CN109020559A - 一种遮光陶瓷制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种遮光陶瓷制备方法，所述第一步(1)中浆液通过搅拌机进行均匀搅拌，所述第二步(2)中的陶瓷模具为方形，圆形或其他形状，所述第四步(4)中喷砂所用的砂的颗粒大小为1‑3mm，本发明的有益效果是：该一种遮光陶瓷制备方法，解决了现有技术中薄陶瓷透光严重，影响使用的问题，同时本发明实施简单，适应各个区域。

Description

一种遮光陶瓷制备方法
技术领域
本发明涉及一种陶瓷制备方法领域，具体为一种遮光陶瓷制备方法。
背景技术
陶瓷材料具有强度大、硬度高、耐磨和耐腐蚀性好等优良的特性，被广泛的应用于各个领域，如刀具、表壳、模具、手机外壳和各种陶瓷结构件等。近年来，随着人们对装饰品要求的不断提高，陶瓷以其优异的机械性能、金属光泽及环境友好、无毒害无过敏等特点，成为高档装饰领域的新宠，但在较薄的陶瓷制品当中，一般白色陶瓷一旦厚度变薄，陶瓷的透光率则增加，影响了薄片状的陶瓷成品的白度及遮光度。
发明内容
本发明的目的在于提供一种遮光陶瓷制备方法，以解决上述背景技术中提出的问题。
本发明的目的是通过下述技术方案予以实现:一种遮光陶瓷制备方法，由如下步骤组成：
(1)第一步：配浆，选取适合的陶瓷原料进行浆料的配置；
(2)第二步：制胚，将(1)中配置好的浆料均匀的倒入到陶瓷模具内，并通过高压进行压制成型；
(3)第三步：烧制，将(2)中的陶瓷胚房放入800-1000摄氏度的烧制炉中烧制2-3小时；
(4)第四步：喷砂，将(3)烧制好的陶瓷胚一面进行粗砂喷砂处理；
(5)第五步：丝印，将(4)经过喷砂处理的陶瓷胚的一面通过丝印油墨进行处理；
(6)第六步：涂釉，将(5)丝印过后的陶瓷胚丝印面上涂上一层薄釉；
(7)第七步：回炉，将(6)涂过釉的陶瓷胚放入500-700摄氏度的炉
内，烧制0.5-1小时；
(8)第八步：冷却，将(7)回炉后的陶瓷胚取出放入冷却室内冷却，冷却温度从600摄氏度逐渐降低到30-50摄氏度，然后保温30分钟，即得遮光陶瓷；
(9)第九步：成品，将(8)冷却的遮光陶瓷放在放置架上0.5-1小时，即可装箱运输。
在本发明一个较佳的实施例中，所述第一步(1)中浆液通过搅拌机进行均匀搅拌。
在本发明一个较佳的实施例中，所述第二步(2)中的陶瓷模具为方形，圆形或其他形状。
在本发明一个较佳的实施例中，所述第四步(4)中喷砂所用的砂的颗粒大小为1-3mm。
本发明的有益效果是：该一种遮光陶瓷制备方法，解决了现有技术中薄陶瓷透光严重，影响使用的问题，同时本发明实施简单，适应各个区域。
具体实施方式
下面结合具体实施方式进一步的说明，但是下文中的具体实施方式不应当做被理解为对本体发明的限制。本领域普通技术人员能够在本发明基础上显而易见地作出的各种改变和变化，应该均在发明的范围之内。
本发明的实施例包括：
一种遮光陶瓷制备方法，由如下步骤组成：
(1)第一步：配浆，选取适合的陶瓷原料进行浆料的配置；
(2)第二步：制胚，将(1)中配置好的浆料均匀的倒入到陶瓷模具内，并通过高压进行压制成型；
(3)第三步：烧制，将(2)中的陶瓷胚房放入800-1000摄氏度的烧制炉中烧制2-3小时；
(4)第四步：喷砂，将(3)烧制好的陶瓷胚一面进行粗砂喷砂处理；
(5)第五步：丝印，将(4)经过喷砂处理的陶瓷胚的一面通过丝印油墨进行处理；
(6)第六步：涂釉，将(5)丝印过后的陶瓷胚丝印面上涂上一层薄釉；
(7)第七步：回炉，将(6)涂过釉的陶瓷胚放入500-700摄氏度的炉内，烧制0.5-1小时；
(8)第八步：冷却，将(7)回炉后的陶瓷胚取出放入冷却室内冷却，冷却温度从600摄氏度逐渐降低到30-50摄氏度，然后保温30分钟，即得遮光陶瓷；
(9)第九步：成品，将(8)冷却的遮光陶瓷放在放置架上0.5-1小时，即可装箱运输。
所述第一步(1)中浆液通过搅拌机进行均匀搅拌。
所述第二步(2)中的陶瓷模具为方形，圆形或其他形状。
所述第四步(4)中喷砂所用的砂的颗粒大小为1-3mm。
该一种遮光陶瓷制备方法，解决了现有技术中薄陶瓷透光严重，影响使用的问题，同时本发明实施简单，适应各个区域。
以上描述仅为本申请的较佳实施例以及对所运用技术原理的说明。本领域技术人员应当理解，本申请中所涉及的发明范围，并不限于上述技术特征的特定组合而成的技术方案，同时也应涵盖在不脱离所述发明构思的情况下，由上述技术特征或其等同特征进行任意组合而形成的其它技术方案。例如上述特征与本申请中公开的(但不限于)具有类似功能的技术特征进行互相替换而形成的技术方案。

Claims (4)

1.一种遮光陶瓷制备方法，其特征在于，由如下步骤组成：
(1)第一步：配浆，选取适合的陶瓷原料进行浆料的配置；
(2)第二步：制胚，将(1)中配置好的浆料均匀的倒入到陶瓷模具内，并通过高压进行压制成型；
(3)第三步：烧制，将(2)中的陶瓷胚房放入800-1000摄氏度的烧制炉中烧制2-3小时；
(4)第四步：喷砂，将(3)烧制好的陶瓷胚一面进行粗砂喷砂处理；
(5)第五步：丝印，将(4)经过喷砂处理的陶瓷胚的一面通过丝印油墨进行处理；
(6)第六步：涂釉，将(5)丝印过后的陶瓷胚丝印面上涂上一层薄釉；
(7)第七步：回炉，将(6)涂过釉的陶瓷胚放入500-700摄氏度的炉内，烧制0.5-1小时；
(8)第八步：冷却，将(7)回炉后的陶瓷胚取出放入冷却室内冷却，冷却温度从600摄氏度逐渐降低到30-50摄氏度，然后保温30分钟，即得遮光陶瓷；
(9)第九步：成品，将(8)冷却的遮光陶瓷放在放置架上0.5-1小时，即可装箱运输。
2.根据权利要求1所述的一种遮光陶瓷制备方法，其特征在于：所述第一步(1)中浆液通过搅拌机进行均匀搅拌。
3.根据权利要求1所述的一种遮光陶瓷制备方法，其特征在于：所述第二步(2)中的陶瓷模具为方形，圆形或其他形状。
4.根据权利要求1所述的一种遮光陶瓷制备方法，其特征在于：所述第四步(4)中喷砂所用的砂的颗粒大小为1-3mm。
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