１２の第１光学素子１２１の移動量が小さくても補正可能な場合、第２補正部１３を動作させないことも可能である。

次に、図１２および図１３を参照して、本実施形態の効果について説明する。図１２は、従来例における像ブレ補正装置の説明図であり、ハッチングを施した第１磁石２２４ｍの一つについて、着磁方向から見た図である。第２磁石２３４ｍは、第１磁石２２４ｍの外径を着磁方向に投影した領域内（図１２中のハッチング部の範囲内）に存在しており、本実施形態の第１磁石１２４ｍと第２磁石１３４ｍとの位置関係とは異なる。

図１３は、本実施形態と従来例における像ブレ補正装置の吸引力の比較図であり、従来例の第１磁石２２４ｍと第２磁石２３４ｍとの間に作用する吸引力、および、本実施形態の第１磁石１２４ｍと第２磁石１３４ｍとの間に作用する吸引力をそれぞれ示している。図１３に示されるように、本実施形態では、従来例に比べて、吸引力が非常に小さくなっている。磁石間に作用する吸引力が大きい場合、それぞれの磁石を磁気作用により駆動する際に制御の阻害要因となりうる。したがって、磁石間の吸引力が小さい本実施形態では、制御の際の阻害要因が小さくなり、補正の精度劣化を抑制することができる。このため本実施形態によれば、複数の補正レンズ群の間における磁気干渉を低減して補正精度の低下を抑制する像ブレ補正装置、レンズ装置、および、撮像装置を提供することができる。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。

１１ 像ブレ補正装置
１２１ 第１光学素子
１２４ 第１駆動部
１２４ｃ 第１コイル
１２４ｍ 第１磁石
１３１ 第２光学素子
１３４ 第２駆動部
１３４ｃ 第２コイル
１３４ｍ 第２磁石

Claims (13)

1. 光軸と異なる方向に移動する第１光学素子と、
   第１着磁方向に着磁された第１磁石と第１コイルとを含み、電磁作用により前記第１光学素子を駆動する第１駆動部と、
   前記光軸と異なる方向に移動する、前記第１光学素子と異なる第２光学素子と、
   前記第１着磁方向と平行ではない第２着磁方向に着磁された第２磁石と第２コイルとを含み、電磁作用により前記第２光学素子を駆動する第２駆動部と、を有し、
   前記第１磁石は、前記第２磁石を前記第２着磁方向に投影した第２領域の外側に配置されており、
   前記第２磁石は、前記第１磁石を前記第１着磁方向に投影した第１領域の外側に配置されている、ことを特徴とする像ブレ補正装置。
2. 前記第１磁石は、前記第２領域の範囲内に配置されておらず、
   前記第２磁石は、前記第１領域の範囲内に配置されていないことを特徴とする請求項１に記載の像ブレ補正装置。
3. 前記第１駆動部は、前記第１磁石と前記第１コイルとの組み合わせを２つ有し、
   前記第２駆動部は、前記第２磁石と前記第２コイルとの組み合わせを２つ有し、
   光軸方向から見た場合、前記第１磁石の一方が２つの前記第２磁石に挟まれており、前記第２磁石の一方が２つの前記第１磁石に挟まれていることを特徴とする請求項１または２に記載の像ブレ補正装置。
4. 前記光軸方向から見た場合、前記２つの第１磁石は互いに９０°の角度をなして配置されており、前記２つの第２磁石は互いに９０°の角度をなして配置されていることを特徴とする請求項３に記載の像ブレ補正装置。
5. 前記第１磁石は、光軸上の第１中心点を中心とする第１半径の球面に沿って移動し、
   前記第２磁石は、前記光軸上の第２中心点を中心とする第２半径の球面に沿って移動し、
   第１半径と第２半径とは、互いに異なることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置。
6. 前記第１着磁方向は、前記第１磁石から前記第１中心点に向かう方向であり、
   前記第２着磁方向は、前記第２磁石から前記第２中心点に向かう方向であることを特徴とする請求項５に記載の像ブレ補正装置。
7. 光軸方向において、前記第１磁石と前記第２磁石との間の距離は、前記第１コイルと前記第２磁石との間の距離よりも長いことを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置。
8. 前記像ブレ補正装置が動作していない状態で、光軸方向において、前記第１磁石と前記第２磁石との間の最近接距離は、前記第１磁石と前記第２光学素子との間の最近接距離よりも長いことを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置。
9. 前記像ブレ補正装置が動作していない状態で、光軸方向において、前記第１磁石と前記第２磁石との間の最近接距離は、前記第１光学素子と前記第２磁石との間の最近接距離よりも長いことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置。
10. 前記第２光学素子の移動に応じて移動する磁性材料を更に有し、
    前記磁性材料は、前記第１領域の外側に配置されていることを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置。
11. 前記光軸と異なる方向に移動して遮光を行う遮光部材と、
    第３着磁方向に着磁された第３磁石と第３コイルとを含み、電磁作用により前記遮光部材を駆動する第３駆動部と、を更に有し、
    前記第２磁石は、前記第３磁石を前記第３着磁方向に投影した第３領域の外側に配置されており、
    前記第３磁石は、前記第２磁石を前記第２着磁方向に投影した第２領域の外側に配置されている、ことを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置。
12. 請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の像ブレ補正装置を有することを特徴とするレンズ装置。
13. 請求項１２に記載のレンズ装置を有することを特徴とする撮像装置。