CN108897450A - 触控面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种触控面板及其制作方法、显示装置，所述触控面板包括：具有图形化表面的基板；形成于所述图形化表面上的纳米银线层。因所述基板具有图形化表面，则所述纳米金属层与所述基板相结合时，相当于增加了所述纳米金属层与所述基板的接触面积，从而能够增加所述纳米金属层与所述基板之间的粘附力，可以提高所述触控面板的灵敏度和导电性，将所述触控面板应用于显示装置时，可以提高显示装置的可靠性。

Description

触控面板及其制作方法、显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种触控面板及其制作方法、显示装置。

背景技术

随着曲面和柔性显示产品的普及，传统的ITO(氧化铟锡)薄膜由于自身的脆性、导电性及透光率等问题而限制了其向柔性化发展。目前，产业界一直在致力于开发ITO薄膜的替代材料，其中，纳米金属线具有较优异的力学特性，特别是纳米银线具有银优良的导电性，同时由于其纳米级别的尺寸效应，使得其具有优异的透光性与耐曲挠性，因此，可用其替代ITO薄膜作为触控电极的材料。

现有技术中，一般的纳米银线触控面板是将纳米银线直接涂布在基板上，纳米银线之间仅凭较弱的分子间作用力搭接在一起，纳米银线与基板的结合强度较差，导致其接触电阻较高和较不稳定，而导电性是触控面板的一个重要参数，纳米银线与基板的结合强度直接影响其灵敏度和导电性。

因此，有必要提出一种新的触控面板，提高膜层间的结合强度，从而提高触控面板的灵敏度和导电性，提高显示装置的可靠性。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种触控面板及其制作方法、显示装置，以提高膜层间的结合强度，从而提高触控面板的灵敏度和导电性，提高显示装置的可靠性。

为解决上述技术问题及相关问题，本发明提供的触控面板包括：

基板，所述基板具有图形化表面；以及

纳米金属层，形成于所述图形化表面上。

进一步地，在所述的触控面板中，所述图形化表面具有至少一个凹槽结构。

可选地，在所述的触控面板中，所述凹槽结构呈阵列分布。

可选地，在所述的触控面板中，所述凹槽结构在垂直于所述基板方向上的截面的形状为V字形、三边形、四边形、五边形、六边形、圆形或椭圆形中的一种或多种。

可选地，在所述的触控面板中，相邻所述凹槽结构之间的间距大于1mm，所述凹槽结构在所述基板上的投影的最大宽度小于80μm。

进一步地，在所述的触控面板中，所述纳米金属层包括纳米银线或纳米金线。

进一步地，在所述的触控面板中，所述基板的材料为聚酰亚胺。

根据本发明的另一面，本发明还提供了一种包括上述触控面板的显示装置。

根据本发明的又一面，本发明还提供了一种触控面板的制作方法，包括：

提供一基板；

采用图形化技术使所述基板具有图形化表面；

在所述图形化表面上形成纳米金属层。

进一步地，在所述的触控面板的制作方法中，采用激光打孔、机械打孔或者曝光显影技术使所述基板具有图形化表面，和/或在所述图形化表面上形成纳米金属层的方式包括喷墨、撒播、凹版印刷、凸版印刷、柔印、纳米压印、丝网印刷、刮刀涂布、旋转涂布、针绘、夹缝式涂布和流涂中的一种或多种。

与现有技术相比，本发明具有以下有益效果：

本发明的触控面板包括具有图形化表面的基板；形成于所述图形化表面上的纳米金属层。因所述基板具有图形化表面，则所述纳米金属层与所述基板相结合时，相当于增加了所述纳米金属层与所述基板的接触面积，从而能够增加所述纳米金属层与所述基板之间的粘附力，即可提高膜层间的结合强度，提高触控面板的灵敏度和导电性，将其应用于显示装置时，可以提高显示装置的可靠性。进一步的，所述基板的材料为聚酰亚胺，则具有图形化表面的聚酰亚胺能够增加所述纳米金属层与所述聚酰亚胺之间的粘附力，减少所述触控面板进行弯折过程中易出现膜层剥落或滑移的现象，其电阻值稳定，可以进一步提高所述触控面板的灵敏度和导电性，将所述触控面板应用于显示装置时，可以提高显示装置的可弯折特性。

附图说明

图1为本发明实施例中所述触控面板的制作方法的流程图；

图2至图6为本发明实施例中所述触控面板的制作方法中各步骤对应的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合流程图和示意图对本发明的触控面板及其制作方法、显示装置进行更详细的描述，其中表示了本发明的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本发明，而仍然实现本发明的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本发明的限制。

在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本发明。根据下面的说明，本发明的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本发明实施例的目的。

本发明的核心思想在于，本发明提供一种触控面板，包括：基板，所述基板具有图形化表面；以及纳米金属层，形成于所述图形化表面上。

相应的，根据本发明的另一面，本发明还提供了一种包括上述触控面板的显示装置。

另外，根据本发明的又一面，本发明还提供一种触控面板的制作方法，如图1所示，所述触控面板的制作方法包括：

步骤S1、提供一基板；

步骤S2、采用图形化技术使所述基板具有图形化表面；

步骤S3、在所述图形化表面上形成纳米金属层。

因本发明的所述基板具有图形化表面，则形成于所述图形化表面上的纳米金属层与所述基板相结合时，相当于增加了所述纳米金属层与所述基板的接触面积，从而能够增加所述纳米金属层与所述基板之间的粘附力，可以提高所述触控面板的灵敏度和导电性，将所述触控面板应用于显示装置时，可以提高显示装置的可靠性。

以下列举所述触控面板及其制作方法、显示装置的实施例，以清楚说明本发明的内容，应当明确的是，本发明的内容并不限制于以下实施例，其它通过本领域普通技术人员的常规技术手段的改进亦在本发明的思想范围之内。

请参阅图1至图6，其中图1示出了本发明实施例中所述触控面板的制作方法的流程图，图2至图6示出了本发明实施例中所述触控面板的制作方法中各步骤对应的结构示意图。

首先，执行步骤S1，提供一基板10，如图2所示。所述基板10可以是采用如玻璃、金属、或陶瓷材料形成的刚性基板，也可以为柔性基板，当所述基板10采用柔性基板时，在实际工艺中，因柔性基板具有可挠性，不便于直接在单独的柔性基板的表面进行后续工艺，本领域技术人员通常会将柔性基板涂布在一支撑结构(如可以但不限于为普通玻璃，图中示意图省略)上。较佳的，所述柔性基板的材料可以但不限于为压克力、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚丙烯腈-丁二烯-苯乙烯(ABS)、聚酰胺(PA)、聚酰亚胺(PI)、聚苯并咪唑聚丁烯(PB)、聚对苯二甲酸丁二醇酯(PBT)、聚碳酸酯(PC)、聚醚醚酮(PEEK)、聚醚酰亚胺(PEI)、聚醚砜(PES)、聚乙烯(PE)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚乙烯四氟乙烯(ETFE)、聚环氧乙烷、聚乙醇酸(PGA)、聚甲基戊烯(PMP)、聚甲醛(POM)、聚苯醚(PPE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚氨酯(PU)、聚氯乙烯(PVC)、聚氟乙烯(PVF)、聚偏二氯乙烯(PVDC)、聚偏二氟乙烯(PVDF)或苯乙烯-丙烯腈(SAN)等，优选的，本实施例中，所述基板10的材料为聚酰亚胺，在支撑结构上涂布聚酰亚胺，固化形成所述柔性基板。

接着，执行步骤S2，采用图形化技术使所述基板10具有图形化表面。

具体的，本实施例中可以采用激光打孔或机械打孔的方式图形化所述基板10，以形成具有图形化表面的基板10′，如图3所示，如利用高功率密度激光束照射所述基板10，使所述基板10被加热至汽化温度，蒸发形成图形化表面，可通过调整激光光束特性(包括激光的波长、脉冲宽度、光束发散角、聚焦状态等)来形成特定形貌的图形化表面。激光打孔速度快、效率高、经济效益好；机械打孔成本低。

在其他实施例中，还可以采用曝光显影技术图形化所述基板10，以形成具有图形化表面的基板10′，如图3所示。如所述基板10的材料为PI，因PI可作为光刻胶应用，则可直接采用光刻机对所述基板10进行曝光后显影，便可形成具有图形化表面的基板10′；当所述基板10的材料为其他塑性材料时，可在所述基板10上通过传统的光刻和刻蚀工艺形成具有图形化表面的基板10′，在此不做赘述。

较佳的，本实施例中，所述图形化表面具有至少一个凹槽结构A，如图3所示，需要指出的是，具有所述凹槽结构A的表面从另一方面也可以理解为具有凸起结构的表面，所述凹槽结构A在垂直于所述基板10方向上的截面的形状可以为V字形、三边形、四边形、五边形、六边形、圆形或椭圆形中的一种或多种，如本实施例中，优选所述凹槽结构A在垂直于所述基板10方向上的截面为三边形；为了增加后续纳米金属层与所述基板10的结合力，可以在所述基板10上设计呈一定规律分布的凹槽结构A，如呈阵列分布，如图4所示，图4为一所述具有图形化表面的基板10′的俯视图，所述基板10′上的凹槽结构A的分布密度均匀(即呈均匀的阵列分布)；也可以如图5所示，图5为另一所述具有图形化表面的基板10′的俯视图，所述基板10′上的凹槽结构A呈中心(或者是在柔性产品的弯折过程中易出现膜层剥离的区域100)分布密集、边缘分布稀疏的设计，即所述凹槽结构A还可以呈不均匀的阵列分布，这样，更加有利于后续纳米金属层与基板10′的粘附力。显然，所述基板10′上的凹槽结构A还可以呈同心圆环形的分布或者是圆弧形的分布等等。

进一步的，考虑到后续有部分纳米金属层会处于所述基板10′中(填充在所述凹槽结构A中)，则相应位置的纳米金属层的厚度会变厚，考虑透光率的影响，如图3所示，相邻所述凹槽结构A之间的间距L可以设计为大于1mm，如2mm或3mm，且所述凹槽结构A在所述基板上的投影的最大宽度D小于80μm，如50μm或20μm。可以理解，当其截面形状为圆形或在椭圆形时，所述最大宽度D为其直径或者长径；当其截面形状为四边形时，所述最大宽度D为凹槽结构在所述基板上的投影的最长宽度。而所述凹槽结构A的深度可以依据所述基板10的厚度而设定，在此不做限定。采用上述结构的基板10′，不仅能够增加后续纳米金属层与其结合强度，而且在提高触控面板的导电性能的同时还能保证纳米金属层的透光率，不影响视觉效果。

接下来，执行步骤S3，在所述图形化表面上形成纳米金属层，所述纳米金属层可以但不限于为纳米金线层或纳米银线层，本实施例中，因银在一般状态下为银白色金属，且为不透明材料，导电性极佳，则所述纳米金属层优选为纳米银线层11。所述纳米银线层11可通过直接涂覆的方式形成于所述图形表面上，所述涂覆的方法包括但不限于：喷墨、撒播、凹版印刷、凸版印刷、柔印、纳米压印、丝网印刷、刮刀涂布、旋转涂布、针绘(stylusplotting)、夹缝式涂布和流涂中一种或者多种。在实际工艺中，会依据需求对涂覆的纳米银线层进行激光刻蚀已形成所需的纳米银线层11，形成如图6所示的所述纳米银线层11呈倒齿状。因部分纳米银线层会位于具有所述图形化表面的基板10′中(填充在所述凹槽结构A中)，则会增加纳米银线层和基板间的结合强度，提高膜层间的结合力；进一步的，相当于增加了纳米银线层的厚度，从而可以提高触控面板的导电性能。特别是，因本实施例中，所述基板10为柔性基板，因部分纳米银线层会位于具有所述图形化表面的柔性基板中，会增加纳米银线层和柔性基板间的结合强度，从而避免触控面板在弯折过程中出现膜层滑移或剥离的现象，其电阻值稳定，进一步提高触控面板的灵敏度和导电性。

此外，因本实施例中，所述基板10为柔性基板，所述触控面板的制作方法还包括：将所述具有图形化表面的基板10′和纳米银线层11从所述支撑结构上剥离下来。在实际工艺中，所述触控面板的制作方法还包括：对所述纳米银线层11进行图案化，以形成所需的导电电极层；然后，所述具有图形化表面的基板10′和所述导电电极层与所述触控面板的其他结构(如盖板或玻片)进行贴合。

则通过上述制作方法形成的触控面板包括：具有凹槽结构A的基板10′；形成于所述基板10′上的纳米银线层11。

因所述基板10′具有图形化表面，则所述纳米银线层11与所述基板10′的接触面积增大了，能够增加所述基板10′和所述纳米银线层11的结合强度，进一步的，相应的部分纳米银线层的厚度也增加了，可以提高所述触控面板的灵敏度和导电性，将触控面板应用于显示装置中，可以提高显示装置的可靠性。当基板为柔性基板时，又由于可以避免触控面板在弯折过程中出现膜层滑移或剥离的现象，触控面板电阻值稳定，进一步提高触控面板的灵敏度和导电性，因此，将所触控面板应用于显示装置中，可以提高显示装置的可弯折特性。

显然，所述触控面板并不只限于通过上述制作方法得到。

综上，因本发明的所述基板具有图形化表面，则形成于所述图形化表面上的纳米金属层与所述基板相结合时，相当于增加了所述纳米金属层与所述基板的接触面积，从而能够增加所述纳米金属层与所述基板之间的粘附力，即可提高膜层间的结合强度，提高触控面板的灵敏度和导电性，将其应用于显示装置时，可以提高显示装置的可靠性。进一步的，所述基板的材质为聚酰亚胺，则具有图形化表面的聚酰亚胺能够增加所述纳米金属层与所述聚酰亚胺之间的粘附力，减少所述触控面板进行弯折过程中易出现膜层剥落或滑移的现象，其电阻值稳定，可以进一步提高所述触控面板的灵敏度和导电性，将所述触控面板应用于显示装置时，可以提高显示装置的可弯折特性。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (10)

1.一种触控面板，其特征在于，包括：

基板，所述基板具有图形化表面；以及

纳米金属层，形成于所述图形化表面上。

2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于，所述图形化表面具有至少一个凹槽结构。

3.如权利要求2所述的触控面板，其特征在于，所述凹槽结构呈阵列分布。

4.如权利要求2所述的触控面板，其特征在于，所述凹槽结构在垂直于所述基板方向上的截面的形状为V字形、三边形、四边形、五边形、六边形、圆形或椭圆形中的一种或多种。

5.如权利要求2所述的触控面板，其特征在于，相邻所述凹槽结构之间的间距大于1mm，所述凹槽结构在所述基板上的投影的最大宽度小于80μm。

6.如权利要求1至5任意一项所述的触控面板，其特征在于，所述纳米金属层包括纳米银线或纳米金线。

7.如权利要求1至5任意一项所述的触控面板，其特征在于，所述基板的材料为聚酰亚胺。

8.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1至7中任意一项所述的触控面板。

9.一种触控面板的制作方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

采用图形化技术使所述基板具有图形化表面；

在所述图形化表面上形成纳米金属层。

10.如权利要求9所述的触控面板的制作方法，其特征在于，采用激光打孔、机械打孔或者曝光显影技术使所述基板具有图形化表面，

和/或，在所述图形化表面上形成纳米金属层的方式包括喷墨、撒播、凹版印刷、凸版印刷、柔印、纳米压印、丝网印刷、刮刀涂布、旋转涂布、针绘、夹缝式涂布和流涂中的一种或多种。