CN111908804B - 一种高透可钢双银低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

Abstract

本发明公开一种高透可钢双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅锆层、第一氮化硅层、第一氧化锌层、第一银层、第二氧化锌层、第二氮化硅层、第三氧化锌层、第二银层、第四氧化锌层、第三氮化硅层以及第二氮化硅锆层；该镀膜玻璃具有高透率过的同时具有较高的反射率，相较于常规双银镀膜玻璃具有更优异的耐加工性，且满足钢化要求。

Description

一种高透可钢双银低辐射镀膜玻璃

技术领域

本发明涉及镀膜玻璃技术领域，具体是一种高透可钢双银低辐射镀膜玻璃。

背景技术

低辐射镀膜玻璃不仅具有优异的隔热性能，其外观的选择性也较大，基本可满足市场不同用户的需求。为响应国家节能减排的号召，低辐射镀膜玻璃已大批量应用于建筑及汽车行业，从而变相的达到了政府对于环保这一项指标的要求。低辐射镀膜玻璃根据其膜层结构及节能效果特点，一般可分为单银、双银及三银三大类产品，其中单银产品节能效果相对最差，三银产品节能效果相对最为优异，其相应的加工成本及技术难度也最高。

目前，调查表明，就国内而言，人们对于低辐射与节能减排概念认知稍晚，市场上所流通的低辐射镀膜玻璃主要以单银产品为主，双银及三银产品较少。而国外对于低辐射镀膜玻璃应用较早，市场中双银产品几乎已经占据主导，三银产品的用量也在逐步增加。由此可见，双银及三银产品日后必将成为国内外市场中的主流产品。

双银低辐射镀膜玻璃由于其膜层结构的特殊性，一般双银产品多以中低透类型为主，且实现可钢化难度较大、后续深加工要求高。多数企业为了保证双银产品质量稳定性，选择以先钢后镀的方式来生产双银产品，这样一来，不仅降低了企业的生产效率，同时大大增加了镀膜成本。

发明内容

本发明的目的在于提供一种高透可钢双银低辐射镀膜玻璃，该镀膜玻璃具有高透率过的同时具有较高的反射率，相较于常规双银镀膜玻璃具有更优异的耐加工性，且满足钢化要求。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种高透可钢双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，所述玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅锆层、第一氮化硅层、第一氧化锌层、第一银层、第二氧化锌层、第二氮化硅层、第三氧化锌层、第二银层、第四氧化锌层、第三氮化硅层以及第二氮化硅锆层；

第一氮化硅锆层的厚度为10～20nm、第一氮化硅层的厚度为25～35nm、第一氧化锌层的厚度为5～10nm、第一银层的厚度为5～7nm、第二氧化锌层的厚度为5～15nm、第二氮化硅层的厚度为55～65nm、第三氧化锌层的厚度为5～10nm、第二银层的厚度为14～16nm、第四氧化锌层的厚度为5～15nm、第三氮化硅层的厚度为30～40nm、第二氮化硅锆层的厚度为10～20nm。

本发明的有益效果是，采用玻璃基底/第一氮化硅锆层/第一氮化硅层/第一氧化锌层/第一银层/第二氧化锌层/第二氮化硅层/第三氧化锌层/第二银层/第四氧化锌层/第三氮化硅层/第二氮化硅锆层的膜系结构；第一氮化硅锆层作为过渡层，第一氮化硅层、第二氧化锌层、第二氮化硅层、第四氧化锌层与第三氮化硅层作为介质层，第一氧化锌层与第三氧化锌层作为种子层，第一银层与第二银层作为功能层，第二氮化硅锆层作为保护层；采用本膜系结构使镀膜玻璃具有高透率过的同时具有较高的反射率，既保证了室内可获得充足的自然采光，同时也实现了因室外高反而保证了室内环境的隐私性；该镀膜玻璃相较于常规双银镀膜玻璃具有更优异的耐加工性，避免了在后续深加工过程中由于搬运、磨边及清洗过程中产生缺陷报废的情况；该玻璃满足钢化要求，钢化前后各项指标均满足使用要求；且该玻璃具有较高透过率，可以应用在对采光要求较高的北方地区，同时具备高透与节能两种特性。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：

图1是本发明的结构示意图。

具体实施方式

实施例一

如图1所示，本发明提供一种高透可钢双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底1，所述玻璃基底1顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅锆层2、第一氮化硅层3、第一氧化锌层4、第一银层5、第二氧化锌层6、第二氮化硅层7、第三氧化锌层8、第二银层9、第四氧化锌层10、第三氮化硅层11以及第二氮化硅锆层12。

各膜层采用磁控溅射的方式进行制备，溅射平面靶材选用直流电源，溅射旋转靶选用交流电源。镀膜本底真空度低于2.0×10^-6mbar，溅射靶材纯度高于99.9%，工艺气体纯度高于99.999%。

第一氮化硅锆层2的厚度为10nm，由硅锆旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氮气，沉积气压为0.006mbar（Ar：N₂=1:1.6）。

第一氮化硅层3的厚度为35nm，由硅铝旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氮气，沉积气压为0.005mbar（Ar：N₂=1:1.5）。

第一氧化锌层4的厚度为10nm，由锌铝旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氧气，沉积气压为0.007mbar（Ar：O₂=1:1.8）。

第一银层5的厚度为5nm，由纯银平面靶溅射所得，所用工艺气体为纯氩气，沉积气压为0.002mbar。

第二氧化锌层6的厚度为5nm，由氧化锌陶瓷旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氧气，沉积气压为0.004mbar（Ar：O₂=4:1）。

第二氮化硅层7的厚度为65nm，由硅铝旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氮气，沉积气压为0.005mbar（Ar：N₂=1:1.5）。

第三氧化锌层8的厚度为10nm，由锌铝旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氧气，沉积气压为0.007mbar（Ar：O₂=1:1.8）。

第二银层9的厚度为16nm，由纯银平面靶溅射所得，所用工艺气体为纯氩气，沉积气压为0.002mbar。

第四氧化锌层10的厚度为5nm，由氧化锌陶瓷旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氧气，沉积气压为0.004mbar（Ar：O₂=4:1）。

第三氮化硅层11的厚度为30nm，由硅铝旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氮气，沉积气压为0.005mbar（Ar：N₂=1:1.5）。

第二氮化硅锆层12的厚度为20nm，由硅锆旋转靶溅射后反应所得，所用工艺气体为氩气与氮气，沉积气压为0.006mbar（Ar：N₂=1:1.6）。

为了更加直观的表明各膜层，以表格的形式进行说明，见表1：

表1

对本实施例镀膜玻璃进行光学检测，结果见表2：

表2

实施例二

本实施例的膜系结构与实施例一基本一致，区别在于膜层厚度，以表格的形式进行说明，见表3：

表3

对本实施例镀膜玻璃进行光学检测，结果见表4：

表4

实施例三

本实施例的膜系结构与实施例一基本一致，区别在于膜层厚度，以表格的形式进行说明，见表5：

表5

对本实施例镀膜玻璃进行光学检测，结果见表6：

表6

以上所述，仅是本发明的较佳实施例而已，并非对本发明作任何形式上的限制；任何熟悉本领域的技术人员，在不脱离本发明技术方案范围情况下，都可利用上述揭示的方法和技术内容对本发明技术方案做出许多可能的变动和修饰，或修改为等同变化的等效实施例。因此，凡是未脱离本发明技术方案的内容，依据本发明的技术实质对以上实施例所做的任何简单修改、等同替换、等效变化及修饰，均仍属于本发明技术方案保护的范围内。

Claims (1)

1.一种高透可钢双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基底，其特征在于，所述玻璃基底顶面由下至上依次层叠有第一氮化硅锆层、第一氮化硅层、第一氧化锌层、第一银层、第二氧化锌层、第二氮化硅层、第三氧化锌层、第二银层、第四氧化锌层、第三氮化硅层以及第二氮化硅锆层；

第一氮化硅锆层的厚度为10～20nm、第一氮化硅层的厚度为25～35nm、第一氧化锌层的厚度为5～10nm、第一银层的厚度为5～7nm、第二氧化锌层的厚度为5～15nm、第二氮化硅层的厚度为55～65nm、第三氧化锌层的厚度为5～10nm、第二银层的厚度为14～16nm、第四氧化锌层的厚度为5～15nm、第三氮化硅层的厚度为30～40nm、第二氮化硅锆层的厚度为10～20nm。

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