CN108828697A - 一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片及其制备方法，镜片包括玻璃基片和设置在所述玻璃基片内表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的七个薄膜层，分别为硅铝混合物，镍铬合金，钛的氧化物，硅铝混合物镍铬合金，硅铝混合物和防水层。本发明所制备的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片对波长在400‑670nm的反射率均低于0.6％，有效的减小反射光强度，可以防止产生炫光、增加透光率，有效的保护佩戴者的眼睛，且抗氧化、耐腐蚀，使用寿命长，其制备工艺可控性强，普通操作人员就可以完成，具有较好的市场前景。

Description

一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片及其制备方法
技术领域
本发明涉及功能镜片，尤其是一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片及其制备方法。
背景技术
抗反射镜片通常包括多个膜层，从其中一层反射来的光波会被另一层反射的光波抵消，通过膜层减少光的反射并增加透光率，一方面可以减少眩光，避免因眩光产生的厌恶、不舒服甚或丧失明视度，如太阳镜上的炫光点，以及夜间驾车时迎面而来的车前灯导致的明显眩光，另一方面由于透射光/反射光比值增加，可以使物象更加清晰。
发明专利CN105359005B公开了一种在可见光区具有极低反射的抗反射涂层的光学制品，包括具有前主面和后主面的透明基底，这些主面中的至少一个涂覆有多层抗反射涂层，该多层抗反射涂层包括具有高于或等于1.5的折射率的至少一个层和具有低于1.5的折射率的至少一个层的叠层，使得对于小于35°的至少一个入射角，可见光区中的平均光反射系数Rv低于或等于0.5％；对于15°入射角(θ)，色度C*等于或高于18；以及对于大于35°入射角(θ)，色度C*低于或等于11。由于对折射率的限制，在生产中选材受到限制，而且基于色度控制的加工工艺对操作人员的要求较高。
另一方面，市面上的抗反射镜片容易发生氧化，不耐用，膜层使用过程中容易被腐蚀，由于膜层物质变化和细微的尺寸变化，都会影响光线通过的路径，从而失去抗反射效果。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有的抗反射镜片加工难度大，容易被氧化和腐蚀的问题，提供一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片及其制备方法。
具体方案如下：
一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，包括玻璃基片和设置在所述玻璃基片内表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层、第四薄膜层、第五薄膜层、第六薄膜层和第七薄膜层，其中，所述第一薄膜层为硅铝混合物，所述第二薄膜层为镍铬合金，厚度为100-500埃米，所述第三薄膜层为钛的氧化物，厚度为150-550埃米，所述第四薄膜层为硅铝混合物，厚度为10-310埃米，所述第五薄膜层为镍铬合金，厚度为10-300埃米，所述第六薄膜层为硅铝混合物，厚度为500-900埃米，所述第七薄膜层为防水层。
进一步的，所述第一薄膜层的厚度为250-650埃米。
进一步的，所述硅铝混合物为真空镀膜材料L5；
任选的，所述钛的氧化物为一氧化钛、二氧化钛或五氧化三钛中的至少一种。
进一步的，所述镍铬合金中镍质量含量为40％-90％，铬质量含量为10％-60％。
进一步的，所述第二薄膜层的厚度为200-400埃米；
任选的，所述第三薄膜层的厚度为240-460埃米；
任选的，所述第四薄膜层的厚度为40-210埃米；
任选的，所述第五薄膜层的厚度为40-200埃米；
任选的，所述第六薄膜层的厚度为610-790埃米。
本发明还提供所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：对玻璃基片用水清洗，之后烘干；
步骤2：将烘干的玻璃基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空，控制真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr，开启离子源，气体为氩气，在电压100-200V电流5-10A条件下，对玻璃基片进行表面深度清洗；
步骤3：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第一薄膜层蒸镀速率为在玻璃基片内表面形成第一薄膜层；
步骤4：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材镍铬合金，控制第二薄膜层蒸镀速率为在第一薄膜层表面形成第二薄膜层；
步骤5：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材钛的氧化物，控制第三薄膜层蒸镀速率为在第二薄膜层表面形成第三薄膜层；
步骤6：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第四薄膜层蒸镀速率为在第三薄膜层表面形成第四薄膜层；
步骤7：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材镍铬合金，控制第五薄膜层蒸镀速率为在第四薄膜层表面形成第五薄膜层；
步骤8：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第六薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第六薄膜层蒸镀速率为在第五薄膜层表面形成第六薄膜层；
步骤9：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用钨舟加热第七薄膜层的膜材防水材料，控制第七薄膜层蒸镀速率为在第六薄膜层表面形成第七薄膜层。
进一步的，所述步骤1中所述烘干的温度为150-400℃，所述烘干的时间1-2小时。
进一步的，所述步骤2中开启离子源，在电压150V电流8A条件下，对玻璃基片进行表面3分钟深度清洗。
进一步的，所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法，包括以下步骤：
步骤1：对玻璃基片用水清洗，之后烘干；
步骤2：将烘干的玻璃基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空，控制真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr，开启离子源，气体为氩气，在电压100-200V电流5-10A条件下，对玻璃基片进行表面深度清洗；
步骤3：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第一薄膜层蒸镀速率为在玻璃基片内表面形成第一薄膜层；
步骤4：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材镍铬合金，控制第二薄膜层蒸镀速率为在第一薄膜层表面形成第二薄膜层；
步骤5：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材钛的氧化物，控制第三薄膜层蒸镀速率为在第二薄膜层表面形成第三薄膜层；
步骤6：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第四薄膜层蒸镀速率为在第三薄膜层表面形成第四薄膜层；
步骤7：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材镍铬合金，控制第五薄膜层蒸镀速率为在第四薄膜层表面形成第五薄膜层；
步骤8：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第六薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第六薄膜层蒸镀速率为在第五薄膜层表面形成第六薄膜层；
步骤9：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用钨舟加热第七薄膜层的膜材防水材料，控制第七薄膜层蒸镀速率为在第六薄膜层表面形成第七薄膜层。
本发明还保护运用所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法，制备得到的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片。
有益效果：
本发明中，采用玻璃基片内表面镀膜，获得抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，所述膜层包括七层薄膜，通过高折射率和低折射率层交替堆叠实现抗反射效果。
再则，本发明中膜层含有镍铬合金和钛的氧化物，可以形成具有较高而稳定的电阻率的薄膜，其耐腐蚀，表面抗氧化性能好，高温时使用不变形，黏性好，与其他薄膜的结合紧密。
进一步地，本发明还提供抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法，结合离子源设备，通过控制镀膜温度和合适的蒸镀速率，获得稳定的镀膜效果，该工艺借助真空镀膜机，可控性强，普通操作人员就可以完成。
总之，本发明所制备的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片对波长在400-670nm的反射率均低于0.6％，有效的减小反射光强度，可以防止产生炫光、增加透光率，有效的保护佩戴者的眼睛，且抗氧化、耐腐蚀，使用寿命长，具有较好的市场前景。
附图说明
为了更清楚地说明本发明的技术方案，下面将对附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅涉及本发明的一些实施例，而非对本发明的限制。
图1是本发明一个实施例提供的反射率光谱图。
具体实施方式
下面给出本发明中使用的部分术语的定义，其他未述及的术语具有本领域所公知的定义和含义：
玻璃基片：材质为玻璃的片材，可以是平面镜片，也可以是具有一定弧度的玻璃镜片。
内表面：本发明中内表面是指镜片在使用状态下，相对于直接接受光源光线的外表面，位于内侧的一面。
埃米/秒，用于表征粒子沉积形成薄膜生长的速度。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，采用玻璃作为基片，镜片耐刮性强，透过率好，可以设计成超薄结构，减轻整个镜片的重量。玻璃基片优选厚度为0.1-1cm的基片，更优选为0.3-0.5cm，例如0.32cm，例如0.36cm，例如0.4cm，由于膜层具有高强度，从而保证镜片整体的强度。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，第一薄膜层为硅铝混合物，作为打底层，使后续镀膜的膜附着性、硬度、镀层结合力更好，厚度为250-650埃米，优选为320-550埃米，更优选为420-480埃米，例如430埃米，例如450埃米，例如460埃米，所述硅铝混合物可以是SiO2与Al2O3的混合物，例如Al2O3占硅铝混合物总重的2-6％，更优选为Al2O3占硅铝混合物总重的3-3.5％。该材料可以自制，也可以采用市售产品，如真空镀膜材料L5，中国通用名称“硅铝混合物”，“L5”是其德国通用名称，该材料可由默克光学公司、南阳恺瑞特光学新材料有限公司或苏州普京真空技术有限公司提供，常用规格为1-3mm散粒，白色。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，第二膜层为镍铬合金，镍铬合金在高真空下沉积在基片表面，从而形成具有较高而稳定的电阻率，耐腐蚀，表面抗氧化性能好，高温时使用不变形，黏性好的高质量薄膜。厚度为100-500埃米，优选为200-400埃米，更优选为280-320埃米，例如285埃米，例如300埃米，例如310埃米，所述镍铬合金中优选镍质量含量为40％-90％，铬质量含量为10％-60％，更优先为镍质量含量为55％-75％，铬质量含量为25％-45％，例如镍质量含量为65％，铬质量含量为35％。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，第三薄膜层为钛的氧化物，包括但不限于一氧化钛、二氧化钛或五氧化三钛中的至少一种，该层为高折射率层，厚度为150-550埃米，优选为240-460埃米，更优选为300-400埃米，例如320埃米，例如350埃米，例如360埃米。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，第四薄膜层为硅铝混合物，材质同第一膜层，厚度为10-310埃米，优选为40-210埃米，更优选为140-180埃米，例如150埃米，例如155埃米，例如160埃米。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，第五薄膜层为镍铬合金，材质同第二膜层，厚度为10-300埃米，优选为40-200埃米，更优选为140-160埃米，例如145埃米，例如150埃米，例如155埃米。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，第六薄膜层为硅铝混合物，材质同第一膜层，厚度为500-900埃米，优选为610-790埃米，更优选为650-750埃米，例如680埃米，例如700埃米，例如720埃米。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，第七薄膜层为防水层，选用常规防水材料即可，防水层优选透明防水材料，厚度优选为10-280埃米，更优选为120-200埃米，例如150埃米，例如160埃米。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片制备方法中，玻璃基片用水清洗，之后烘干，该步骤是获得较好镀膜效果的基础，优选烘干温度为150-400℃，烘干的时间1-2小时，更优选为200-300℃，例如220℃，例如250℃，例如270℃。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片制备方法中，采用真空腔室内开启离子源，作用是表面清洁、提升薄膜附着度。
本发明提供的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片制备方法中，镀膜采用真空镀膜机，为常规设备，例如龙翩真空科技股份有限公司提供的真镀膜机，配合美国考夫曼公司提供的KRI离子源设备。镀膜的关键在于真空腔室的温度和粒子沉积的速度。因此，本发明制备方法中步骤3：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第一薄膜层蒸镀速率为在玻璃基片内表面形成第一薄膜层；步骤4：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材镍铬合金，控制第二薄膜层蒸镀速率为在第一薄膜层表面形成第二薄膜层；步骤5：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材钛的氧化物，控制第三薄膜层蒸镀速率为在第二薄膜层表面形成第三薄膜层；步骤6：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第四薄膜层蒸镀速率为在第三薄膜层表面形成第四薄膜层；步骤7：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材镍铬合金，控制第五薄膜层蒸镀速率为在第四薄膜层表面形成第五薄膜层；步骤8：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第六薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第六薄膜层蒸镀速率为在第五薄膜层表面形成第六薄膜层；步骤9：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用钨舟加热第七薄膜层的膜材防水材料，控制第七薄膜层蒸镀速率为在第六薄膜层表面形成第七薄膜层。真空室的温度加温速度快，但降温缓慢，因此镀膜过程中真空室的温度应基本保持一致，避免频繁变化温度浪费工时。
下面将更详细地描述本发明的优选实施方式。在下面的实施例中，如未明确说明，“％”均指重量百分比。
以下使用的测试方法包括：
反射率测试：使用分光光度计U-3900H测试400-700nm反射率
耐腐蚀测试：使用质量浓度为4.5％的盐水浸泡镜片，记录镜片表面薄膜颜色开始出现褪色的时间。
抗氧化测试：使用QUV测试仪，UV辐照：强度0.67W/m2，温度60℃，辐照4小时；冷凝：温度50℃时间4H。UV辐照与冷凝循环测试，记录薄膜颜色开始出现褪色的时间。
以下使用的主要试剂包括：
硅铝混合物，市售产品，由默克光学公司提供的真空镀膜材料L5；镍铬合金，市售产品，由泊林金属丝网有限公司提供。
防水材料，市售产品，由丹阳市科达镀膜材料有限公司提供。
实施例1
一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，包括玻璃基片和设置在所述玻璃基片内表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层、第四薄膜层、第五薄膜层、第六薄膜层和第七薄膜层，其中，所述第一薄膜层为硅铝混合物，所述第二薄膜层为镍铬合金，所述第三薄膜层为五氧化三钛，所述第四薄膜层为硅铝混合物，所述第五薄膜层为镍铬合金，所述第六薄膜层为硅铝混合物，所述第七薄膜层为防水层。
埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法如下：
步骤1：对玻璃基片进行清洗、烘干，烘烤温度200℃，时间2小时；
步骤2：将烘干的玻璃基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空，当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，气体为氩气，功率为电压150V电流8A，对玻璃基片进行表面3分钟清洗；
步骤3：对玻璃基片内表面镀第一薄膜层
当真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材L5，第一薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于玻璃基片的内表面，同时控制第一薄膜层蒸镀速率为第一薄膜层最终形成后的厚度为250埃米；
步骤4：对基片内表面镀第二薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材镍铬合金，第二薄膜层镍铬合金蒸发后以埃米级分子形式沉积于第一薄膜层上，同时控制第二薄膜层蒸镀速率为第二薄膜层最终形成后的厚度为100埃米，形成防腐蚀、抗氧化层；
步骤5：对基片内表面镀第三薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材五氧化三钛，第三薄膜层五氧化三钛蒸发后以埃米级分子形式沉积于第二薄膜层上，同时控制第三薄膜层蒸镀速率为第三薄膜层最终形成后的厚度为150埃米；
步骤6：对基片内表面镀第四薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材L5，第四薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第三薄膜层上，同时控制第四薄膜层蒸镀速率为第四薄膜层最终形成后的厚度为10埃米；
步骤7：对基片内表面镀第五薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材镍铬合金，第五薄膜层镍铬合金蒸发后以埃米级分子形式沉积于第四薄膜层上，同时控制第五薄膜层蒸镀速率为第五薄膜层最终形成后的厚度为10埃米，形成防腐蚀、抗氧化层；
步骤8：对基片内表面镀第六薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第六薄膜层的膜材L5，第六薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第五薄膜层上，同时控制第六薄膜层蒸镀速率为第六薄膜层最终形成后的厚度为500埃米；
步骤9：对基片内表面镀第七薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用钨舟加热第七薄膜层的膜材防水材料，第七薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于第六薄膜层上，同时控制第七薄膜层蒸镀速率为第七薄膜层最终形成后的厚度为10埃米。
实施例2
一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，包括玻璃基片和设置在所述玻璃基片内表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层、第四薄膜层、第五薄膜层、第六薄膜层和第七薄膜层，其中，所述第一薄膜层为硅铝混合物，所述第二薄膜层为镍铬合金，所述第三薄膜层为一氧化钛，所述第四薄膜层为硅铝混合物，所述第五薄膜层为镍铬合金，所述第六薄膜层为硅铝混合物，所述第七薄膜层为防水层。
埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法如下：
步骤1：对玻璃基片进行清洗、烘干，烘烤温度300℃，时间2小时；
步骤2：将烘干的玻璃基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空，当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，气体为氩气，功率为电压150V电流8A，对玻璃基片进行表面3分钟清洗；
步骤3：对玻璃基片内表面镀第一薄膜层
当真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在300℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材L5，第一薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于玻璃基片的内表面，同时控制第一薄膜层蒸镀速率为第一薄膜层最终形成后的厚度为400埃米；
步骤4：对基片内表面镀第二薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在300℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材镍铬合金，第二薄膜层镍铬合金蒸发后以埃米级分子形式沉积于第一薄膜层上，同时控制第二薄膜层蒸镀速率为第二薄膜层最终形成后的厚度为200埃米，形成防腐蚀、抗氧化层；
步骤5：对基片内表面镀第三薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在300℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材一氧化钛，第三薄膜层一氧化钛蒸发后以埃米级分子形式沉积于第二薄膜层上，同时控制第三薄膜层蒸镀速率为第三薄膜层最终形成后的厚度为240埃米；
步骤6：对基片内表面镀第四薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在300℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材L5，第四薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第三薄膜层上，同时控制第四薄膜层蒸镀速率为第四薄膜层最终形成后的厚度为40埃米；
步骤7：对基片内表面镀第五薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在300℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材镍铬合金，第五薄膜层镍铬合金蒸发后以埃米级分子形式沉积于第四薄膜层上，同时控制第五薄膜层蒸镀速率为第五薄膜层最终形成后的厚度为40埃米，形成防腐蚀、抗氧化层；
步骤8：对基片内表面镀第六薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在300℃，采用电子枪轰击第六薄膜层的膜材L5，第六薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第五薄膜层上，同时控制第六薄膜层蒸镀速率为第六薄膜层最终形成后的厚度为610埃米；
步骤9：对基片内表面镀第七薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在300℃，采用钨舟加热第七薄膜层的膜材防水材料，第七薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于第六薄膜层上，同时控制第七薄膜层蒸镀速率为第七薄膜层最终形成后的厚度为120埃米。
实施例3
一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，包括玻璃基片和设置在所述玻璃基片内表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层、第四薄膜层、第五薄膜层、第六薄膜层和第七薄膜层，其中，所述第一薄膜层为硅铝混合物，所述第二薄膜层为镍铬合金，所述第三薄膜层为二氧化钛，所述第四薄膜层为硅铝混合物，所述第五薄膜层为镍铬合金，所述第六薄膜层为硅铝混合物，所述第七薄膜层为防水层。
埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法如下：
步骤1：对玻璃基片进行清洗、烘干，烘烤温度400℃，时间2小时；
步骤2：将烘干的玻璃基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空，当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，气体为氩气，功率为电压150V电流8A，对玻璃基片进行表面3分钟清洗；
步骤3：对玻璃基片内表面镀第一薄膜层
当真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在240℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材L5，第一薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于玻璃基片的内表面，同时控制第一薄膜层蒸镀速率为第一薄膜层最终形成后的厚度为450埃米；
步骤4：对基片内表面镀第二薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在240℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材镍铬合金，第二薄膜层镍铬合金蒸发后以埃米级分子形式沉积于第一薄膜层上，同时控制第二薄膜层蒸镀速率为第二薄膜层最终形成后的厚度为300埃米，形成防腐蚀、抗氧化层；
步骤5：对基片内表面镀第三薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在240℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材二氧化钛，第三薄膜层二氧化钛蒸发后以埃米级分子形式沉积于第二薄膜层上，同时控制第三薄膜层蒸镀速率为第三薄膜层最终形成后的厚度为350埃米；
步骤6：对基片内表面镀第四薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在240℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材L5，第四薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第三薄膜层上，同时控制第四薄膜层蒸镀速率为第四薄膜层最终形成后的厚度为120埃米；
步骤7：对基片内表面镀第五薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在240℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材镍铬合金，第五薄膜层镍铬合金蒸发后以埃米级分子形式沉积于第四薄膜层上，同时控制第五薄膜层蒸镀速率为第五薄膜层最终形成后的厚度为170埃米，形成防腐蚀、抗氧化层；
步骤8：对基片内表面镀第六薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在240℃，采用电子枪轰击第六薄膜层的膜材L5，第六薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第五薄膜层上，同时控制第六薄膜层蒸镀速率为第六薄膜层最终形成后的厚度为700埃米；
步骤9：对基片内表面镀第七薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在240℃，采用钨舟加热第七薄膜层的膜材防水材料，第七薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于第六薄膜层上，同时控制第七薄膜层蒸镀速率为第七薄膜层最终形成后的厚度为160埃米。
实施例4
一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，包括玻璃基片和设置在所述玻璃基片内表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层、第四薄膜层、第五薄膜层、第六薄膜层和第七薄膜层，其中，所述第一薄膜层为硅铝混合物，所述第二薄膜层为镍铬合金，所述第三薄膜层为五氧化三钛，所述第四薄膜层为硅铝混合物，所述第五薄膜层为镍铬合金，所述第六薄膜层为硅铝混合物，所述第七薄膜层为防水层。
埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法如下：
步骤1：对玻璃基片进行清洗、烘干，烘烤温度150℃，时间2小时；
步骤2：将烘干的玻璃基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空，当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，气体为氩气，功率为电压100V电流5A，对玻璃基片进行表面3分钟清洗；
步骤3：对玻璃基片内表面镀第一薄膜层
当真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在400℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材L5，第一薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于玻璃基片的内表面，同时控制第一薄膜层蒸镀速率为第一薄膜层最终形成后的厚度为650埃米；
步骤4：对基片内表面镀第二薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在400℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材镍铬合金，第二薄膜层镍铬合金蒸发后以埃米级分子形式沉积于第一薄膜层上，同时控制第二薄膜层蒸镀速率为第二薄膜层最终形成后的厚度为500埃米，形成防腐蚀、抗氧化层；
步骤5：对基片内表面镀第三薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在400℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材五氧化三钛，第三薄膜层五氧化三钛蒸发后以埃米级分子形式沉积于第二薄膜层上，同时控制第三薄膜层蒸镀速率为第三薄膜层最终形成后的厚度为550埃米；
步骤6：对基片内表面镀第四薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在400℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材L5，第四薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第三薄膜层上，同时控制第四薄膜层蒸镀速率为第四薄膜层最终形成后的厚度为310埃米；
步骤7：对基片内表面镀第五薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在400℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材镍铬合金，第五薄膜层镍铬合金蒸发后以埃米级分子形式沉积于第四薄膜层上，同时控制第五薄膜层蒸镀速率为第五薄膜层最终形成后的厚度为300埃米，形成防腐蚀、抗氧化层；
步骤8：对基片内表面镀第六薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在400℃，采用电子枪轰击第六薄膜层的膜材L5，第六薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第五薄膜层上，同时控制第六薄膜层蒸镀速率为第六薄膜层最终形成后的厚度为900埃米；
步骤9：对基片内表面镀第七薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在400℃，采用钨舟加热第七薄膜层的膜材防水材料，第七薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于第六薄膜层上，同时控制第七薄膜层蒸镀速率为第七薄膜层最终形成后的厚度为280埃米。
实施例5
一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，包括玻璃基片和设置在所述玻璃基片内表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层、第四薄膜层、第五薄膜层、第六薄膜层和第七薄膜层，其中，所述第一薄膜层为硅铝混合物，所述第二薄膜层为镍铬合金，所述第三薄膜层为五氧化三钛和二氧化钛按1:1质量比混合，所述第四薄膜层为硅铝混合物，所述第五薄膜层为镍铬合金，所述第六薄膜层为硅铝混合物，所述第七薄膜层为防水层。
埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法如下：
步骤1：对玻璃基片进行清洗、烘干，烘烤温度150℃，时间2小时；
步骤2：将烘干的玻璃基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空，当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，气体为氩气，功率为电压200V电流5A，对玻璃基片进行表面3分钟清洗；
步骤3：对玻璃基片内表面镀第一薄膜层
当真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在150℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材L5，第一薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于玻璃基片的内表面，同时控制第一薄膜层蒸镀速率为第一薄膜层最终形成后的厚度为500埃米；
步骤4：对基片内表面镀第二薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在150℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材镍铬合金，第二薄膜层镍铬合金蒸发后以埃米级分子形式沉积于第一薄膜层上，同时控制第二薄膜层蒸镀速率为第二薄膜层最终形成后的厚度为500埃米，形成防腐蚀、抗氧化层；
步骤5：对基片内表面镀第三薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在150℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材五氧化三钛和二氧化钛按照1:1质量比混合，第三薄膜层膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于第二薄膜层上，同时控制第三薄膜层蒸镀速率为第三薄膜层最终形成后的厚度为460埃米；
步骤6：对基片内表面镀第四薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在150℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材L5，第四薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第三薄膜层上，同时控制第四薄膜层蒸镀速率为第四薄膜层最终形成后的厚度为210埃米；
步骤7：对基片内表面镀第五薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在150℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材镍铬合金，第五薄膜层镍铬合金蒸发后以埃米级分子形式沉积于第四薄膜层上，同时控制第五薄膜层蒸镀速率为第五薄膜层最终形成后的厚度为200埃米，形成防腐蚀、抗氧化层；
步骤8：对基片内表面镀第六薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在150℃，采用电子枪轰击第六薄膜层的膜材L5，第六薄膜层L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第五薄膜层上，同时控制第六薄膜层蒸镀速率为第六薄膜层最终形成后的厚度为790埃米；
步骤9：对基片内表面镀第七薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在150℃，采用钨舟加热第七薄膜层的膜材防水材料，第七薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于第六薄膜层上，同时控制第七薄膜层蒸镀速率为第七薄膜层最终形成后的厚度为200埃米。
对比例1
普通抗反射镜片，包括玻璃基片和设置在所述玻璃基片内表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层、第四薄膜层、第五薄膜层和第六薄膜层，所述第一、三、五层薄膜层为SiO2，所述第二、四层薄膜层为Ti3O5，所述第六薄膜层为防水层。
制备方法如下：
步骤1：对玻璃基片进行清洗、烘干，烘烤温度200℃，时间2小时；
步骤2：将烘干的玻璃基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空，当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，气体为氩气，功率为电压150V电流8A，对玻璃基片进行表面3分钟清洗；
步骤3：对玻璃基片内表面镀第一薄膜层
当真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材SiO2，第一薄膜层SiO2蒸发后以埃米级分子形式沉积于玻璃基片的内表面，同时控制第一薄膜层蒸镀速率为第一薄膜层最终形成后的厚度为190埃米；
步骤4：对基片内表面镀第二薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材Ti3O5，第二薄膜层Ti3O5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第一薄膜层上，同时控制第二薄膜层蒸镀速率为第二薄膜层最终形成后的厚度为137埃米；
步骤5：对基片内表面镀第三薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材SiO2，第三薄膜层SiO2蒸发后以埃米级分子形式沉积于第二薄膜层上，同时控制第三薄膜层蒸镀速率为第三薄膜层最终形成后的厚度为261埃米；
步骤6：对基片内表面镀第四薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材Ti3O5，第四薄膜层Ti3O5蒸发后以埃米级分子形式沉积于第三薄膜层上，同时控制第四薄膜层蒸镀速率为第四薄膜层最终形成后的厚度为1148埃米；
步骤7：对基片内表面镀第五薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材SiO2，第五薄膜层SiO2蒸发后以埃米级分子形式沉积于第四薄膜层上，同时控制第五薄膜层蒸镀速率为第五薄膜层最终形成后的厚度为863埃米；
步骤9：对基片内表面镀第六薄膜层
保持真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在200℃，采用钨舟加热第六薄膜层的膜材防水材料，第六薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于第五薄膜层上，同时控制第六薄膜层蒸镀速率为第六薄膜层最终形成后的厚度为10埃米。
性能检测
将实施例和对比例中的镜片进行测试，实施例1中镜片对波长在400-700nm的反射率见图1，可以看出其对波长在400-670nm的反射率均低于0.6％，有效的减小反射光强度，可以防止产生炫光、增加透光率，有效的保护佩戴者的眼睛。
实施例和对比例中的镜片的平均反射率及耐盐水浸泡时间见表1：
表1性能测试表
从表1可以看出，本发明所述方法制备的镜片对400-700nm的光波平均反射率小于等于0.45％，具有显著抗反射效果；在盐水浸泡实验中，可以耐受约300h的盐水浸泡而不褪色，耐腐蚀性能优异；在QUV测试中，可以耐约180h的抗氧化测试薄膜颜色不褪色，抗氧化性能好。
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (10)

1.一种埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，包括玻璃基片和设置在所述玻璃基片内表面的膜层，其特征在于：所述膜层包括由内向外依次层叠的第一薄膜层、第二薄膜层、第三薄膜层、第四薄膜层、第五薄膜层、第六薄膜层和第七薄膜层，其中，所述第一薄膜层为硅铝混合物，所述第二薄膜层为镍铬合金，厚度为100-500埃米，所述第三薄膜层为钛的氧化物，厚度为150-550埃米，所述第四薄膜层为硅铝混合物，厚度为10-310埃米，所述第五薄膜层为镍铬合金，厚度为10-300埃米，所述第六薄膜层为硅铝混合物，厚度为500-900埃米，所述第七薄膜层为防水层。
2.根据权利要求1所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，其特征在于：所述第一薄膜层的厚度为250-650埃米。
3.根据权利要求1所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，其特征在于：所述硅铝混合物为真空镀膜材料L5；
任选的，所述钛的氧化物为一氧化钛、二氧化钛或五氧化三钛中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，其特征在于：所述镍铬合金中镍质量含量为40％-90％，铬质量含量为10％-60％。
5.根据权利要求1-4中任一项所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片，其特征在于：所述第二薄膜层的厚度为200-400埃米；
任选的，所述第三薄膜层的厚度为240-460埃米；
任选的，所述第四薄膜层的厚度为40-210埃米；
任选的，所述第五薄膜层的厚度为40-200埃米；
任选的，所述第六薄膜层的厚度为610-790埃米。
6.一种权利要求1-5中任一项所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤1：对玻璃基片用水清洗，之后烘干；
步骤2：将烘干的玻璃基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空，控制真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr，开启离子源，气体为氩气，在电压100-200V电流5-10A条件下，对玻璃基片进行表面深度清洗；
步骤3：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第一薄膜层蒸镀速率为在玻璃基片内表面形成第一薄膜层；
步骤4：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材镍铬合金，控制第二薄膜层蒸镀速率为在第一薄膜层表面形成第二薄膜层；
步骤5：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材钛的氧化物，控制第三薄膜层蒸镀速率为在第二薄膜层表面形成第三薄膜层；
步骤6：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第四薄膜层蒸镀速率为在第三薄膜层表面形成第四薄膜层；
步骤7：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材镍铬合金，控制第五薄膜层蒸镀速率为在第四薄膜层表面形成第五薄膜层；
步骤8：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用电子枪轰击第六薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第六薄膜层蒸镀速率为在第五薄膜层表面形成第六薄膜层；
步骤9：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在150-400℃，采用钨舟加热第七薄膜层的膜材防水材料，控制第七薄膜层蒸镀速率为在第六薄膜层表面形成第七薄膜层。
7.根据权利要求6所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法，其特征在于：所述步骤1中所述烘干的温度为150-400℃，所述烘干的时间1-2小时。
8.根据权利要求6所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法，其特征在于：所述步骤2中开启离子源，在电压150V电流8A条件下，对玻璃基片进行表面3分钟深度清洗。
9.根据权利要求6-8中任一项所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
步骤1：对玻璃基片用水清洗，之后烘干；
步骤2：将烘干的玻璃基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空，控制真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr，开启离子源，气体为氩气，在电压100-200V电流5-10A条件下，对玻璃基片进行表面深度清洗；
步骤3：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第一薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第一薄膜层蒸镀速率为在玻璃基片内表面形成第一薄膜层；
步骤4：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第二薄膜层的膜材镍铬合金，控制第二薄膜层蒸镀速率为在第一薄膜层表面形成第二薄膜层；
步骤5：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第三薄膜层的膜材钛的氧化物，控制第三薄膜层蒸镀速率为在第二薄膜层表面形成第三薄膜层；
步骤6：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第四薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第四薄膜层蒸镀速率为在第三薄膜层表面形成第四薄膜层；
步骤7：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第五薄膜层的膜材镍铬合金，控制第五薄膜层蒸镀速率为在第四薄膜层表面形成第五薄膜层；
步骤8：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用电子枪轰击第六薄膜层的膜材硅铝混合物，控制第六薄膜层蒸镀速率为在第五薄膜层表面形成第六薄膜层；
步骤9：控制真空腔室真空度达到小于或等于1.5*10-5Torr时，且真空腔室的温度在210-300℃，采用钨舟加热第七薄膜层的膜材防水材料，控制第七薄膜层蒸镀速率为在第六薄膜层表面形成第七薄膜层。
10.运用权利要求6-9中任一项所述的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片的制备方法，制备得到的埃米抗氧化抗反射耐腐蚀镜片。
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