CN204196373U - 一种真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃，它的组成包括玻璃基片、第一介质层、第二介质层、第三介质层、第一减反射层、第二减反射层、第三减反射层、第四减反射层、第一保护层、第二保护层、第三保护层、第四保护层、第一功能层银层、第三功能层银层。该镀膜玻璃采用了双层功能层银层并通过控制各膜层的厚度实现了可钢双银低辐射的效果。本实用新型可经受钢化高温，满足切磨、钢化的需求，并且可以保证长期运输、储存过程中不易划伤、氧化，可实现大面积生产。
Description
技术领域
本实用新型涉及玻璃镀膜技术领域，尤其是涉及一种真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃。
背景技术
目前，为了满足对自然采光并且节能建筑玻璃幕墙的需求，低辐射镀膜玻璃存在钢化易脱膜氧化、透光率低、遮阳效果不佳、不易大面积生产的问题，开发了此更低辐射率、遮阳性能好的可钢双银低辐射镀膜玻璃产品。
实用新型内容
本实用新型的目的在于解决双银低辐射镀膜玻璃钢化易脱膜氧化、遮阳性能不佳、不易大面积生产的问题。
本实用新型通过以下技术方案得以实现：
一种真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片、第一介质层、第一减反射层、第一保护层、第一功能层银层、第二保护层、第二减反射层、第二介质层、第三减反射层、第三保护层、第三功能层银层、第四保护层、第四减反射层、第三介质层。
玻璃基片作为载体，第一介质层、第二介质层、第三介质层为耐腐蚀、耐高温、高硬度的氮化硅材料，第一保护层、第二保护层、第三保护层、第四保护层为镍铬合金，第一减反射层、第二减反射层、第三减反射层、第四减反射层为有低折射率属性的高纯氧化锌铝、第一功能层银层、第三功能层银层，按示意图顺序依次溅射在玻璃基片上。
生产工艺方式为真空磁控溅射，各膜层厚度控制精准，均匀性好、致密性好，钢化不易氧化脱膜，辐射率低至0.03左右，钢化后可见光透光率不低于60%，且产品在耐摩擦、耐水洗、抗氧化等方面均能满足生产要求本实用新型有益之处在于：
本实用新型的可钢双银低辐射镀膜玻璃解决了钢化易脱膜氧化、遮阳性能不佳、不易大面积生产的问题，具备更通透、更舒适的可见光透过，产品在耐摩擦、耐水洗、抗氧化等方面均能满足生产要求。
一种真空磁控溅射可钢高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片、第一介质层、第一减反射层、第一保护层、第一功能层银层、第二保护层、第二减反射层、第二介质层、第三减反射层、第三保护层、第三功能层银层、第四保护层、第四减反射层、第三介质层，其中：
玻璃基片为载体，第一介质层、第一减反射层、第一保护层、第一功能层银层、第二保护层、第二减反射层、第二介质层、第三减反射层、第三保护层、第三功能层银层、第四保护层、第四减反射层、第三介质层为溅射在玻璃基片（1）上的纳米级膜层。
第一功能层银层、第三功能层银层是实现低辐射功能的主要膜层，第一保护层、第二保护层、第三保护层、第四保护层为保护第一功能层银层、第三功能层银层的必备层；第一减反射层、第二减反射层、第三减反射层、第四减反射层为实现高可见光透光率的重要膜层。
所述的玻璃基片厚度范围为3~19毫米。
所述的第一保护层、第二保护层、第三保护层、第四保护层成分为镍铬合金。
所述第一介质层、第二介质层、第三介质层成分为氮化硅。
所述第一减反射层、第二减反射层、第三减反射层、第四减反射层成分为高纯氧化锌铝。
根据权利要求1所述的真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于采用了真空磁控溅射方式溅射出均匀致密的纳米级银层，把玻璃的辐射率由0.85降至0.03左右，钢化后可见光透光率不低于60%，且产品在耐摩擦、耐水洗、抗氧化等方面均能满足生产要求。
附图说明
下面将结合实施例和附图对本实用新型作进一步的详细描述：
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为本实用新型的膜层成分示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
如图1所示，一种真空磁控溅射可钢高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片1、第一介质层2、第一减反射层3、第一保护层4、第一功能层银层5、第二保护层6、第二减反射层7、第二介质层8、第三减反射层9、第三保护层10、第三功能层银层11、第四保护层12、第四减反射层13、第三介质层14，其中：
玻璃基片1为载体，质层12、第一减反射层3、第一保护层4、第一功能层银层5、第二保护层6、第二减反射层7、第二介质层8、第三减反射层9、第三保护层10、第三功能层银层11、第四保护层12、第四减反射层13、第三介质层14为溅射在玻璃基片1上的纳米级膜层。
第一功能层银层5、第三功能层银层11是实现低辐射功能的主要膜层，第一保护层4、第二保护层6、第三保护层10、第四保护层12为保护第一功能层银层5、第三功能层银层11的必备层；第一减反射层3、第二减反射层7、第三减反射层9、第四减反射层13为实现高可见光透光率的重要膜层。
所述的玻璃基片1厚度范围为3~19毫米。
所述的第一保护层4、第二保护层6、第三保护层10、第四保护层12成分为镍铬合金。
所述第一介质层2、第二介质层8、第三介质层14成分为氮化硅。
所述第一减反射层3、第二减反射层7、第三减反射层9、第四减反射层13成分高纯氧化锌铝。
如图1所示，一种真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片、第一介质层、第一减反射层、第一保护层、第一功能层银层、第二保护层、第二减反射层、第二介质层、第三减反射层、第三保护层、第三功能层银层、第四保护层、第四减反射层、第三介质层。
如图2 所示，在具体实施过程当中，采用真空背景为10-6mbar级别的真空环境，生产真空环境控制在10-3mbar 级别。工艺生产方式为磁控溅射，玻璃基片作载体，膜层溅射顺序依次为：氮化硅34->高纯氧化锌铝33->镍铬合金32->银层31->镍铬合金30->高纯氧化锌铝29->氮化硅28->高纯氧化锌铝27->镍铬合金26->银层25->镍铬合金24->高纯氧化锌铝23->氮化硅22。
Claims (6)
1.一种真空磁控溅射可钢高透低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片（1）、第一介质层（2）、第一减反射层（3）、第一保护层（4）、第一功能层银层（5）、第二保护层（6）、第二减反射层（7）、第二介质层（8）、第三减反射层（9）、第三保护层（10）、第三功能层银层（11）、第四保护层（12）、第四减反射层（13）、第三介质层（14），
其中，玻璃基片（1）为载体，第一介质层（2）、第一减反射层（3）、第一保护层（4）、第一功能层银层（5）、第二保护层（6）、第二减反射层（7）、第二介质层（8）、第三减反射层（9）、第三保护层（10）、第三功能层银层（11）、第四保护层（12）、第四减反射层（13）、第三介质层（14）为顺次溅射在玻璃基片（1）上的纳米级膜层，
第一保护层（4）和第二保护层（6）设于第一功能层银层（5）两侧，第三保护层（10）第四保护层（12）设于第三功能层银层（11）两侧，
第一减反射层（3）、第二减反射层（7）、第三减反射层（9）、第四减反射层（13）为实现高可见光透光率的重要膜层。
2.根据权利要求1所述的真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述的玻璃基片（1）厚度范围为3~19毫米。
3.根据权利要求1所述的真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述的第一保护层（4）、第二保护层（6）、第三保护层（10）、第四保护层（12）成分为镍铬合金。
4.根据权利要求1所述的真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述第一介质层（2）、第二介质层（8）、第三介质层（14）成分为氮化硅。
5.根据权利要求1所述的真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于所述第一减反射层（3）、第二减反射层（7）、第三减反射层（9）、第四减反射层（13）成分高纯氧化锌铝。
6.根据权利要求1所述的真空磁控溅射可钢双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于采用了真空磁控溅射方式溅射出均匀致密的纳米级银层。
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