CN201817402U - 可异地加工的双银低辐射玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种可异地加工的双银低辐射玻璃，包括浮法玻璃，其特征在于：自浮法玻璃向外依次包括电介质层(1)、电介质层(2)、保护层(1)、Ag层(1)、保护层(2)、隔层电介质层、保护层(3)、Ag层(2)、保护层(4)、电介质层(3)、电介质层(4)。本实用新型解决了现有技术中生产普通双银低辐射镀膜玻璃成本昂贵，玻璃均匀性不好，边缘效应严重，且只能采用先钢化后镀膜的生产方式，不能承受长途运输，易损坏的问题，本实用新型提供了一种质量可靠、具有较好隔热保温效果的可异地加工的双银低辐射玻璃。

Description

可异地加工的双银低辐射玻璃 

技术领域

本实用新型涉及一种镀膜玻璃，特别是涉及一种可异地加工的双银低辐射玻璃。 

背景技术

双银低辐射镀膜玻璃是通过磁控真空溅射的方法，在优质浮法玻璃表面均匀地镀制包括两层银在内的多层金属或金属氧化物(氮化物)的膜系产品，极大地降低了玻璃表面辐射率，并提高了玻璃对光谱的选择性。在任何气候环境下使用，均能达到控制阳光、节约能源、热量控制调节及改善环境。同时无论室内外温差有多少，只要装上低辐射玻璃，夏天防热能入室，冬天防热能泄露，具双向节能效果，这样室内花很少的空调费用便可永远维持冬暖夏凉的境地。 

目前市场上所使用的双银低辐射镀膜玻璃多为传统的生产方式，只能采用先钢化后镀膜的生产方式，但是采用此种生产方式制造成本昂贵，小型玻璃加工企业无法承受，且生产出的双银低辐射镀膜玻璃均匀性不好，边缘效应严重，不能承受长途运输，易损坏。 

实用新型内容

为了解决现有技术中生产普通双银低辐射镀膜玻璃成本昂贵，玻璃均匀性不好，边缘效应严重，且只能采用先钢化后镀膜的生产方式，不能承受长途运输易损坏的问题，本实用新型提供了一种质量可靠、具有较好隔热保温效果的可异地加工的双银低辐射玻璃。 

为了达到上述目的，本实用新型所采取的技术方案是： 

一种可异地加工的双银低辐射玻璃，包括浮法玻璃，其特征在于：自浮法玻璃向外依次包括电介质层1、电介质层2、保护层1、Ag层1、保护层2、隔层电介质层、保护层3、Ag层2、保护层4、电介质层3、电介质层4。 

前述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述电介质层1、电介质层2、隔层电介质层、电介质层3、电介质层4使用双旋转阴极、中频磁控溅射靶，溅射条件是：背景真空度在10^-6mbar条件下，充入Ar和反应气体(O₂或N₂)的混合气体，然后真空度保持在10^-3mb范围内。 

前述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述保护层1、保护层2、保护层3、保护层4使用平面阴极靶，溅射条件是：背景真空度在10^-6mbar条件下，充入Ar或Ar与反映气体(O₂或N₂)的混合气体，然后真空度保持在10^-3mbar范围内。 

前述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述的Ag层1、Ag层2使用平面阴极靶，溅射条件是：背景真空度在10^-6mbar条件下，充入Ar或Ar与少量O₂的混合气体，然后真空度保持在10^-3mbar范围内。 

本实用新型的有益效果是：本实用新型提供了一种可异地加工的双银低辐射玻璃，可实现先镀膜再进行改切、磨边、钢化等后续加工。在膜层中含有两层具有反射红外线能力的银层和具有减少可见光反射以及保护银层作用的电介质层、隔层电介质层，极大地降低了玻璃表面辐射率，起到了较好的隔热保温效果，同时也提高了整个玻璃的强度，抗氧化性能更好，能够承受长途运输，生产成本较低。 

附图说明

图1是本实用新型可异地加工的双银低辐射玻璃的结构示意图； 

图2是本实用新型一实施例的结构示意图。 

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步的描述。 

如图1所示，自浮法玻璃向外依次包括电介质层1、电介质层2、保护层1、Ag层1、保护层2、隔层电介质层、保护层3、Ag层2、保护层4、电介质层3、电介质层4。 

如图2所示，本实用新型提供的可异地加工的双银低辐射玻璃的一个实施例，其中，GLASS指新鲜透明的优质浮法玻璃，所述电介质层1是Si₃N₄，电介质层2是TiO₂，保护层1是NiCrOx，Ag层1是Ag，保护层2是NiCrOx，隔层电介质层是SnO₂，保护层3是NiCrOx，Ag层2是Ag，保护层4是NiCrOx，电介质层3是ZnSnO₃，电介质层4是Si₃N₄。 

且电介质层1的Si₃N₄的膜层厚度为6nm～7nm，电介质层2的TiO₂的膜层厚度为27nm～38nm，保护层1的NiCrOx的膜层厚度为1.0nm～1.5nm，Ag层1的膜层厚度为11nm～12nm，保护层2的NiCrOx的膜层厚度为1.0nm～1.5nm， 隔层电介质层SnO₂的膜层厚度为73.5nm～75nm，保护层3的NiCrOx的膜层厚度为1.0nm～1.5nm，Ag层2的膜层厚度为15nm～16nm，保护层4的NiCrOx的膜层厚度为1.0nm～1.5nm，电介质层3的ZnSnO3的膜层厚度为11nm～12nm，电介质层4的Si₃N₄的膜层厚度为30nm～31nm。 

上述膜层的加工工艺为： 

所有Si₃N₄膜层采用双阴极旋转靶在中频电源下溅射，工艺气体为Ar和N₂的混合气体，溅射功率为20kw～100kw，中频电源频率为20kHz～50kHz。 

TiO₂膜层采用双阴极旋转靶在中频电源下溅射，工艺气体为Ar和O₂的混合气体，溅射功率为20kw～100kw，中频电源频率为10kHz～50kHz。 

ZnSnO₃、SnO₂膜层采用双阴极旋转靶在中频电源下溅射，工艺气体为Ar和O₂的混合气体.溅射功率为10kw～100kw，中频电源频率为20kHz～50kHz。 

所有NiCrOx膜层采用平面阴极在直流电源下溅射，工艺气体为Ar和O₂的混合气体.溅射功率为3.5kw～7kw。 

所有Ag膜层采用平面阴极在直流电源下溅射，工艺气体为Ar，溅射功率为5kw～10kw。 

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。 

Claims (4)

1.一种可异地加工的双银低辐射玻璃，包括浮法玻璃，其特征在于：自浮法玻璃向外依次包括电介质层(1)、电介质层(2)、保护层(1)、Ag层(1)、保护层(2)、隔层电介质层、保护层(3)、Ag层(2)、保护层(4)、电介质层(3)、电介质层(4)。

2.根据权利要求1所述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述电介质层(1)、电介质层(2)、隔层电介质层、电介质层(3)、电介质层(4)使用双旋转阴极、中频磁控溅射靶。

3.根据权利要求1所述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述保护层(1)、保护层(2)、保护层(3)、保护层(4)使用平面阴极靶。

4.根据权利要求1所述的一种可异地加工的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述的Ag层(1)、Ag层(2)使用平面阴极靶。 

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