CN108919527A - 一种便捷式量测框胶宽度的基板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种便捷式量测框胶宽度的基板，在该基板上定义出用于框胶涂布的框胶涂布区，并在框胶涂布区上设有用于量测框胶宽度的量测标记。实施本发明，通过在基板上设置量测标记来量测框胶宽度，用以提高框胶宽度量测的便捷性、准确性以及操作灵活性。

Description

一种便捷式量测框胶宽度的基板及显示装置

技术领域

本发明涉及显示装置技术领域，尤其涉及一种便捷式量测框胶宽度的基板及显示装置。

背景技术

液晶显示装置通常由彩膜基板、阵列基板以及填充在彩膜基板和阵列基板之间的液晶和框胶组成。框胶涂覆在彩膜基板或阵列基板上，并靠近彩膜基板和阵列基板的四周边缘分布，通过框胶固化将彩膜基板和阵列基板结合在一起形成液晶盒，能够保持彩膜基板和阵列基板之间的盒厚，实现液晶盒的密封，用以切断液晶分子与外界的接触并隔绝外界水气的进入。

框胶的宽度十分重要，在ODF（One Drop Filling，滴下式注入法）液晶注入制程中，若框胶宽度过粗，则会污染液晶或因压到切割线会造成后续切割制程出现不良，而若框胶宽度过细，则会使得框胶的坚固性和密封性都会降低，易出现液晶泄露造成产品报废的现象，因此需要对框胶宽度进行量测监控。在TFT-LCD 工艺中，通常在阵列基板和彩膜基板组立后，对框胶宽度进行量测监控。

目前，对框胶宽度的量测由特定机台（如MAI机台）完成，其具体实现方式主要有两种：（1）利用CCD相机对产品角落位置的框胶区进行拍照，然后调出该特定机台内置的刻度标尺对所拍的照片进行刻度比对量测（如图1所示）；（2）利用CCD相机对产品角落位置的框胶区拍照进行灰度识别抓取边缘来实现距离量测（如图2所示）。

但是，发明人发现，以上两种方法存在诸多不足，其不足之处在于：在第一种方法中，需要培训及认证人员方可上岗操作量测系统，且操作步骤复杂费时，影响测定周期，同时还受限于特定机台内置的量测系统精度（如标尺刻度，CCD分辨率，人为误差等等）；在第二种方法中，不仅存在第一种方法的弊端，还会经常出现因识别框胶边缘错误导致误检，造成数据不准确等问题。

因此，有必要提高框胶宽度量测的便捷性、准确性以及操作灵活性。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种便捷式量测框胶宽度的基板及显示装置，通过在基板上设置量测标记来量测框胶宽度，用以提高框胶宽度量测的便捷性、准确性以及操作灵活性。

为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种便捷式量测框胶宽度的基板，在所述基板上定义出用于框胶涂布的框胶涂布区，并在所述框胶涂布区上设有用于量测框胶宽度的量测标记。

其中，所述量测标记分布在所述框胶涂布区的每一侧，并在所述框胶涂布区的每一侧宽度方向上均用同一刻度为单位进行均匀划分。

其中，所述量测标记所采用的制作材料包括金属、氮化硅、氧化硅或氮氧化硅。

其中，所述基板为TFT阵列基板或彩膜基板。

其中，所述基板为TFT阵列基板时，所述量测标记通过图案化金属而获得，且所述量测标记与TFT阵列基板中的栅极设置在同一层上。

其中，所述基板为TFT阵列基板时，所述量测标记通过图案化氮化硅、氧化硅、氮氧化硅之中一种而获得，且所述量测标记与TFT阵列基板中的栅极绝缘层设置在同一层上。

其中，所述量测标记的单位刻度与其对应分布在所述框胶涂布区一侧上的边缘线相平行。

其中，所述量测标记分布在所述框胶涂布区的每一侧的中间位置时，所述量测标记的单位刻度均设置为直线。

其中，所述量测标记分布在所述框胶涂布区的相邻两侧连接的拐角处时，所述量测标记的单位刻度均设置为弧线。

本发明实施例还提供了一种显示装置，包括前述的便捷式量测框胶宽度的基板。

实施本发明实施例，具有如下有益效果：本发明在框胶涂布区上设有用于量测框胶宽度的量测标记，使得框胶涂布时直接通过基板的量测标记来准确反映框胶涂布的宽度，不需依赖特定设备（如MAI机台）量测，任意架设CCD均可实现量测功能，避免因特定设备（如MAI机台）量测精度所带来的误差问题，不仅节省了人员手动量测时间，缩短了量测周期，提高了框胶宽度量测的便捷性及操作灵活性，而且因框胶与量测标记位置固定而不受外因干扰，从而提升了框胶宽度量测的准确性。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，根据这些附图获得其他的附图仍属于本发明的范畴。

图1为现有技术中通过特定机台内置的刻度标尺对框胶宽度进行量测的局部结构示意图；

图2为现有技术中对产品角落位置的框胶区拍照进行灰度识别抓取边缘来实现距离量测的局部结构示意图；

图3为本发明实施例一提供的一种便捷式量测框胶宽度的基板的平面结构示意图；

图4为本发明实施例一提供的一种便捷式量测框胶宽度的基板的一局部平面放大图；

图5为本发明实施例一提供的一种便捷式量测框胶宽度的基板为一TFT阵列基板时的局部剖视图；

图6为本发明实施例一提供的一种便捷式量测框胶宽度的基板为另一TFT阵列基板时的局部剖视图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述。

如图3和图4所示，为本发明实施例一中，提供的一种便捷式量测框胶宽度的基板，包括显示区AA和非显示区BB。在该基板1上定义出用于框胶涂布的框胶涂布区2，并在框胶涂布区2上设有用于量测框胶宽度的量测标记3；其中，框胶涂布区2位于该基板的非显示区BB中。

可以理解的是，为了便于清楚及快速的确定出框胶宽度，可以对量测标记3进行赋值。例如，在量测标记3上间隔一定距离设置相应的刻度值，只要读取框胶两边对应位于量测标记3的刻度值，就可以准确的得到框胶宽度。

在本发明实施例一中，框胶涂布区2涂布框胶时，可以控制框胶的宽度在量测标记3的适应范围内，即通过框胶对应在量测标记3两边的刻度值相减得出框胶的宽度，用以避免框胶宽度过粗或过细所带来的麻烦。因此，可以通过量测标记3实时量测到框胶涂布的宽度，不需依赖设备（如MAI机台）量测，避免因设备量测精度（如标尺刻度，CCD分辨率，人为误差等等）所带来的误差问题，节省了人员手动量测时间，缩短了量测周期，提高了框胶宽度量测的便捷性、准确性以及操作灵活性。

应当说明的是，框胶涂布区2为了实现液晶盒的密封，会沿基板1的四周边缘分布。

在本发明实施例一中，为了确保框胶涂布区2四周涂布的框胶宽度满足设计要求，便于随时掌握框胶涂布区2上每一侧胶框涂布的宽度，就需要将量测标记3分布在框胶涂布区2的每一侧；同时，为了更进一步精确的掌握每一侧框胶涂布的宽度变化，因此有必要将量测标记3在框胶涂布区2的每一侧宽度方向上均用同一刻度为单位进行均匀划分。应当说明的是，量测标记3的单位刻度的形状包括但不限于划线、圆点、三角等，且量测标记3所采用的制作材料包括但不限于金属、氮化硅、氧化硅、氮氧化硅等。

在本发明实施例一中，为了量测准确性及观察便捷性的需要，会将量测标记3的单位刻度设置为与其对应分布在框胶涂布区2一侧上的边缘线相平行。例如，量测标记3分布在框胶涂布区2的每一侧的中间位置时，因框胶涂布区2的侧边缘线都为直线，因此量测标记3的单位刻度也都设置为直线。又如，量测标记3分布在框胶涂布区2的相邻两侧连接的拐角处时，因框胶涂布区2的相邻两侧连接的拐角处的连接线为弧线，因此量测标记3的单位刻度也均设置为弧线。当然，框胶涂布区2的相邻两侧连接的拐角处的连接线还有其它多种形状，而量测标记3的单位刻度也相应的设置为与对应拐角处的连接线具有相同形状的线条，在此不再一一列举。

在本发明实施例一中，由于胶框可以设置在TFT阵列基板上，也可以设置在彩膜基板上，因此该基板1可以为TFT阵列基板，也可以为彩膜基板。

由于量测标记3所采用的制作材质不同，因此量测标记3在制作过程中所位于基板1的位置也不同。以TFT阵列基板为例，对量测标记3设置的位置进行进一步说明，具体如下：

例如，如图5所示，基板1采用TFT阵列基板，该量测标记3通过图案化金属而获得，且该量测标记3与TFT阵列基板中的栅极设置在同一层上。

带有该量测标记3的TFT阵列基板的具体制备过程为，提供一衬底基板10，在衬底基板上10分别定义出显示区AA和非显示区BB，并进一步在非显示区BB中定义出框胶涂布区2；

通过物理气相沉积法PVD在衬底基板10的上表面溅镀一层金属形成第一金属层，且进一步在第一金属层上涂抹一层光刻胶后，采用透明光罩（该光罩具有量测标记图案、网格图案和栅极图案，其中，栅极图案对应显示区AA，量测标记图案和网格图案对应框胶涂布区2）进行曝光，使得第一金属层的光刻胶图形化为所需的光阻图案；采用干法蚀刻制程（如采用刻蚀气体SF6、Cl2、CF4、Ar和NF3等）对第一金属层上对应光阻图案中未被光刻胶覆盖的区域进行蚀刻，使得第一金属层形成有均位于非显示区BB中框胶涂布区2的量测标记3和金属网格T以及位于显示区AA的栅极11。应当说明的是，金属网格T用于增加框胶黏着力，支撑盒厚等，并且金属网格T相邻之间预留有一定间隙，用以确保UV光穿过而实现对胶框的固化处理；

然后，依序在显示区AA的栅极11上采用常用的方式制备出栅极绝缘层12、有源层13、第二金属层14（即源漏极）、平坦层15及像素电极16后，得到TFT阵列基板，栅极绝缘层12、有源层13、第二金属层14（即源漏极）、平坦层15及像素电极16的制备过程在此不再一一赘述。

又如，如图6所示，基板为TFT阵列基板时，该量测标记3通过图案化氮化硅、氧化硅、氮氧化硅之中一种而获得，且该量测标记3与TFT阵列基板中的栅极绝缘层设置在同一层上。应当说明的时，TFT阵列基板中的栅极绝缘层为单层结构时，其所采用的制作材质与量测标记3的制作材质相同；或TFT阵列基板中的栅极绝缘层为叠层结构时，其所采用的材质包括量测标记3的制作材质。

带有该量测标记3的TFT阵列基板的具体制备过程为，提供一衬底基板10，在衬底基板10上分别定义出显示区AA和非显示区BB，并进一步在非显示区BB中定义出框胶涂布区2；

通过物理气相沉积法PVD在衬底基板10的上表面溅镀一层金属形成第一金属层，且进一步在第一金属层上涂抹一层光刻胶后，采用一透明光罩（该光罩具有栅极图案和网格图案，其中，栅极图案对应显示区AA，网格图案对应框胶涂布区2）进行曝光，使得第一金属层的光刻胶图形化为所需的光阻图案；采用干法蚀刻制程（如采用刻蚀气体SF6、Cl2、CF4、Ar和NF3等）对第一金属层上对应光阻图案中未被光刻胶覆盖的区域进行蚀刻，得到位于显示区AA的栅极11和位于非显示区BB中框胶涂布区2的金属网格T。应当说明的是，金属网格T用于增加框胶黏着力，支撑盒厚等，并且金属网格T相邻之间预留有一定间隙，用以确保UV光穿过而实现对胶框的固化处理；

通过化学气相沉积法CVD在栅极11和金属网格T上覆盖有一层氮化硅、氧化硅、氮氧化硅之中其一形成绝缘层，且进一步在绝缘层上涂抹一层光刻胶后，采用另一透明光罩（该光罩具有量测标记图案，且该量测标记图案对应框胶涂布区）进行曝光，使得绝缘层的光刻胶图形化为所需的光阻图案；采用干法蚀刻制程（如采用刻蚀气体SF6、Cl2、CF4、Ar和NF3等）对绝缘层上对应光阻图案中未被光刻胶覆盖的区域进行蚀刻，得到位于非显示区BB中框胶涂布区2的量测标记3以及位于显示区AA的栅极绝缘层12；

然后，依序在位于显示区AA的栅极绝缘层12上采用常用的方式制备出有源层13、第二金属层14（即源漏极）、平坦层15及像素电极16后，得到TFT阵列基板，有源层13、第二金属层14（即源漏极）、平坦层15及像素电极16的制备过程在此不再一一赘述。

相应于本发明实施例一中的便捷式量测框胶宽度的基板，本发明实施例二还提供了一种显示装置，包括本发明实施例一中的便捷式量测框胶宽度的基板。由于 本发明实施例二中的便捷式量测框胶宽度的基板与本发明实施例一中的便捷式量测框胶宽度的基板具有相同的结构及连接关系，具体请参见本发明实施例一中的便捷式量测框胶宽度的基板的相关内容，在此不再一一赘述。

实施本发明实施例，具有如下有益效果：本发明在框胶涂布区上设有用于量测框胶宽度的量测标记，使得框胶涂布时直接通过基板的量测标记来准确反映框胶涂布的宽度，不需依赖特定设备（如MAI机台）量测，任意架设CCD均可实现量测功能，避免因特定设备（如MAI机台）量测精度所带来的误差问题，不仅节省了人员手动量测时间，缩短了量测周期，提高了框胶宽度量测的便捷性及操作灵活性，而且因框胶与量测标记位置固定而不受外因干扰，从而提升了框胶宽度量测的准确性。

以上所揭露的仅为本发明一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种便捷式量测框胶宽度的基板，其特征在于，在所述基板上定义出用于框胶涂布的框胶涂布区，并在所述框胶涂布区上设有用于量测框胶宽度的量测标记。

2.如权利要求1所述的便捷式量测框胶宽度的基板，其特征在于，所述量测标记分布在所述框胶涂布区的每一侧，并在所述框胶涂布区的每一侧宽度方向上均用同一刻度为单位进行均匀划分。

3.如权利要求2所述的便捷式量测框胶宽度的基板，其特征在于，所述量测标记所采用的制作材料包括金属、氮化硅、氧化硅、或氮氧化硅。

4.如权利要求3所述的便捷式量测框胶宽度的基板，其特征在于，所述基板为TFT阵列基板或彩膜基板。

5.如权利要求4所述的便捷式量测框胶宽度的基板，其特征在于，所述基板为TFT阵列基板时，所述量测标记通过图案化金属而获得，且所述量测标记与TFT阵列基板中的栅极设置在同一层上。

6.如权利要求4所述的便捷式量测框胶宽度的基板，其特征在于，所述基板为TFT阵列基板时，所述量测标记通过图案化氮化硅、氧化硅、氮氧化硅之中一种而获得，且所述量测标记与TFT阵列基板中的栅极绝缘层设置在同一层上。

7.如权利要求5或6所述的便捷式量测框胶宽度的基板，其特征在于，所述量测标记的单位刻度与其对应分布在所述框胶涂布区一侧上的边缘线相平行。

8.如权利要求7所述的便捷式量测框胶宽度的基板，其特征在于，所述量测标记分布在所述框胶涂布区的每一侧的中间位置时，所述量测标记的单位刻度均设置为直线。

9.如权利要求7所述的便捷式量测框胶宽度的基板，其特征在于，所述量测标记分布在所述框胶涂布区的相邻两侧连接的拐角处时，所述量测标记的单位刻度均设置为弧线。

10.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的便捷式量测框胶宽度的基板。