CN108962526B - 水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，首先将重稀土金属粉或者重稀土化合物粉末利用3D打印技术打印到花纸上，然后花纸浸水30s，贴到表面经预处理的烧结钕铁硼薄片磁体上，然后擦掉水分进行烘干处理，使得烧结钕铁硼薄片磁体表面获得含重稀土元素的涂层，再在惰性气体环境下对烘干后的烧结钕铁硼薄片磁体进行扩散处理和时效处理。本发明的方法将水转印技术成功应用于晶界扩散技术，采用水转印技术在烧结钕铁硼薄片磁体表面得到分布均匀性及厚度一致性较高的涂层，可以实现晶界扩散技术在提高烧结钕铁硼薄片磁体磁性能时的产业化。
Description
技术领域
本发明涉及一种烧结钕铁硼薄片磁体处理方法，更具体地说，它涉及一种水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法。
背景技术
随着科技的显著进步和经济的快速发展，应用于科学研究、工业、家用电器和办公自动化等众多领域的烧结钕铁硼材料的需求量越来越大，高性能烧结钕铁硼材料在计算机、精密机床、检测器、测量仪表、汽车电机及各种永磁电机中都有着广泛的应用背景。同时，随着“低碳经济”的加速发展，烧结钕铁硼材料在风电、变频压缩机、混合动力等高端领域的推广速度和应用范围迅速扩大。我们将厚度大于等于0.1mm且小于等于15mm的烧结钕铁硼磁体称为烧结钕铁硼薄片磁体，烧结钕铁硼薄片磁体通常由大块烧结钕铁硼磁铁通过采用磨削等机械加工工艺获得。
采用磨削等机械加工工艺将大块烧结钕铁硼磁铁加工为烧结钕铁硼薄片磁体时，烧结钕铁硼薄片磁体的磁性能存在很大损失。据研究报道，晶界扩散技术可以修复烧结钕铁硼薄片磁体磁性能；另外，采用晶界扩散技术可以在几近不损失剩磁的前提下进一步大幅提高烧结钕铁硼磁体的矫顽力，是目前制备具有高矫顽力的高性能烧结钕铁硼薄片磁体的最具潜力的方法。现有的采用晶界扩散技术来提高烧结钕铁硼薄片磁体的方法主要是通过浸渍或涂抹工艺使重稀土金属粉末或重稀土化合物粉末均匀分散在无水或无水酒精中，形成的悬浊液附着在钕铁硼薄片磁体表面形成涂层，然后通过热处理来改善磁体晶界和主相结合部的组织结构与成分来提高烧结钕铁硼薄片磁体的矫顽力并保证剩磁不降低，由此提高其磁性能。涂层的分布均匀性及厚度一致性是晶界扩散技术提高钕铁硼磁体磁性能能实现产业化的关键技术之一。但是上述方法中，受到悬浊液中粉末的团聚及烧结钕铁硼薄片磁体表面粗糙度的影响，浸渍或涂抹后在烧结钕铁硼薄片磁体表面形成的涂层表面不平整，存在流坠和大点等现象，涂层分布均匀性较差；并且在对批量烧结钕铁硼薄片磁体进行浸渍和涂抹时，前后操作难以控制，各片烧结钕铁硼薄片磁体涂层厚度不一，热处理后各片烧结钕铁硼薄片磁体的磁性能一致性较差，以致晶界扩散技术在提高烧结钕铁硼薄片磁体磁性能时难以实现产业化。
水转印技术是利用水压将带彩色图案的转印纸/塑料膜进行高分子水解的一种印刷。随着人们对产品包装与装饰的要求的提高，水转印的用途越来越广泛。其间接印刷的原理及完美的印刷效果解决了许多产品表面装饰的难题，主要用于各类陶瓷，玻璃花纸等的转印。该技术环保高效创新，应用广泛。但将其用在磁性材料领域还未见报道。
发明内容
本发明的目的是提供一种将水转印技术成功应用于晶界扩散技术，采用水转印技术在烧结钕铁硼薄片磁体表面得到分布均匀性及厚度一致性较高的涂层，再采用晶界扩散技术提高烧结钕铁硼薄片磁体性能的方法，该方法可以实现晶界扩散技术在提高烧结钕铁硼薄片磁体磁性能的产业化应用。
为实现上述目的，通过以下技术手段实现：一种水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，首先将重稀土金属粉或者重稀土化合物粉末利用3D打印技术打印到花纸上，然后花纸浸水30s，贴到表面经预处理的烧结钕铁硼薄片磁体上，然后擦掉水分进行烘干处理，使得烧结钕铁硼薄片磁体表面获得含重稀土元素的涂层，再在惰性气体环境下对烘干后的烧结钕铁硼薄片磁体进行扩散处理和时效处理。
所述的重稀土金属粉末或者重稀土化合物粉末的粒度小于等于10微米，所述的重稀土金属为镝、铽和钬三种元素中的至少一种，所述的重稀土化合物为含镝、铽和钬三种元素中的至少一种的重稀土化合物。
所述的烘干处理是在50℃～200℃下保温0.5～1h。
所述的含重稀土元素的涂层的厚度为10～500μm。
所述的惰性气体环境中压力为10-4Pa～3×105Pa。
所述的惰性气体环境中压力为1×105Pa～3×105Pa。
所述的扩散处理的温度为700～1100℃，时间为1～20h；所述的时效处理的温度为450～600℃，时间为1～5h。
本发明与现有技术相比的优点在于：首先将重稀土金属粉或者重稀土化合物粉末利用3D打印技术打印到花纸上，然后花纸浸水30s，贴到表面经预处理的烧结钕铁硼薄片磁体上，经预处理过后，粘结有重稀土金属粉或重稀土化合物粉的花纸就能更好的贴在烧结钕铁硼薄片磁体上，然后擦掉水分进行烘干处理，使得烧结钕铁硼薄片磁体表面获得含重稀土元素的涂层，通过控制3D打印的工艺就可以控制图层的厚度，涂层与烧结钕铁硼薄片磁体之间形成一定附着力，再在惰性气体环境下对烘干后的烧结钕铁硼薄片磁体进行扩散处理和时效处理，在几近不损失剩磁的前提下提高磁片矫顽力，该涂层分布均匀性及厚度一致性较高，本发明的方法将水转印技术成功应用于晶界扩散技术，采用水转印技术在烧结钕铁硼薄片磁体表面得到分布均匀性及厚度一致性较高的涂层，可以实现晶界扩散技术在提高烧结钕铁硼薄片磁体磁性能时的产业化；
当重稀土金属粉末或重稀土化合物粉末的粒度≤10μm时，一方面有利于3D打印过程中更好的上料及打印，粉末在花纸上分布更均匀，另一方面有利于重稀土元素更易扩散进入钕铁硼磁体内。
当烘干处理过程是在50℃～200℃下保温0.5～1h时，可以很好的蒸发掉水分，得到干燥的固化涂层；
当惰性气体环境中压力为1×105Pa～3×105Pa时，重稀土元素的扩散系数增大，有利于重稀土元素扩散进入烧结钕铁硼薄片磁体内，更有效的提高钕铁硼磁体磁性能及重稀土元素的利用率；
当扩散处理的温度为700～1100℃，时间为1～20h；所述的时效处理的温度为450～600℃，时间为1～5h时，重稀土元素扩散进入钕铁硼磁体内并主要分布于晶界处，提高钕铁硼磁体磁性能及组织与成分均匀性。
具体实施方式
下面通过具体实施例对发明作进一步详述，以下实施例只是描述性的，不是限定性的本发明的保护范围。
实施例1
一种水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，包括如下步骤：
1)首先将粉末粒度为≤10微米的DyF3重稀土化合物粉末利用3D打印技术打印到花纸上；
2)然后将花纸浸水30s，贴到表面经预处理的烧结钕铁硼薄片磁体上得涂层，磁体表面预处理为首先使用Na3PO4、Na2CO3、NaOH、OP-10的混合溶液为基，并用甲酸调节pH，在70℃下超声波清洗2min以除油，然后使用硝酸、硫脲与十二烷基硫酸钠的混合物进行酸洗，然后去离子水超声清洗所得；
3)然后擦掉水分进行烘干处理，烘干处理过程是在80℃下保温1h，烘干处理后的烧结钕铁硼薄片磁体保存在惰性气体环境中；
4)烘干后的烧结钕铁硼薄片磁体在压力为1×10-4Pa的惰性气体环境下进行扩散处理和时效处理，扩散处理的温度为900℃，时间为6h；时效处理的温度为500℃，时间为4h。
本实施例中，烧结钕铁硼薄片磁体由由大块烧结钕铁硼磁体通过机械加工工艺(切割)获得其大小(长度×宽度×厚度)为12mm×12mm×3mm，大块烧结钕铁硼磁体采用钕铁硼加工领域中速凝片、氢破、气流磨、成型和烧结等工艺制备所得；烧结钕铁硼薄片磁体包含以下各组分：质量百分比为28.5％的Nd、质量百分比为1.0％的Dy、质量百分比为1.0％的B，余量为Fe及其他微量元素。
采用本实施例的方法制备图层厚度均为200μm的烧结钕铁硼薄片磁体200片，并随机选取其中的16个烧结钕铁硼薄片磁体分别标识为测试样1～16，称量水转印前后钕铁硼磁体重量，将水转印前的烧结钕铁硼薄片磁体标识为原始样，测试结果见表1。采用永磁材料测量B-H仪对本实施例的原始样和测试样1～16分别进行性能测试，测试结果见表2。
从表1数据我们可以看出不同钕铁硼磁片之间的涂层厚度均控制在195～205μm之间，粉体增加量在23～26mg之间。本实施例中，经过重稀土化合物DyF3在烧结钕铁硼磁体晶界扩散处理后，烧结钕铁硼薄片磁体在几近不损失剩磁的前提下，晶界扩散后磁体矫顽力显著提高，并且磁体磁性能一致性好(剩磁范围为13.81～13.88T，矫顽力为19.35～20.36kOe)。
表1实施例一中烧结钕铁硼薄片磁体水转印前后重量及对应涂层厚度
表2实施例一种烧结钕铁硼薄片磁体的磁性能测试结果
实施例2
一种水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，包括如下步骤：
1)首先将粉末粒度为≤10微米的DyF3重稀土化合物粉末利用3D打印技术打印到花纸上；
2)然后将花纸浸水30s，贴到表面经预处理的烧结钕铁硼薄片磁体上得涂层，磁体表面预处理同实施例一。
3)然后擦掉水分进行烘干处理，烘干处理过程是在120℃下保温1h，烘干处理后的烧结钕铁硼薄片磁体保存在惰性气体环境中；
4)烘干后的烧结钕铁硼薄片磁体在压力为1×10-3Pa的惰性气体环境下进行扩散处理和时效处理，扩散处理的温度为900℃，时间为4h；时效处理的温度为500℃，时间为4h。
本实施例中，烧结钕铁硼薄片磁体由由大块烧结钕铁硼磁体通过机械加工工艺(切割)获得其大小(长度×宽度×厚度)为20mm×20mm×1.8mm，大块烧结钕铁硼磁体采用钕铁硼加工领域中速凝片、氢破、气流磨、成型和烧结等工艺制备所得；烧结钕铁硼薄片磁体包含以下各组分：质量百分比为29.5％的Nd、质量百分比为0.1％的Dy、质量百分比为1.0％的B，余量为Fe及其他微量元素。
采用本实施例的方法制备图层厚度分别为20μm、50μm、100μm、200μm、300μm和500μm的6种烧结钕铁硼薄片，将上述烧结钕铁硼薄片磁体分别标识为测试样1～6，将水转印前的烧结钕铁硼薄片磁体标识为原始样。采用永磁材料测量B-H仪对本实施例的原始样和测试样1～6分别进行性能测试，具体测试数据如表3所示。
对本实施例的测试样1～6的涂层厚度进行检测，可以得到其对应的涂层厚度分别在19～22μm、48～51μm、100～102μm、200～204μm、296～305μm、478～484μm之间，由此可知采用本发明的方法所得的磁体表面重稀土化合物粉末分布均匀、厚度一致性较好。同时，通过改变3D打印中的用粉量，可以在烧结钕铁硼薄片磁体表面得到不同厚度的重稀土化合物涂层，经过后续烘干。扩散处理和时效处理工艺，可获得磁性能不同程度提升的烧结钕铁硼薄片磁体。本实施例中，经过重稀土化合物DyF3在烧结钕铁硼磁体晶界扩散处理后，烧结钕铁硼薄片磁体在几近不损失剩磁的前提下，晶界扩散后磁体矫顽力显著提高；不同厚度的重稀土化合物涂层的钕铁硼磁体晶界扩散后磁性能提升程度不同，随着涂层厚度增加，矫顽力增加。
表3实施例二中烧结钕铁硼薄片磁体的性能测试结果
实施例3
一种水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，包括如下步骤：
1)首先将粉末粒度为≤10微米的DyH3重稀土化合物粉末利用3D打印技术打印到花纸上；
2)然后将花纸浸水30s，贴到表面经预处理的烧结钕铁硼薄片磁体上得涂层，磁体表面预处理同实施例一。
3)然后擦掉水分进行烘干处理，烘干处理过程是在110℃下保温1h，烘干处理后的烧结钕铁硼薄片磁体保存在惰性气体环境中；
4)烘干后的烧结钕铁硼薄片磁体在压力为1×10-3Pa的惰性气体环境下进行扩散处理和时效处理，扩散处理的温度为1100℃，时间为4h；时效处理的温度为550℃，时间为4h。
采用本实施例的方法对大小(长度×宽度×厚度)为20mm×20mm×1mm、20mm×20mm×2mm、20mm×20mm×6mm、20mm×20mm×10mm和20mm×20mm×15mm的5种烧结钕铁硼薄片磁体进行处理，上述5种烧结钕铁硼薄片磁体分别标识为原始样1～5，原始样1～5由大块烧结钕铁硼磁体通过机械加工工艺(切割)获得，大块烧结钕铁硼磁体采用钕铁硼加工领域中速凝片、氢破、气流磨、成型和烧结等工艺制备所得；烧结钕铁硼薄片磁体包含以下各组分：质量百分比为29.5％的Nd、质量百分比为0.1％的Dy、质量百分比为1.0％的B，余量为Fe及其他微量元素。
采用本实施例的方法对原始样1～5进行处理后得到对应的测试样1～5，测试样1～5的涂层厚度为200μm。采用永磁材料测量B-H仪对本实施例的原始样1～5和测试样1～5分别进行性能测试，具体测试数据如表4所示。
对本实施例的测试样1～5的涂层进行检测，可以得到其对应的涂层厚度在194～204μm之间，由此可知采用本发明的方法所得的磁体表面重稀土化合物粉末分布均匀、厚度一致性较好。分析表4可知，未经过水转印处理的不同厚度尺寸规格的烧结钕铁硼薄片磁体(原始样1～5)磁性能测试结果几乎相同，而通过本实施例的方法在表面水转印重稀土化合物DyH3粉末后烘干、扩散和时效处理后的烧结钕铁硼薄片磁体(测试样1～5)，矫顽力均有不同程度的提高。随着原始样1～5厚度的增加，矫顽力提升程度减小。
表4实施例三烧结钕铁硼薄片磁体的性能测试结果
实施例4
一种水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，包括如下步骤：
1)首先将粉末粒度为≤10微米的DyH3重稀土化合物粉末利用3D打印技术打印到花纸上；
2)然后将花纸浸水30s，贴到表面经预处理的烧结钕铁硼薄片磁体上得涂层，磁体表面预处理同实施例一。
3)然后擦掉水分进行烘干处理，烘干处理过程是在90℃下保温1h，烘干处理后的烧结钕铁硼薄片磁体保存在惰性气体环境中；
4)烘干后的烧结钕铁硼薄片磁体在惰性气体环境下进行扩散处理和时效处理，扩散处理的温度为800℃，时间为10h；时效处理的温度为560℃，时间为4h。
本实施例中，烧结钕铁硼薄片磁体由由大块烧结钕铁硼磁体通过机械加工工艺(切割)获得其大小(长度×宽度×厚度)为20mm×20mm×2mm，大块烧结钕铁硼磁体采用钕铁硼加工领域中速凝片、氢破、气流磨、成型和烧结等工艺制备所得；烧结钕铁硼薄片磁体包含以下各组分：质量百分比为29.5％的Nd、质量百分比为0.1％的Dy、质量百分比为1.0％的B，余量为Fe及其他微量元素。
将本实施例中水转印处理前的烧结钕铁硼薄片磁体标识为原始样，选取7个原始样分别采用本实施例的方法进行处理，得到对应的测试样1～7，测试样1～7的区别在于扩散处理和时效处理的惰性气体气压不同，惰性气体为高纯氩气且压力分别为2×10-4Pa、1×10-2Pa、100Pa、1×104Pa、1.5×105Pa、2×105Pa和3×105Pa。采用永磁材料测量B-H仪对本实施例的原始样和测试样1～7分别进行性能测试，具体测试数据如表5所示。
表5实施例四烧结钕铁硼薄片磁体的性能测试结果
对本实施例的测试样1～7的涂层厚度进行检测，可以得到其对应的涂层厚度在197～205μm之间，由此可知采用本发明的方法所得的磁体表面重稀土化合物粉末分布均匀，厚度一致性好。试验了扩散环境对烧结钕铁硼薄片磁体晶界扩散效果的影响，由表5可知，经过重稀土化合物DyH3晶界扩散后，烧结钕铁硼薄片磁体综合磁性能得到较好提升，扩散环境气压大小影响烧结钕铁硼薄片磁体晶界扩散效果，随着压力的增大，磁体Hcj增大。由扩散理论分析可知，随着气压的增大，重稀土元素的扩散系数增大，有利于重稀土元素扩散进入烧结钕铁硼薄片磁体内。本发明的优势之一在于将附着有重稀土元素涂层的钕铁硼磁体在1×105Pa～2×105Pa的惰性环境的正压环境下进行热处理，有利于重稀土元素扩散进入烧结钕铁硼薄片磁体内，更有效的提高钕铁硼磁体磁性能。
实施例5
一种水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，包括如下步骤：
1)首先将粉末粒度为≤10微米的Dy2O3重稀土化合物粉末利用3D打印技术打印到花纸上；
2)然后将花纸浸水30s，贴到表面经预处理的烧结钕铁硼薄片磁体上得涂层，磁体表面预处理同实施例一。
3)然后擦掉水分进行烘干处理，烘干处理过程是在2000℃下保温1h，烘干处理后的烧结钕铁硼薄片磁体保存在惰性气体环境中；
4)烘干后的烧结钕铁硼薄片磁体在惰性气体环境下进行扩散处理和时效处理，扩散处理的温度为750℃，时间为2h；时效处理的温度为480℃，时间为2h。
本实施例中，烧结钕铁硼薄片磁体由由大块烧结钕铁硼磁体通过机械加工工艺(切割)获得其大小(长度×宽度×厚度)为20mm×20mm×4mm，大块烧结钕铁硼磁体采用钕铁硼加工领域中速凝片、氢破、气流磨、成型和烧结等工艺制备所得；烧结钕铁硼薄片磁体包含以下各组分：质量百分比为29.5％的Nd、质量百分比为0.1％的Dy、质量百分比为1.0％的B，余量为Fe及其他微量元素。
实施例六
本实施例与实施例五基本相同，区别仅在于本实施例中扩散处理的温度为900℃，时间为4h；时效处理的温度为500℃，时间为4h。
实施例七
本实施例与实施例五基本相同，区别仅在于本实施例中扩散处理的温度为1050℃，时间为2h；时效处理的温度为550℃，时间为5h。
实施例八
本实施例与实施例五基本相同，区别仅在于本实施例中3D打印用的是重稀土金属粉末，重稀土金属为Dy，扩散处理的温度为900℃，时间为4h；时效处理的温度为500℃，时间为4h。
实施例九
本实施例与实施例五基本相同，区别仅在于本实施例中重稀土化合物为TbH3，扩散处理的温度为900℃，时间为4h；时效处理的温度为500℃，时间为4h。
实施例十
本实施例与实施例五基本相同，区别仅在于本实施例中重稀土化合物为TbF3，扩散处理的温度为900℃，时间为4h；时效处理的温度为500℃，时间为4h。
实施例十一
本实施例与实施例五基本相同，区别仅在于本实施例中3D打印用的是重稀土金属粉末，重稀土金属为Ho，扩散处理的温度为900℃，时间为4h；时效处理的温度为500℃，时间为4h。
通过调节重稀土金属或化合物的3D打印工艺，控制实施例五～十一中各种重稀土金属或化合物粉体涂层厚度均为200μm。涂层厚度测试结果显示实施例五～十一中涂层厚度均在191～208μm之间，分布均匀、厚度一致性较好。将实施例五～十一中未水转印前的烧结钕铁硼薄片磁体标识为原始样，采用永磁材料测量B-H仪分别对实施例五～十一得到的烧结钕铁硼薄片磁体进行测试，测试数据如表6所示。
表6实施例五～十一烧结钕铁硼磁体的性能测试结果
由表6可知，不同的重稀土金属粉末或重稀土化合物粉末对相同规格烧结钕铁硼薄片磁体晶界扩散后磁性能影响程度不同。在相同厚度和扩散工艺条件下，不同的重稀土化合物粉末对相同规格烧结钕铁硼薄片磁体晶界扩散后Hcj提升效果为：TbF3>TbH3>DyF3>Dy2O3；重稀土金属粉末直接以原子形式扩散至钕铁硼磁体内，相比重稀土化合物粉末的形式更利于扩散，磁性能提升效果更佳。
从上述所有实施例中我们可以知道，本发明的方法可以在烧结钕铁硼磁体表面形成分布均匀性及厚度一致性较高的涂层，大大提高了烧结钕铁硼薄片磁体的磁性能，使水转印技术成功的应用于晶界扩散技术，可以实现晶界扩散技术在提高烧结钕铁硼薄片磁体磁性能方面的产业化。同时，通过调节3D打印工艺参数，可在烧结钕铁硼薄片磁体表面得到不同厚度的重稀土元素涂层，经过后续烘干、扩散处理和时效处理工艺，获得磁性能不同程度提升的烧结钕铁硼薄片磁体。当扩散气氛为惰性气体的正压环境时，重稀土元素的扩散系数增大，有利于重稀土元素扩散进入烧结钕铁硼薄片磁体内，更有效的提高钕铁硼磁体磁性能及重稀土元素利用率。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，本发明的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本发明思路下的技术方案均属于本发明的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理前提下的若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。
Claims (7)
1.一种水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，其特征在于，首先将重稀土金属粉或者重稀土化合物粉末利用3D打印技术打印到花纸上，然后花纸浸水30s，贴到表面经预处理的烧结钕铁硼薄片磁体上，然后擦掉水分进行烘干处理，使得烧结钕铁硼薄片磁体表面获得含重稀土元素的涂层，再在惰性气体环境下对烘干后的烧结钕铁硼薄片磁体进行扩散处理和时效处理；所述高性能烧结钕铁硼薄片磁体的厚度大于等于0.1mm且小于等于15mm。
2.根据权利要求1所述的水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，其特征在于，所述的重稀土金属粉末或者重稀土化合物粉末的粒度小于等于10微米，所述的重稀土金属为镝、铽和钬三种元素中的至少一种，所述的重稀土化合物为含镝、铽和钬三种元素中的至少一种的重稀土化合物。
3.根据权利要求1所述的水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，其特征在于，所述的烘干处理是在50℃~200℃下保温0.5~1h。
4.根据权利要求1所述的水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，其特征在于，所述的含重稀土元素的涂层的厚度为10~500μm。
5.根据权利要求1所述的水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，其特征在于，所述的惰性气体环境中压力为10-4Pa~3×105Pa。
6.根据权利要求5所述的水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，其特征在于，所述的惰性气体环境中压力为1×105Pa~3×105Pa。
7.根据权利要求1所述的水转印制备高性能烧结钕铁硼薄片磁体的方法，其特征在于，所述的扩散处理的温度为700~1100℃，时间为1~20h；所述的时效处理的温度为450~600℃，时间为1~5h。
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