CN109628880A - 一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片及其制备方法，所述抗氧化抗腐蚀带图案的镜片包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层，所述打底层由第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成；所述图案层由图案和第三硅铝混合物层组成；所述抗氧化抗腐蚀层由第四硒层和第五金属氧化物层组成，所述变色层包括第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成。本发明所述抗氧化抗腐蚀带图案的镜片具有较好的抗氧化、抗腐蚀效果，且图案和镜片呈现丰富多彩的不同颜色，不褪色、不影响佩戴者视线，具有较好的市场前景。

Description

一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片及其制备方法
技术领域
本发明涉及变色镜片制备技术，尤其是一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片及其制备方法。
背景技术
太阳镜运用广泛，其中彩色太阳镜采用特殊的化学物质，使得镜片具有特定的颜色。为了开发多样化的镜片，在彩色镜片上加载图案成为一种时尚趋势。通常，太阳镜整体体现一种颜色，图案也与整体镜片的颜色一致，难以实现图案颜色的多样化。而且图案加载后，容易在图案边缘留下与上、下层重叠产生的分解线，影响视觉效果。图案是否稳定存在，不易发生氧化变色，也是很重要的一点。现有技术中带图案的太阳镜颜色单一，图案与镜片的结合力差，易氧化变色，同时存在一定程度影响佩戴者视线的问题。
发明内容
本发明的目的是为了克服现有的太阳镜中存在的图案与镜片颜色单一、结合力差、图案影响视线的问题，提供一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片及其制备方法，通过变色层和图案层配合，视线一个镜片，两种颜色：图案呈一种颜色，镜片整体呈另一种颜色。
具体方案如下：
一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层，所述打底层由第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成，其中所述第二金属氧化物层与所述图案层紧邻；所述图案层由图案和第三硅铝混合物层组成；所述抗氧化抗腐蚀层由第四硒层和第五金属氧化物层组成，所述变色层包括第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成。
进一步的，所述膜层覆盖在所述基片的一个侧面。
进一步的，所述基片为亚克力基片、聚碳酸酯基片、尼龙基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一种。
进一步的，所述第一硅铝混合物层或第三硅铝混合物层为真空镀膜材料L5形成的镀层；
任选的，所述第六低折射率薄膜层或第八低折射率薄膜层为SiO2、真空镀膜材料L5或MgF2中的任意一种形成的镀层。
进一步的，所述第二金属氧化物层、第五金属氧化物层或第七金属氧化物层为ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一种形成的镀层；
任选的，所述图案层中的图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种；
任选的，所述变色层由第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成；
任选的，所述保护层为防水材料层。
进一步的，所述打底层中第一硅铝混合物层的厚度为50-150埃米，第二金属氧化物层的厚度为100-200埃米；所述图案层中第三硅铝混合物层的厚度为100-1500埃米；所述抗氧化抗腐蚀层中的第四硒层厚度为200-400埃米，第五金属氧化物层厚度为100-1900埃米；所述变色层的厚度为1000-4000埃米；所述保护层的厚度为10-280埃米。
进一步的，所述打底层中第一硅铝混合物层的厚度为100埃米，第二金属氧化物层的厚度为150埃米；所述图案层中第三硅铝混合物层的厚度为900埃米；所述抗氧化抗腐蚀层中的第四硒层厚度为300埃米，第五金属氧化物层厚度为1600埃米；所述变色层的厚度为3100埃米；所述保护层的厚度为150埃米。
一种所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片的制备方法，包括以下步骤：
(1)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-65℃，时间1-3小时；
(2)依次对基片的外表面进行打底层真空镀膜；
A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；
B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗；
C、对基片外表面镀打底层
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第一硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一硅铝混合物层蒸镀速率为第一硅铝混合物层最终形成后的厚度为50-150埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第二金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第二金属氧化物层蒸镀速率为第二金属氧化物层最终形成后的厚度为100-200埃米，形成打底层；
(3)打底层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后在基片打底层上印刷或贴合镀膜图案；
(4)将基片排放在治具上，放入真空腔室抽真空，并进行图案层镀膜；
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第三硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第三硅铝混合物层蒸镀速率为第三硅铝混合物层最终形成后的厚度为100-1500埃米；
(5)图案层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后对基片进行去除油墨或者去除铜模板或者去除静电贴；
(6)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-60℃，时间20-40分钟；
(7)依次对基片的外表面进行抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层真空镀膜；
A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；
B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗
C、对基片外表面进行抗氧化抗腐蚀层镀膜
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第四硒层的膜材硒，硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第四硒层蒸镀速率为第四硒层最终形成后的厚度为200-400埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第五金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第五金属氧化物层蒸镀速率为然后形成抗氧化抗腐蚀层；
D、对基片外表面进行变色层镀膜
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第六低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第六低折射率薄膜层蒸镀速率为
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第七金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第七金属氧化物层蒸镀速率为
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第八低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第八低折射率薄膜层蒸镀速率为然后形成变色层；
E、对基片外表面进行镀保护层镀膜
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用钨舟加热第九薄膜层的膜材防水材料，第九薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第九薄膜层蒸镀速率为第九薄膜层最终形成后的厚度为10-280埃米，作为保护层。
进一步的，所述第六低折射率薄膜层或第八低折射率薄膜层的膜材为SiO2、真空镀膜材料L5或MgF2中的任意一种；
任选的，所述第二金属氧化物层、第五金属氧化物层或第七金属氧化物层的膜材为ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一种。
进一步的，所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片的制备方法，包括以下步骤：
(1)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-65℃，时间1-3小时；
(2)依次对基片的外表面进行打底层真空镀膜；
A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；
B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，气体为氩气，功率为电压150V电流8A，对基片进行表面2分钟清洗；
C、对基片外表面镀打底层
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第一硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一硅铝混合物层蒸镀速率为第一硅铝混合物层最终形成后的厚度为50-150埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第二金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第二金属氧化物层蒸镀速率为第二金属氧化物层最终形成后的厚度为100-200埃米，形成打底层；
(3)打底层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后在基片打底层上印刷或贴合镀膜图案；
(4)将基片排放在治具上，放入真空腔室抽真空，并进行图案层镀膜；
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第三硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第三硅铝混合物层蒸镀速率为第三硅铝混合物层最终形成后的厚度为100-1500埃米；
(5)图案层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后对基片进行去除油墨或者去除铜模板或者去除静电贴；
(6)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-60℃，时间20-40分钟；
(7)依次对基片的外表面进行抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层真空镀膜；
A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；
B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗
C、对基片外表面进行抗氧化抗腐蚀层镀膜
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第四硒层的膜材硒，硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第四硒层蒸镀速率为第四硒层最终形成后的厚度为200-400埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第五金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第五金属氧化物层蒸镀速率为然后形成抗氧化抗腐蚀层；
D、对基片外表面进行变色层镀膜
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第六低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第六低折射率薄膜层蒸镀速率为
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第七金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第七金属氧化物层蒸镀速率为
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第八低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第八低折射率薄膜层蒸镀速率为然后形成变色层；
E、对基片外表面进行镀保护层镀膜
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用钨舟加热第九薄膜层的膜材防水材料，第九薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第九薄膜层蒸镀速率为第九薄膜层最终形成后的厚度为10-280埃米，作为保护层。
有益效果：本发明所述抗氧化抗腐蚀带图案的镜片采用硒结合金属氧化物在高真空下沉积在基片表面，具有较好的抗氧化、抗腐蚀效果。
再则，本发明中利用变色层和图案层相配合，使得图案和镜片呈现丰富多彩的不同颜色，满足不同客人需求，且图案清晰逼真，不褪色、不影响佩戴者视线，具有较好的市场前景。
进一步的，本发明中打底层采用第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成，膜层粘附力高，并丰富了镜片和图案的颜色，提升了镜片的品质。
具体实施方式
下面给出本发明中使用的部分术语的定义，其他未述及的术语具有本领域所公知的定义和含义：
基片：基片可以是平面镜片，也可以是具有一定弧度的镜片。
外表面：本发明中外表面是指镜片在使用状态下，相对于佩戴者而言，位于外侧的一面。
埃米/秒，用于表征粒子沉积形成薄膜生长的速度。
本发明中，打底层采用第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层相结合，相比单独的硅铝混合物打底，可以增强膜层的附着力，且第二金属氧化物层与第一硅铝混合物层构成“高-低”折射率交错，从而镜片的颜色变化范围更加丰富和容易实现。
本发明中图案层中的图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种。制作时，图案印刷或者贴合在打底层上，利用打底层增强图案与膜层的结合力，打底层由第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成，优选第二金属氧化物层与图案层紧邻。油印或者贴合图案之后，进行第三低折射率薄膜层镀膜，利用空白区域与镀膜区域之间的反差效果形成图案形状；与此同时，图案位于第二金属氧化物层(高折射率层)与第三低折射率薄膜层之间，可以有效降低光的强度，减弱图案亮度，达到特殊的视觉效果，即：佩戴者自身观察时几乎感受不到图案的存在，保证了镜片的视线完整，而旁观者可以看见清晰的图案，提升镜片的美感和时尚效果。
本发明中变色层是镜片颜色设计的关键，不同的变色层设计，镜片的整体颜色及图案的颜色不同。优选为3层，即由第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成，例如：厚度分别为1500埃米、800埃米、800埃米，从而镜片为红色，图案为紫蓝色。膜层的厚度与材料相结合，可以实现最佳的颜色配合效果。
本发明中，第二金属氧化物层、第五金属氧化物层或第七金属氧化物层，膜材为ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一种。
本发明中，第六低折射率薄膜层或第八低折射率薄膜层，膜材为SiO2、真空镀膜材料L5或MgF2中的任意一种，优选为真空镀膜材料L5。第一硅铝混合物层或第三硅铝混合物层的膜材硅铝混合物，硅铝混合物可以是SiO2与Al2O3的混合物，例如Al2O3占硅铝混合物总重的2-6％，更优选为Al2O3占硅铝混合物总重的3-3.5％。该材料可以自制，也可以采用市售产品，优选为真空镀膜材料L5。其中真空镀膜材料L5，中国通用名称“硅铝混合物”，“L5”是其德国通用名称，该材料可由默克光学公司、南阳恺瑞特光学新材料有限公司或苏州普京真空技术有限公司提供，常用规格为1-3mm散粒，白色。
本发明所述抗氧化抗腐蚀带图案的镜片的制备方法中，镀膜采用真空镀膜机，为常规设备，例如龙翩真空科技股份有限公司提供的真镀膜机，配合美国考夫曼公司提供的KRI离子源设备。镀膜的关键在于真空腔室的温度和粒子沉积的速度。采用40-60℃优点是提升薄膜的附着度，需要说明的是，为了描述简洁，在制备方法的介绍中均以基片指代完成上一操作步骤的基片，而不是空白基片。
下面将更详细地描述本发明的优选实施方式。虽然以下描述了本发明的优选实施方式，然而应该理解，可以以各种形式实现本发明而不应被这里阐述的实施方式所限制。实施例中未注明具体技术或条件者，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。在下面的实施例中，如未明确说明，“％”均指重量百分比。
以下使用的测试方法包括：
耐腐蚀测试：使用质量浓度为4.5％的盐水浸泡镜片，记录镜片表面薄膜颜色开始出现褪色的时间。
抗氧化测试：使用QUV测试仪，UV辐照：强度0.67W/m2，温度60℃，辐照4小时；冷凝：温度50℃时间4H。UV辐照与冷凝循环测试，记录薄膜颜色开始出现褪色的时间。
以下使用的主要试剂包括：
真空镀膜材料L5，市售产品，由默克光学公司提供；硒，市售产品，由科特莱斯科有限公司提供。
防水材料，市售产品，由丹阳市科达镀膜材料有限公司提供。
实施例1
一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括依次层叠的基片、第一硅铝混合物层、第二金属氧化物层、图案、第三硅铝混合物层、第四硒层、第五金属氧化物层、第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层和防水层。其中，第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成打底层，图案和第三硅铝混合物层为一层，图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种，第四硒层和第五金属氧化物层组成为抗氧化抗腐蚀层，第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层和第八低折射率薄膜层为变色层，防水层作为保护层。
具体的，镜片基片为尼龙基片，第一硅铝混合物层为L5，厚度为100埃米，第二金属氧化物层为ZrO2，厚度为150埃米，第三硅铝混合物层为L5，厚度为150埃米，第四硒层的厚度为300埃米，第五金属氧化物层为ZrO2，厚度为300埃米，第六低折射率薄膜层为L5，厚度为1500埃米，第七金属氧化物层为ZrO2，厚度为200埃米，第八低折射率薄膜层为L5，厚度为900埃米，第九薄膜层的厚度为200埃米。所制备的镜片为金黄色镜片，镜片中的图案呈现紫红色。
制备上述镜片的步骤如下：
(1)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-65℃，时间1-2小时；
(2)依次对基片的外表面进行打底层真空镀膜；
A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；
B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，气体为氩气，功率为电压150V电流8A，对基片进行表面2分钟清洗；
C、对基片外表面镀打底层
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第一硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一硅铝混合物层蒸镀速率为第一硅铝混合物层最终形成后的厚度为100埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第二金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第二金属氧化物层蒸镀速率为第二金属氧化物层最终形成后的厚度为150埃米，形成打底层；
(3)打底层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后在基片打底层上印刷或贴合镀膜图案；
(4)将基片排放在治具上，放入真空腔室抽真空，并进行图案层镀膜；
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第三硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第三硅铝混合物层蒸镀速率为第三硅铝混合物层最终形成后的厚度为150埃米；
(5)图案层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后对基片进行去除油墨或者去除铜模板或者去除静电贴；
(6)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-60℃，时间20-40分钟；
(7)依次对基片的外表面进行抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层真空镀膜；
A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；
B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗
C、对基片外表面进行抗氧化抗腐蚀层镀膜
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第四硒层的膜材硒，硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第四硒层蒸镀速率为第四硒层最终形成后的厚度为300埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第五金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第五金属氧化物层蒸镀速率为厚度为300埃米，然后形成抗氧化抗腐蚀层；
D、对基片外表面进行变色层镀膜
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第六低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第六低折射率薄膜层蒸镀速率为厚度为1500埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第七金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第七金属氧化物层蒸镀速率为厚度为200埃米；
持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第八低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第八低折射率薄膜层蒸镀速率为厚度为900埃米，然后形成变色层；
E、对基片外表面进行镀保护层镀膜
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用钨舟加热第九薄膜层的膜材防水材料，第九薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第九薄膜层蒸镀速率为第九薄膜层最终形成后的厚度为200埃米，作为保护层。
实施例2
一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括依次层叠的基片、第一硅铝混合物层、第二金属氧化物层、图案、第三硅铝混合物层、第四硒层、第五金属氧化物层、第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层、第九金属氧化物层、第十低折射率薄膜层和防水层。其中，第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成打底层，图案和第三硅铝混合物层为一层，图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种，第四硒层和第五金属氧化物层组成为抗氧化抗腐蚀层，第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层、第九金属氧化物层、第十低折射率薄膜层为变色层，防水层作为保护层。
具体的，镜片基片为亚克力基片，第一硅铝混合物层为L5，厚度为130埃米，第二金属氧化物层为Ti3O5，厚度为180埃米，第三硅铝混合物层为L5，厚度为1100埃米，第四硒层的厚度为350埃米，第五金属氧化物层为Ti3O5，厚度为1000埃米，第六低折射率薄膜层为L5，厚度为1400埃米，第七金属氧化物层为Ti3O5，厚度为150埃米，第八低折射率薄膜层为L5，厚度为140埃米，第九金属氧化物层为Ti3O5，厚度为1000埃米，第十低折射率薄膜层为L5，厚度为600埃米，第十一薄膜层厚度为260埃米。所制备的镜片为紫蓝镜片，镜片中的图案呈现绿色。
镜片的制备方法同实施例1，其区别在于，由于镜片结构设计的改变，镀膜程序应作相应改变，镀膜时的蒸镀速率可以在上述基础上进行±20％的变化，还包含膜材的更改、膜层厚度的变化以及层数变化等，其中第第九金属氧化物层、第十低折射率薄膜层、第十一薄膜层的制备可按照以下进行：
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第九金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第九金属氧化物层蒸镀速率为厚度为1000埃米；
持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第十低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第十低折射率薄膜层蒸镀速率为厚度为600埃米，然后形成变色层；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用钨舟加热第十一薄膜层的膜材防水材料，第十一薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第十一薄膜层蒸镀速率为第十一薄膜层最终形成后的厚度为260埃米，作为保护层。
实施例3
一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括依次层叠的基片、第一硅铝混合物层、第二金属氧化物层、图案、第三硅铝混合物层、第四硒层、第五金属氧化物层、第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层和防水层。其中，第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成打底层，图案和第三硅铝混合物层为一层，图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种，第四硒层和第五金属氧化物层组成为抗氧化抗腐蚀层，第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层为变色层，防水层作为保护层。
具体的，镜片基片为亚克力基片，第一硅铝混合物层为L5，厚度为100埃米，第二金属氧化物层为Ti3O5，厚度为150埃米，第三硅铝混合物层为L5，厚度为900埃米，第四硒层的厚度为300埃米，第五金属氧化物层为Ti3O5，厚度为1600埃米，第六低折射率薄膜层为L5，厚度为1900埃米，第七金属氧化物层为Ti3O5，厚度为600埃米，第八低折射率薄膜层为L5，厚度为600埃米，防水层厚度为260埃米。
实施例4
一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括依次层叠的基片、第一硅铝混合物层、第二金属氧化物层、图案、第三硅铝混合物层、第四硒层、第五金属氧化物层、第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层、第九金属氧化物层和防水层。其中，第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成打底层，图案和第三硅铝混合物层为一层，图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种，第四硒层和第五金属氧化物层组成为抗氧化抗腐蚀层，第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层、第九金属氧化物层为变色层，防水层作为保护层。
具体的，镜片基片为亚克力基片，第一硅铝混合物层为L5，厚度为130埃米，第二金属氧化物层为Ti3O5，厚度为180埃米，第三硅铝混合物层为L5，厚度为1100埃米，第四硒层的厚度为350埃米，第五金属氧化物层为Ti3O5，厚度为1000埃米，第六低折射率薄膜层为L5，厚度为1600埃米，第七金属氧化物层为Ti3O5，厚度为500埃米，第八低折射率薄膜层为L5，厚度为500埃米，第九金属氧化物层为Ti3O5，厚度为1400埃米，防水层厚度为260埃米。
实施例5
一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括依次层叠的基片、第一硅铝混合物层、第二金属氧化物层、图案、第三硅铝混合物层、第四硒层、第五金属氧化物层、第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层和防水层。其中，第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成打底层，图案和第三硅铝混合物层为一层，图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种，第四硒层和第五金属氧化物层组成为抗氧化抗腐蚀层，第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层为变色层，防水层作为保护层。
具体的，镜片基片为CR-39基片，第一硅铝混合物层为SiO2，厚度为50埃米，第二金属氧化物层为ZrO2，厚度为200埃米，第三硅铝混合物层为SiO2，厚度为100埃米，第四硒层的厚度为400埃米，第五金属氧化物层为ZrO2，厚度为1900埃米，第六低折射率薄膜层为SiO2，厚度为800埃米，第七金属氧化物层为ZrO2，厚度为100埃米，第八低折射率薄膜层为SiO2，厚度为100埃米，防水层厚度为280埃米。
实施例6
一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括依次层叠的基片、第一硅铝混合物层、第二金属氧化物层、图案、第三硅铝混合物层、第四硒层、第五金属氧化物层、第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层和防水层。其中，第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成打底层，图案和第三硅铝混合物层为一层，图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种，第四硒层和第五金属氧化物层组成为抗氧化抗腐蚀层，第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层、为变色层，防水层作为保护层。
具体的，镜片基片为玻璃基片，第一硅铝混合物层为L5，厚度为150埃米，第二金属氧化物层为Ta2O5，厚度为100埃米，第三硅铝混合物层为MgF2，厚度为1500埃米，第四硒层的厚度为200埃米，第五金属氧化物层为Ta2O5，厚度为100埃米，第六低折射率薄膜层为MgF2，厚度为1700埃米，第七金属氧化物层为Ta2O5，厚度为300埃米，第八低折射率薄膜层为MgF2，厚度为300埃米，防水层厚度为10埃米。
对比例1
一种镜片，包括依次层叠的基片、第一硅铝混合物层、图案、第三硅铝混合物层、第四硒层、第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层和防水层。其中，第一硅铝混合物层为打底层，图案和第三硅铝混合物层为一层，图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种，第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层、第八低折射率薄膜层为变色层，防水层作为保护层。
具体的，镜片基片为亚克力基片，第一硅铝混合物层为L5，厚度为100埃米，第三硅铝混合物层为L5，厚度为900埃米，第四硒层的厚度为300埃米，第六低折射率薄膜层为L5，厚度为1900埃米，第七金属氧化物层为Ti3O5，厚度为600埃米，第八低折射率薄膜层为L5，厚度为600埃米，防水层厚度为260埃米。
对比例2
一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括依次层叠的基片、第一硅铝混合物层、第二金属氧化物层、图案、第三硅铝混合物层、第四硒层、第五金属氧化物层、第六低折射率薄膜层和防水层。其中，第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成打底层，图案和第三硅铝混合物层为一层，图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种，第四硒层和第五金属氧化物层组成为抗氧化抗腐蚀层，第六低折射率薄膜层为变色层，防水层作为保护层。
具体的，镜片基片为亚克力基片，第一硅铝混合物层为L5，厚度为80埃米，第二金属氧化物层为Ti3O5，厚度为120埃米，第三硅铝混合物层为L5，厚度为100埃米，第四硒层的厚度为200埃米，第五金属氧化物层为Ti3O5，厚度为950埃米，第六低折射率薄膜层为L5，厚度为1000埃米，防水层厚度为150埃米。
所制备的镜片为亮白色镜片，镜片中的图案呈现蓝色。
性能检测
对实施例和对比例中的镜片进行性能测试，耐腐蚀性和抗氧化性能见表1：
表1性能测试表
以上详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于上述实施方式中的具体细节，在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，这些简单变型均属于本发明的保护范围。
另外需要说明的是，在上述具体实施方式中所描述的各个具体技术特征，在不矛盾的情况下，可以通过任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。
此外，本发明的各种不同的实施方式之间也可以进行任意组合，只要其不违背本发明的思想，其同样应当视为本发明所公开的内容。

Claims (10)

1.一种抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，包括基片和设置在所述基片外表面的膜层，其特征在于：所述膜层包括由内向外依次层叠的打底层、图案层、抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层，所述打底层由第一硅铝混合物层和第二金属氧化物层组成，其中所述第二金属氧化物层与所述图案层紧邻；所述图案层由图案和第三硅铝混合物层组成；所述抗氧化抗腐蚀层由第四硒层和第五金属氧化物层组成，所述变色层包括第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成。
2.根据权利要求1所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述膜层覆盖在所述基片的一个侧面。
3.根据权利要求1所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述基片为亚克力基片、聚碳酸酯基片、尼龙基片、CR-39基片或玻璃基片的任意一种。
4.根据权利要求1所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述第一硅铝混合物层或第三硅铝混合物层为真空镀膜材料L5形成的镀层；
任选的，所述第六低折射率薄膜层或第八低折射率薄膜层为SiO2、真空镀膜材料L5或MgF2中的任意一种形成的镀层。
5.根据权利要求1所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述第二金属氧化物层、第五金属氧化物层或第七金属氧化物层为ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一种形成的镀层；
任选的，所述图案层中的图案为油墨印刷图案、铜模板贴合图案或静电贴贴合图案中的任意一种；
任选的，所述变色层由第六低折射率薄膜层、第七金属氧化物层及第八低折射率薄膜层组成；
任选的，所述保护层为防水材料层。
6.根据权利要求1所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述打底层中第一硅铝混合物层的厚度为50-150埃米，第二金属氧化物层的厚度为100-200埃米；所述图案层中第三硅铝混合物层的厚度为100-1500埃米；所述抗氧化抗腐蚀层中的第四硒层厚度为200-400埃米，第五金属氧化物层厚度为100-1900埃米；所述变色层的厚度为1000-4000埃米；所述保护层的厚度为10-280埃米。
7.根据权利要求6所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片，其特征在于：所述打底层中第一硅铝混合物层的厚度为100埃米，第二金属氧化物层的厚度为150埃米；所述图案层中第三硅铝混合物层的厚度为900埃米；所述抗氧化抗腐蚀层中的第四硒层厚度为300埃米，第五金属氧化物层厚度为1600埃米；所述变色层的厚度为3100埃米；所述保护层的厚度为150埃米。
8.权利要求1-7任一项所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
(1)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-65℃，时间1-3小时；
(2)依次对基片的外表面进行打底层真空镀膜；
A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；
B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗；
C、对基片外表面镀打底层
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第一硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一硅铝混合物层蒸镀速率为第一硅铝混合物层最终形成后的厚度为50-150埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第二金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第二金属氧化物层蒸镀速率为第二金属氧化物层最终形成后的厚度为100-200埃米，形成打底层；
(3)打底层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后在基片打底层上印刷或贴合镀膜图案；
(4)将基片排放在治具上，放入真空腔室抽真空，并进行图案层镀膜；
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第三硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第三硅铝混合物层蒸镀速率为第三硅铝混合物层最终形成后的厚度为100-1500埃米；
(5)图案层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后对基片进行去除油墨或者去除铜模板或者去除静电贴；
(6)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-60℃，时间20-40分钟；
(7)依次对基片的外表面进行抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层真空镀膜；
A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；
B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗
C、对基片外表面进行抗氧化抗腐蚀层镀膜
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第四硒层的膜材硒，硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第四硒层蒸镀速率为第四硒层最终形成后的厚度为200-400埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第五金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第五金属氧化物层蒸镀速率为然后形成抗氧化抗腐蚀层；
D、对基片外表面进行变色层镀膜
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第六低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第六低折射率薄膜层蒸镀速率为
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第七金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第七金属氧化物层蒸镀速率为
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第八低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第八低折射率薄膜层蒸镀速率为然后形成变色层；
E、对基片外表面进行镀保护层镀膜
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用钨舟加热第九薄膜层的膜材防水材料，第九薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第九薄膜层蒸镀速率为第九薄膜层最终形成后的厚度为10-280埃米，作为保护层。
9.根据权利要求8所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片的制备方法，其特征在于：所述第六低折射率薄膜层或第八低折射率薄膜层的膜材为SiO2、真空镀膜材料L5或MgF2中的任意一种；
任选的，所述第二金属氧化物层、第五金属氧化物层或第七金属氧化物层的膜材为ZrO2、Ti3O5或Ta2O5中的任意一种。
10.根据权利要求8或9所述的抗氧化抗腐蚀带图案的镜片的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：
(1)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-65℃，时间1-3小时；
(2)依次对基片的外表面进行打底层真空镀膜；
A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；
B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，气体为氩气，功率为电压150V电流8A，对基片进行表面2分钟清洗；
C、对基片外表面镀打底层
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第一硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第一硅铝混合物层蒸镀速率为第一硅铝混合物层最终形成后的厚度为50-150埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第二金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第二金属氧化物层蒸镀速率为第二金属氧化物层最终形成后的厚度为100-200埃米，形成打底层；
(3)打底层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后在基片打底层上印刷或贴合镀膜图案；
(4)将基片排放在治具上，放入真空腔室抽真空，并进行图案层镀膜；
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第三硅铝混合物层的膜材L5，L5蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第三硅铝混合物层蒸镀速率为第三硅铝混合物层最终形成后的厚度为100-1500埃米；
(5)图案层镀膜完成后，对真空腔室冲入大气，然后取出基片，然后对基片进行去除油墨或者去除铜模板或者去除静电贴；
(6)对基片进行清洗、烘干，烘烤温度40-60℃，时间20-40分钟；
(7)依次对基片的外表面进行抗氧化抗腐蚀层、变色层和保护层真空镀膜；
A、将烘干的基片摆放在治具上，送入真空腔室抽真空；
B、当真空腔室真空度达到小于或等于5*10-5Torr时，开启离子源，对基片进行表面清洗
C、对基片外表面进行抗氧化抗腐蚀层镀膜
当真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，并控制真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第四硒层的膜材硒，硒蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第四硒层蒸镀速率为第四硒层最终形成后的厚度为200-400埃米；
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第五金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第五金属氧化物层蒸镀速率为然后形成抗氧化抗腐蚀层；
D、对基片外表面进行变色层镀膜
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第六低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第六低折射率薄膜层蒸镀速率为
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第七金属氧化物层的膜材金属氧化物，金属氧化物蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第七金属氧化物层蒸镀速率为
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用电子枪轰击第八低折射率薄膜层的膜材，膜材蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第八低折射率薄膜层蒸镀速率为然后形成变色层；
E、对基片外表面进行镀保护层镀膜
保持真空腔室真空度达到小于或等于2.0*10-5Torr时，同时保持真空腔室的温度在40-60℃，采用钨舟加热第九薄膜层的膜材防水材料，第九薄膜层蒸发后以埃米级分子形式沉积于基片的外表面，同时控制第九薄膜层蒸镀速率为第九薄膜层最终形成后的厚度为10-280埃米，作为保护层。
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