CN108866485B - 一种蒸镀坩埚、蒸镀源以及蒸镀方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种蒸镀坩埚、蒸镀源以及蒸镀方法，涉及蒸镀技术领域，可解决相关技术中因需要针对不同的蒸镀材料分别调整加热功率而导致费时费事的问题。该蒸镀坩埚包括坩埚本体，所述坩埚本体的侧壁内设有可填入填充物的填充空间，所述填充空间与所述坩埚本体中的蒸镀材料容纳腔分离。本发明用于蒸镀工艺。
Description
技术领域
本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸镀坩埚、蒸镀源以及蒸镀方法。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板中，有机功能层采用真空热蒸镀的方式制作，即将有机材料放在坩埚中，然后在真空环境中加热坩埚，使其中的有机材料气化并向上喷射出，从而沉积在上方温度低的基板上，即可在基板上形成纳米量级厚度的有机功能层。
目前的蒸镀坩埚比热容固定，当加入不同的蒸镀材料时，坩埚与蒸镀材料整体的热容不同，因此这个整体加热后的升温曲线不同，为了获得相同的升温和稳定状态，以保证蒸镀速率的稳定性，需针对不同的蒸镀材料分别调整加热功率，而这种调整涉及多个参数，同时受限于加热系统的功率输出、温度反馈特性，调整起来费时费事。
发明内容
本发明的实施例提供一种蒸镀坩埚、蒸镀源以及蒸镀方法，可解决相关技术中因需要针对不同的蒸镀材料分别调整加热功率而导致费时费事的问题。
为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：
本发明实施例提供了一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体，所述坩埚本体的侧壁内设有可填入填充物的填充空间，所述填充空间与所述坩埚本体中的蒸镀材料容纳腔分离。
可选的，所述填充空间贯通所述侧壁的上表面或外表面。
可选的，所述填充空间为多个，多个所述填充空间沿所述侧壁的周向均匀布置。
可选的，多个所述填充空间连为一体。
可选的，还包括盖设于所述坩埚本体上的坩埚盖，所述坩埚盖与所述坩埚本体的两个环形接触面之间配合设置有环形的隔垫部，所述隔垫部上设有孔洞，所述孔洞贯通所述隔垫部上与所述坩埚盖接触的表面和/或与所述坩埚本体接触的表面。
可选的，所述孔洞为多个，多个所述孔洞在平行于所述环形接触面的平面内均匀布置。
本发明实施例还提供了一种蒸镀源，包括上述任一技术方案中的蒸镀坩埚，还包括用于为所述蒸镀坩埚加热的加热器以及用于为所述填充空间填入填充物的填料装置。
可选的，所述填料装置设于所述填充空间的上方，所述填料装置的底部设有开口，当所述开口打开时，所述填料装置中的填充物可在自身重力的作用下落入所述填充空间。
本发明实施例还提供了一种利用上述蒸镀源进行蒸镀的方法，包括以下步骤：在所述蒸镀材料容纳腔中放入蒸镀材料；通过所述填料装置向所述填充空间填入填充物，以使所述填充空间内的所述填充物、所述蒸镀材料容纳腔中的所述蒸镀材料以及所述蒸镀坩埚的热容之和在预设范围内；开启所述加热器；在预设时间段后，再次通过所述填料装置向所述填充空间填入填充物，以使所述填充空间内的所述填充物、所述蒸镀材料容纳腔中的所述蒸镀材料以及所述蒸镀坩埚的热容之和在所述预设范围内。
本发明实施例提供的蒸镀坩埚、蒸镀源以及蒸镀方法，由于坩埚本体的侧壁内设有可填入填充物的填充空间，所述填充空间与所述坩埚本体中的蒸镀材料容纳腔分离(即填充空间未贯通蒸镀材料容纳腔)，因此可针对不同的蒸镀材料，向填充空间内填充不同比热容的填充物，改变坩埚的热容，使得坩埚和不同蒸镀材料整体的热容均维持在某一数值上下，这样采用同一加热功率进行加热即可获得相同的升温，同时，在蒸镀过程中，因蒸镀材料随蒸发逐渐减少，本发明实施例可实时改变向填充空间内填入的填充物的质量，维持坩埚和蒸镀材料整体的热容基本不变，即采用同一加热功率进行加热也可在蒸镀过程中保证蒸镀速率的稳定性，因此无需针对不同的蒸镀材料分别调整加热功率，从而更加省时省事。
附图说明
图1为本发明实施例蒸镀坩埚的示意图之一；
图2为图1的俯视图；
图3为本发明实施例蒸镀坩埚的示意图之二；
图4为图3的俯视图；
图5为本发明实施例蒸镀坩埚中多个填充空间连为一体时的示意图；
图6为相关技术中蒸镀坩埚的侧视图之一；
图7为相关技术中蒸镀坩埚的侧视图之二；
图8为相关技术中蒸镀坩埚的俯视图；
图9为本发明实施例蒸镀坩埚的示意图之三；
图10为图9中隔垫部的示意图；
图11为图9中隔垫部上孔洞的示意图之一；
图12为图9中隔垫部上孔洞的示意图之二；
图13为本发明实施例蒸镀源的示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
参照图1至图4，本发明实施例提供了一种蒸镀坩埚100，包括坩埚本体1，坩埚本体1的侧壁11内设有可填入填充物A的填充空间12，填充空间12与坩埚本体1中的蒸镀材料容纳腔13分离。
本发明实施例提供的蒸镀坩埚100，由于坩埚本体1的侧壁11内设有可填入填充物A的填充空间12，填充空间12与坩埚本体1中的蒸镀材料容纳腔13分离(即填充空间12未贯通蒸镀材料容纳腔13)，因此可针对不同的蒸镀材料，向填充空间12内填充不同比热容的填充物A，改变坩埚的热容，使得坩埚和不同蒸镀材料整体的热容均维持在某一数值上下，这样采用同一加热功率进行加热即可获得相同的升温，同时，在蒸镀过程中，因蒸镀材料随蒸发逐渐减少，本发明实施例可实时改变向填充空间12内填入的填充物A的质量，维持坩埚和蒸镀材料整体的热容基本不变，即采用同一加热功率进行加热也可在蒸镀过程中保证蒸镀速率的稳定性，因此无需针对不同的蒸镀材料分别调整加热功率，从而更加省时省事。
具体的，填充空间12贯通侧壁11的上表面(参照图1和图2)或外表面(参照图3和图4，即附挂的形式)，当填充空间12贯通侧壁11的上表面时，填充物A可通过重力落入填充空间12，即可通过重力进行填充，使得填充更加方便，且节省耗电量；当填充空间12贯通侧壁11的外表面时，可从坩埚本体1的侧面进行填充，同样使得填充更加方便。
在一些实施例中，参照图2和图4，填充空间12为多个，多个填充空间12沿侧壁11的周向均匀布置，由此即可在坩埚本体1侧壁11周向的不同位置处均填入填充物A，从而使坩埚本体1侧壁11周向不同位置的比热容更加均匀，进而使蒸镀坩埚100不同位置的温度更加均匀。
在上述实施例的基础上，本实施例中多个填充空间12连为一体，如图5所示，这样可使坩埚本体1侧壁11周向不同位置的比热容更加均匀，同时方便加工。
参照图6至图8，蒸镀坩埚100通常还包括盖设于坩埚本体1上的坩埚盖2，坩埚本体1与坩埚盖2通过锁定栓3固定在一起，目前，坩埚盖2与坩埚本体1通过两个环形接触面B1、B2(其中一个环形接触面B1属于坩埚盖2，另一个环形接触面B2属于坩埚本体1)紧贴，导热性能比较好，即使坩埚盖2与坩埚本体1采用不同的加热器，也不易加大坩埚盖2与坩埚本体1的温差；再者，两个环形接触面B1、B2之间会进入有机材料气体，在坩埚冷却时将坩埚盖2与坩埚本体1粘连在一起，难以打开。为了缓解上述问题，参照图9至图12，本实施例在坩埚盖2与坩埚本体1的两个环形接触面B1、B2之间配合设置有环形的隔垫部4(隔垫部4与坩埚本体1和坩埚盖2接触的均是平面)，隔垫部4上设有孔洞C(孔洞C的形状、大小可以多样，图11、12中仅为示例)，孔洞C贯通隔垫部4上与坩埚盖2接触的表面和/或与坩埚本体1接触的表面，由此减小了紧贴的面积，一方面降低了导热性能，从而可以更好地加大坩埚盖2与坩埚本体1的温差；另一方面冷却时发生粘连的面积变小，从而使坩埚盖2易于打开。
孔洞C为多个，多个孔洞C在平行于环形接触面B1、B2的平面内均匀布置，由此使得坩埚盖2与坩埚本体1沿环形隔垫部4周向的不同位置导热性能更加均匀，粘连程度也更加均匀。
坩埚本体1的材质可以是金属(如Ti、Mo、Ta)、不锈钢、陶瓷(如氧化铝、氮化硼)，以及其他耐高温材质，如石墨，石英。坩埚本体1的形状可以是圆形、方形，或者其他规则与不规则形状，常用的有圆桶状，其蒸发源称为点蒸发源，或长条槽状，其蒸发源称为线蒸发源。
参照图13，本发明实施例还提供了一种蒸镀源，包括上述任一实施例所述的蒸镀坩埚100，还包括用于为蒸镀坩埚100加热的加热器200以及用于为填充空间12填入填充物A的填料装置300。
本发明实施例提供的蒸镀源，由于坩埚本体1的侧壁11内设有可填入填充物A的填充空间12，填充空间12与坩埚本体1中的蒸镀材料容纳腔13分离(即填充空间12未贯通蒸镀材料容纳腔13)，因此可针对不同的蒸镀材料，通过填料装置300向填充空间12内填充不同比热容的填充物A，改变坩埚的热容，使得坩埚和不同蒸镀材料整体的热容均维持在某一数值上下，这样采用同一加热功率进行加热即可获得相同的升温，同时，在蒸镀过程中，因蒸镀材料随蒸发逐渐减少，本发明实施例可通过填料装置300实时改变向填充空间12内填入的填充物A的质量，维持坩埚和蒸镀材料整体的热容基本不变，即采用同一加热功率进行加热也可在蒸镀过程中保证蒸镀速率的稳定性，因此无需针对不同的蒸镀材料分别调整加热功率，从而更加省时省事。
在本发明的一种实施例中，通过重力填充：填料装置300设于填充空间12的上方，填料装置300的底部设有开口D，当开口D打开时，填料装置300中的填充物A可在自身重力的作用下快速落入填充空间12，这样可提升填充效率，同时减少耗电量。
本发明实施例还提供了一种利用上述蒸镀源进行蒸镀的方法，包括以下步骤：在蒸镀材料容纳腔13中放入蒸镀材料；通过填料装置300向填充空间12填入填充物A，以使填充空间12内的填充物A、蒸镀材料容纳腔13中的蒸镀材料以及蒸镀坩埚100的热容之和在预设范围内；开启加热器200；在预设时间段后，再次通过填料装置300向填充空间12填入填充物A，以使填充空间12内的填充物A、蒸镀材料容纳腔13中的蒸镀材料以及蒸镀坩埚100的热容之和在所述预设范围内。
本发明实施例提供的蒸镀方法，由于可通过填料装置300向填充空间12填入填充物A，以使填充空间12内的填充物A、蒸镀材料容纳腔13中的蒸镀材料以及蒸镀坩埚100的热容之和在预设范围(某一数值上下)内，因此对于不同的蒸镀材料采用同一加热功率进行加热即可获得相同的升温，同时，在蒸镀过程中，因蒸镀材料随蒸发逐渐减少，本发明实施例可通过填料装置300实时改变向填充空间12内填入的填充物A的质量，维持坩埚和蒸镀材料整体的热容基本不变，即采用同一加热功率进行加热也可在蒸镀过程中保证蒸镀速率的稳定性，因此无需针对不同的蒸镀材料分别调整加热功率，从而更加省时省事。
以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。
Claims (8)
1.一种蒸镀坩埚，包括坩埚本体，其特征在于，所述坩埚本体的侧壁内设有填入填充物的填充空间，所述填充空间与所述坩埚本体中的蒸镀材料容纳腔分离；所述填充空间未贯通所述蒸镀材料容纳腔；
所述填充空间贯通所述侧壁的上表面或外表面；
其中，所述填充物为具有不同比热容的填充物；
所述填充物为使得所述蒸镀材料、所述坩埚本体与填入的所述填充物的热容之和在预设范围内的填充物。
2.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述填充空间为多个，多个所述填充空间沿所述侧壁的周向均匀布置。
3.根据权利要求2所述的蒸镀坩埚，其特征在于，多个所述填充空间连为一体。
4.根据权利要求1所述的蒸镀坩埚，其特征在于，还包括盖设于所述坩埚本体上的坩埚盖，所述坩埚盖与所述坩埚本体的两个环形接触面之间配合设置有环形的隔垫部，所述隔垫部上设有孔洞，所述孔洞贯通所述隔垫部上与所述坩埚盖接触的表面和/或与所述坩埚本体接触的表面。
5.根据权利要求4所述的蒸镀坩埚，其特征在于，所述孔洞为多个，多个所述孔洞在平行于所述环形接触面的平面内均匀布置。
6.一种蒸镀源，其特征在于，包括权利要求1~5中任一项所述的蒸镀坩埚，还包括用于为所述蒸镀坩埚加热的加热器以及用于为所述填充空间填入填充物的填料装置。
7.根据权利要求6所述的蒸镀源，其特征在于，所述填料装置设于所述填充空间的上方，所述填料装置的底部设有开口，当所述开口打开时，所述填料装置中的填充物可在自身重力的作用下落入所述填充空间。
8.一种利用权利要求6所述的蒸镀源进行蒸镀的方法，其特征在于，包括以下步骤：
在所述蒸镀材料容纳腔中放入蒸镀材料；
通过所述填料装置向所述填充空间填入填充物，以使所述填充空间内的所述填充物、所述蒸镀材料容纳腔中的所述蒸镀材料以及所述蒸镀坩埚的热容之和在预设范围内；
开启所述加热器；
在预设时间段后，再次通过所述填料装置向所述填充空间填入填充物，以使所述填充空间内的所述填充物、所述蒸镀材料容纳腔中的所述蒸镀材料以及所述蒸镀坩埚的热容之和在所述预设范围内。
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