CN105398253A - 一种防伪材料及其制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及防伪技术，尤其涉及一种防伪材料及其制备方法。该防伪材料具有双层结构，顶层为功能层，底层为基底层；所述功能层由二种以上稀土氧化物模块组合而成，所述基底层是单晶硅，具有双重防伪信息；该防伪材料的制备方法，通过玻璃基底镀附着层、镀牺牲层、镀基材层，涂布第一次稀土氧化物粉末与光固胶的混合物，紫外线光源通过第一次淹模板，将涂布的混合物涂层曝光，显影、清洗，多次循环，再刻蚀基材层，刻蚀牺牲层，没有得到原始淹模板数据的话根本无法仿制。

Description

一种防伪材料及其制备方法

技术领域

本发明涉及防伪技术，尤其涉及一种防伪材料及其制备方法。

背景技术

现有技防伪术中，大多以水印、有色纤维、荧光油墨印刷、微点或微小记号的形体及随机分布等作为防伪手段。

比如，现有技术1，中国专利文献CN102108653A，公开的一种片状防伪材料，所述片状防伪材料采用正四边形以外的异形结构；且所述片状防伪材料由以下层状结构组成：纸质防伪载体层，其中所述纸质防伪载体为由至少两种纤维复配制造得到的纸张；以及防伪层。还公开了所述片状防伪材料的制备方法以及含有该片状防伪材料的防伪纸。本发明的片状防伪材料可以获得同时具备肉眼识别、快速机读、专家分析等多层次的防伪功能的防伪纸。

再比如，现有技术2，中国专利文献CN104610812A，公开的荧光硅纳米颗粒作为防伪标记的应用，由硅源制备荧光硅纳米颗粒，将得到的荧光硅纳米颗粒用做防伪墨水来制备防伪图案。由于硅纳米颗粒具有很好的荧光性质，量子产率高，储存稳定性好，具有良好的激发波长依赖性，制备的防伪图案在不同激发波长的光照下能显示不同颜色的光，能起到很好的防伪效果。

再比如，现有技术3，中国专利文献CN101673341A,公开的本发明涉及防伪技术，尤其涉及一种微点防伪方法。该方法包括以下步骤：(1)提供一种微点；(2)提供一种胶水，将微点混合于胶水之中；(3)向承载物上点混有微点的胶水；(4)固化胶水；(5)拍照胶滴，形成原始对比图片；(6)原始对比图片存入后台数据库；(7)防伪验证拍照胶滴，形成被比图片；(8)读取后台数据库原始对比图片，与被比图片比较，作出真伪判断；其中，第(5)步所述的拍照胶滴，为放大拍照；第(7)步所述的防伪验证拍照胶滴，也是放大拍照。本发明提供一种不可仿制的微点防伪方法。与此相对应，中国专利文献CN102267287A公开了一种类似的一种微点防伪印记的制备方法及实现该方法的装置。微点防伪印记的制备方法包括以下步骤：S1，提供一种微点标记物，提供一种墨水；S2，混墨，即将微点标记物与墨水混合均匀；S3，提供至少二个喷头，提供目标物；S4，喷射，通过喷头将混有微点标记物的墨水喷向标的物；S5，干燥混有微点标记物的墨水；在喷射过程中，混墨步骤连续地进行，混墨、向喷头供墨、喷射是在全封闭的液路内完成的。本发明提供一种加工过程中不易混入杂质、实时保持微点在墨水内分布均匀的微点防伪印记的制备方法及实现该方法的装置。

再比如，现有技术4，中国专利文献CN1350274A，公开的一种含有多数微小记号或图案的防伪标记及其形成方法，以含有多数微小图案记号的防伪标记，达成鉴定物品真伪及防止伪造的应用。物件鉴定用方法是根据在物件中所形成的至少一独特标记，它含有多数微小图案或记号，并以随机组合的方式合于标记内，以作为对比、鉴定的方法，而具有防止他人伪造及可以轻易达成识别及鉴定和对比的功效。

然而,诸如以上列举，现有技术的复合纤维、荧光硅纳米颗粒、微点或微小记号的形体及随机分布等作为防伪手段，并不是向公开文本叙述的那样可以防止他人伪造的效果，随着科学技术的进步，这些技术手段均可以廉价仿制，不能仿制的只有现有技术3所述的后台数据库，但后台数据也不安全，企业的数据库很容易遭受黑客攻击，且需要通讯安全保障，仍然不理想。因而，现有技术的防伪材料与防伪手段均有或多或少的安全隐患，需要不断推陈出新，不断进步。

发明内容

本发明的目的在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种具有多重防伪功能的防伪材料。

本发明的目的还在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种不易仿制的防伪材料。

本发明的目的还在于克服上述现有技术的不足之处而提供一种具有多重防伪功能且不易仿制的防伪材料的制备方法。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种防伪材料，其特征在于：该防伪材料具有双层结构，顶层为功能层，底层为基材层；所述功能层由二种以上稀土氧化物模块组合而成，所述基材层是单晶硅。

所述的防伪材料，其特征在于：所述稀土氧化物模块，是指在单位该防伪材中，由同一种稀土氧化物构成的各个子模块的总和，各个子模块之间离散分布；所述稀土氧化物模块可以是一个图形或字符，也可以是一组由多数个子模块组成一组图形或字符串。

所述的防伪材料，其特征在于：所述二种以上稀土氧化物模块，按照每种稀土氧化物模块的子模块数量、每个子模块的形状、每个子模块的分布位置，构成该防伪材的第一防伪信息。

所述的防伪材料，其特征在于：所述二种以上稀土氧化物模块，每种稀土氧化物模块，在红外线照射状态下，呈现不同的颜色；按照每种稀土氧化物模块在红外线照射状态下呈现不同的颜色组合，构成该防伪材料的第二防伪信息。

所述的防伪材料，其特征在于：所述的稀土氧化物，是稳定的稀土氧化物。可以将稀土金属钐、铽、铥、镱等进氧化还原处理，形成稳定的氧化物。

所述的防伪材料，其特征在于：所述稀土氧化物模块，是稀土氧化物粉均匀固化的光固胶中结构。

所述的防伪材料，其特征在于：所述单晶硅是透明的单晶硅。

所述的防伪材料，其特征在于：所述功能层厚度介于2至10微米之间，所述基材层厚度介于1至2微米之间。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现：

一种防伪材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S110，提供玻璃基底；

S120，在玻璃基底上面镀附着层；

S130，在附着层上面镀牺牲层；

S140，在牺牲层上面镀基材层；

S150，在基材层上面涂布第一次稀土氧化物粉与光固胶的混合物；

S160，提供紫外线光源，提供第一次淹模板，将S150步骤涂布的混合物涂层曝光；

S170，提供显影液，显影；

S180，提供纯净水，清洗；

S190，在基材层上面涂布第N次稀土氧化物粉与光固胶的混合物,涂布层的厚度与S150步骤的涂布层一致；

S200，提供第N次淹模板，将S190步骤制备混合物涂层曝光；

S210，显影；

S220，清洗；

S230，判断是否完成所有稀土氧化物模块设置，若否，将N设定为N加1，转S190步骤；

S240，提供等离子刻蚀装备，刻蚀基材层；

S250，提供牺牲层蚀刻液，刻蚀牺牲层；

S260，提供清洗过滤装备及纯净水，清洗，过滤；

其中，S170步骤，所述显影，用显影液固化部分混合物涂层；S180步骤，清洗，用纯净水清洗掉S170显影步骤未固化部分混合物涂层；S190步骤及S200步骤、S230步骤，所述的N，初始值为2。

所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：S120步骤，所述附着层是Cr、Ni、不锈钢之中的一种，所述镀是指真空镀；S130步骤，所述牺牲层是Al、Cu之中的一种，所述镀是指真空镀.

所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S150及S190步骤，所提到的光固胶，是单一紫外线光谱固化的光固胶。

所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S150步骤，还包括提供悬涂装备步骤，用悬涂方法涂布。

所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述光固胶可以选择正光固胶和负光固胶其中的一种，所述S170步骤提到的固化部分混合物涂层是指，曝光或未曝光的部分混合物涂层，具体地，对于正光固胶曝光的部分混合物涂层不固化，未曝光的部分混合物涂层固化；对应地，对于负光固胶曝光的部分混合物涂层固化，未曝光的部分混合物涂层不固化。

所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述光固胶可以选择正光固胶和负光固胶其中的一种，所述S210步骤提到的显影，是指固化部分混合物涂层，即曝光或未曝光的部分混合物涂层，具体地，对于正光固胶曝光的部分混合物涂层不固化，未曝光的部分混合物涂层固化；对应地，对于负光固胶曝光的部分混合物涂层固化，未曝光的部分混合物涂层不固化。

所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S110提供玻璃基底，还包括把玻璃片切成方形或长方形，以及倒角、抛光、清洗、干燥步骤，供玻璃基底的厚度介于0.3至0.5毫米之间。

一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S170步骤所述提供显影液，显影液是四甲基加水；所述S210步骤显影，显影液也是四甲基加水。

所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S240步骤刻蚀基材层，所用气体是CF6，当然也可以增加辅助气体。

所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S250步骤，提供牺牲层蚀刻液，对于S130步骤所镀的牺牲层是Al的话，提供蚀刻液是盐酸、氢氧化钠中的一种；对于S130步骤所镀的牺牲层是Cu的话，提供蚀刻液是双氧水。

所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S160步骤及S200步骤，所提到淹模板，根据正光固胶或负光固胶的选择，决定选择阴淹模板与阳淹模板。

应当理解，本发明所说的稀土氧化物包括稀土氧化物、复合稀土氧化物其中一种或二者的混合物。

本发明所涉及的防伪材料具有双层结构，顶层为功能层，底层为基材层；所述功能层由二种以上稀土氧化物模块组合而成，所述基材层是单晶硅；利用稀土氧化物模块组合的形态构成基本防伪信息，利用不同稀土氧化物模块在红外线光源照射下显示不同颜色，构成第二防伪信息，仿制成本高昂。

本发明所涉及的一种防伪材料的制备方法，通过玻璃基底镀附着层、镀牺牲层、镀基材层，涂布第一次稀土氧化物粉与光固胶的混合物，紫外线光源通过第一次淹模板，将涂布的混合物涂层曝光，显影、清洗，在基材层上面涂布第N次稀土氧化物粉与光固胶的混合物,通过第N次淹模板，将本次涂布的混合物涂层曝光，显影、清洗，完成所有稀土氧化物模块设置，通过等离子刻蚀装备刻蚀基材层，通过牺牲层蚀刻液刻蚀牺牲层，清洗，过滤；整个工艺流程环环相扣，是一个统一整体，N+1种稀土氧化物使用何和具体稀土氧化物很难反向检测，N+1个淹模板也无法从产品中准确抄数，尤其是没有原始的N+1个淹模板数据，即使发明人自己也无法破解别人实施本发明的具体技术方案，安全系数极高。

附图说明

图1是本发明第一个实施例的层状结构示意图。

图2是本发明第一个实施例的正面示意图。

图3是本发明第一个实施例的对比方案示意图。

图4是本发明第二个实施例S110至S140步骤的示意图。

图5是本发明第二个实施例S150至S180步骤的示意图。

图6是本发明第二个实施例S190至S220步骤的第1次循环示意图。

图7是本发明第二个实施例S190至S220步骤的第2次循环示意图。

图8是本发明第二个实施例S240步骤的示意图。

图9是本发明第二个实施例S250步骤的示意图。

图10是本发明第二个实施例的流程图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步详述。

参考图1、图2，本发明第一个实施例是一种防伪材料100，该防伪材料100具有双层结构，顶层为功能层，底层为基材层101；所述功能层由三种稀土氧化物模块102、103、104组合而成，所述基材层101是单晶硅。为了清晰表达图2相比图1缩小了一倍，特说明。所述三种稀土氧化物模块102、103、104，在本实施例中，所述三种稀土氧化物模块102、103、104，都是一个图形，102是月牙形，103是纺锤形，104是环形，应该理解，每一种稀土氧化物模块，都是由同一种稀土氧化物构成的各个子模块的总和，可以是一组由多数个子模块组成一组图形或字符串，参考图3，给出了不同于本实施例的方案，该方案由二种稀土氧化物模块801、802组成，稀土氧化物模块801由四个离散分布的子模块组成，即字符“R”上部的封闭部分、字符“e”上部的封闭部分、字符“d”下部封闭部分、还有字符串“Red”周围的部分，稀土氧化物模块802也有三个子模块，构成一个字符串“Red”。再回到本实施例，所述三种稀土氧化物模块102、103、104，按照每种稀土氧化物模块的子模块数量（当然本实施例每种稀土氧化物模块只有一个子模块）、每个子模块的形状、每个子模块的分布位置，构成该防伪材的第一防伪信息；所述三种稀土氧化物模块102、103、104，每种稀土氧化物模块102、或103、或104，在红外线照射状态下，呈现不同的颜色；按照每种稀土氧化物模块在红外线照射状态下呈现不同的颜色组合，构成该防伪材料的第二防伪信息。所述稀土氧化物模块102、103、104，是稀土氧化物粉均匀固化在光固胶中的结构。所述单晶硅是透明的。所述功能层厚度是6微米，所述基材层的是1微米；应当理解，所述功能层介于2至10微米之间，所述基材层厚度介于1至2微米之间；也可以实施本实施例。

参考图4至图10，本发明第二个实施例是一种防伪材料的制备方法，即本发明第一个实施例的制备方法，包括以下步骤：S110，提供玻璃基底；S120，在玻璃基底上面镀附着层；S130，在附着层上面镀牺牲层；S140，在牺牲层上面镀基材层；S150，在基材层上面涂布第一次稀土氧化物粉与光固胶的混合物；S160，提供紫外线光源，提供第一次淹模板，将S150步骤涂布的混合物涂层曝光；S170，提供显影液，显影；S180，提供纯净水，清洗；S190，在基材层上面涂布第N次稀土氧化物粉与光固胶的混合物,涂布层的厚度与S150步骤的涂布层一致；S200，提供第N次淹模板，将S190步骤制备混合物涂层曝光；S210，显影；S220，清洗；S230，判断是否完成所有稀土氧化物模块设置，若否，将N设定为N加1，转S190步骤，当然，本实施例总计设置3次稀土氧化物模块，N只要完到3就可退出执行S240步骤了；S240，提供等离子刻蚀装备，刻蚀基材层；S250，提供牺牲层蚀刻液，刻蚀牺牲层；S260，提供清洗过滤装备及纯净水，清洗，过滤。

在第二个实施例中，S120步骤，所述附着层是Cr，应当理解，用Ni、不锈钢之中的一种也能实现本实施例，所述镀是指真空镀；S130步骤，所述牺牲层是Al，应当理解Cu也能实现本实施例，所述镀是指真空镀；S140步骤，所述基材层是Si，应当理解SiO、SiO2之中的一种也能实现本实施例，所述镀是指真空镀；S170步骤，所述显影，用显影液固化部分混合物涂层；S180步骤，清洗，用纯净水清洗掉S170显影步骤未固化部分混合物涂层；S190步骤及S200步骤、S230步骤，所述的N，初始值为2。

在第二个实施例中，所述S150及S190步骤，所提到的光固胶，是单一紫外线光谱固化的光固胶。

在第二个实施例中，所述S150步骤，还包括提供悬涂装备步骤，用悬涂方法涂布。所述光固胶可以选择正光固胶和负光固胶其中的一种，所述S170步骤提到的固化部分混合物涂层是指，曝光或未曝光的部分混合物涂层，具体地，对于正光固胶曝光的部分混合物涂层不固化，未曝光的部分混合物涂层固化；对应地，对于负光固胶曝光的部分混合物涂层固化，未曝光的部分混合物涂层不固化。所述光固胶可以选择正光固胶和负光固胶其中的一种，所述S210步骤提到的显影，是指固化部分混合物涂层，即曝光或未曝光的部分混合物涂层，具体地，对于正光固胶曝光的部分混合物涂层不固化，未曝光的部分混合物涂层固化；对应地，对于负光固胶曝光的部分混合物涂层固化，未曝光的部分混合物涂层不固化。

所述S110提供玻璃基底，还包括把玻璃片切成方形或长方形，以及倒角、抛光、清洗、干燥步骤，供玻璃基底的厚度是0.35，可以理解，玻璃基底的厚度介于0.3至0.5毫米之间都能够实施本实施例。

所述S170步骤所述提供显影液，显影液是四甲基加水；所述S240步骤刻蚀基材层，所用气体是CF6，当然也可以增加辅助气体。

所述S250步骤，提供牺牲层蚀刻液，对于S130步骤所镀的牺牲层是Al的话，提供蚀刻液是盐酸，应当理解用氢氧化钠作蚀刻液也可以实现；对于S130步骤所镀的牺牲层是Cu的话，提供蚀刻液是双氧水。

所述S150、S160步骤及S190、S200步骤，本实施例选用最常用的正光固胶，选择阳淹模板，所述阳淹模板就是需要的图案遮光，不需要的部分透光，所述正光胶就是经显影和清洗后，照光的部分去掉，不照光的部分留下；具体选择时，根据正光固胶或负光固胶的选择，决定选择阳淹模板与阴淹模板。

参考图4，是本发明第二个实施例S110至S140步骤的示意图，提供玻璃基底211上，首先镀附着层212，即镀Cr，进一步镀牺牲层213，即镀Al，再镀基材层214，即镀Si，所制备的半成本品210供S150步骤使用。

参考图5，是本发明第二个实施例S150至S180步骤的示意图，在半成品210的基材层214涂布第一次稀土氧化物与光固胶的混合物301，采用悬涂方法，厚度控制在6微米，所谓悬涂法，就是把第一次稀土氧化物与光固胶的混合物滴在半成品210的中心部位，利用悬涂装备高速旋转半成品210，使混合物铺平，转速可以控制涂层的厚度；悬涂装备可以外购，也可以用旋转马达自制，设置一带夹具平台，将半成品210装夹在平台上，平台水平设置，设置相应轴承以使平台稳定，利用旋转马达带动平台转动，旋转马达可以选用调速马达；提供紫外线光源999，提供第一次淹模板302，将S150步骤涂布的混合物涂层301曝光，通过显影、清洗，在半成品210上留下稀土氧化物模块102，稀土氧化物模块102加上半成品210构成第二半成品310，第二半成品310供S190步骤使用。

参考图6，是本发明第二个实施例S190至S220步骤的第1次循环示意图，在第二半成品310的基材层214涂布第二次稀土氧化物与光固胶的混合物401，采用悬涂方法，厚度控制在6微米，提供紫外线光源999，提供第二次淹模板402，将S190步骤涂布的混合物涂层401曝光，通过显影、清洗，在第二半成品310上留下稀土氧化物模块103，稀土氧化物模块103加上第二半成品310构成第三半成品410，第三半成品410供S190至S220步骤的第2次循环使用。

参考图7，是本发明第二个实施例S190至S220步骤的第2次循环示意图，在第三半成品410的基材层214涂布第三次稀土氧化物与光固胶的混合物501，采用悬涂方法，厚度控制在6微米，提供紫外线光源999，提供第三次淹模板502，将S190步骤涂布的混合物涂层501曝光，通过显影、清洗，在第三半成品410上留下稀土氧化物模块104，稀土氧化物模块104加上第三半成品410构成第四半成品510，第四半成品510供S240步骤使用。

参考图8，是本发明第二个实施例S240步骤的示意图，提供等离子刻蚀装备，刻蚀基材层214，将第四半成品510置于等离子刻蚀装备，通过CF6气体将第四半成品510没有覆盖稀土氧化物模块102、103、104的暴露之处基材层214刻蚀掉，留下基材层101连接稀土氧化物模块102、103、104与牺牲层213。

参考图8，是本发明第二个实施例S250步骤的示意图，把S240步骤产成品置于盐酸溶液中，蚀刻牺牲层，使本发明第一个实施例所述材料，从玻璃基底上分离出来，应当理解，用氢氧化钠作蚀刻液也可以实现本实施例。

参考图10，是本发明第二个实施例的流程图，为了更具通用性，提供了二种以上稀土氧化物模块的通用流程，本发明第二个实施例是三种稀土氧化物模块，所以S190至S220步骤循环2次。

Claims (15)

1.一种防伪材料，其特征在于：该防伪材料具有双层结构，顶层为功能层，底层为基材层；所述功能层由二种以上稀土氧化物模块连接而成，所述基材层是单晶硅。

2.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：所述稀土氧化物模块，是指在单位该防伪材中，由同一种稀土氧化物构成的各个子模块的总和，各个子模块之间离散分布，所述稀土氧化物模块可以是一个图形或字符，也可以是一组由多数个子模块组成一组图形或字符串。

3.根据权利要求2所述的防伪材料，其特征在于：所述二种以上稀土氧化物模块，按照每种稀土氧化物模块的子模块数量、每个子模块的形状、每个子模块的分布位置，构成该防伪材的第一防伪信息。

4.根据权利要求3所述的防伪材料，其特征在于：所述二种以上稀土氧化物模块，每种稀土氧化物模块，在红外线照射状态下，呈现不同的颜色；按照每种稀土氧化物模块在红外线照射状态下呈现不同的颜色组合，构成该防伪材料的第二防伪信息。

5.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：所述的稀土氧化物，是稳定的稀土氧化物。

6.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：所述稀土氧化物模块，是稀土氧化物粉均匀固化的光固胶中结构。

7.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：所述单晶硅是透明的。

8.根据权利要求1所述的防伪材料，其特征在于：所述功能层厚度介于2至10微米之间，所述基材层厚度介于1至2微米之间。

9.一种防伪材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

S110，提供玻璃基底；

S120，在玻璃基底上面镀附着层；

S130，在附着层上面镀牺牲层；

S140，在牺牲层上面镀基材层；

S150，在基材层上面涂布第一次稀土氧化物粉与光固胶的混合物；

S160，提供紫外线光源，提供第一次淹模板，将S150步骤涂布的混合物涂层曝光；

S170，提供显影液，显影；

S180，提供纯净水，清洗；

S190，在基材层上面涂布第N次稀土氧化物粉与光固胶的混合物,涂布层的厚度与S150步骤的涂布层一致；

S200，提供第N次淹模板，将S190步骤制备混合物涂层曝光；

S210，显影；

S220，清洗；

S230，判断是否完成所有稀土氧化物模块设置，若否，将N设定为N加1，转S190步骤；

S240，提供等离子刻蚀装备，刻蚀基材层；

S250，提供牺牲层蚀刻液，刻蚀牺牲层；

S260，提供清洗过滤装备及纯净水，清洗，过滤；

其中，S170步骤，所述显影，用显影液固化部分混合物涂层；S180步骤，清洗，用清纯净水清洗掉S170显影步骤未固化部分混合物涂层；S190步骤及S200步骤、S230步骤，所述的N，初始值为2。

10.根据权利要求9所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S150步骤，还包括提供悬涂装备步骤，用悬涂方法涂布。

11.根据权利要求9所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述光固胶可以选择正光固胶和负光固胶其中的一种，所述S170步骤提到的固化部分混合物涂层是指，曝光或未曝光的部分混合物涂层，具体地，对于正光固胶曝光的部分混合物涂层不固化，未曝光的部分混合物涂层固化；对应地，对于负光固胶曝光的部分混合物涂层固化，未曝光的部分混合物涂层不固化。

12.根据权利要求9所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述光固胶可以选择正光固胶和负光固胶其中的一种，所述S210步骤提到的显影，是指固化部分混合物涂层，即曝光或未曝光的部分混合物涂层，具体地，对于正光固胶曝光的部分混合物涂层不固化，未曝光的部分混合物涂层固化；对应地，对于负光固胶曝光的部分混合物涂层固化，未曝光的部分混合物涂层不固化。

13.根据权利要求9所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S110提供玻璃基底，还包括把玻璃片切成方形或长方形，以及倒角、抛光、清洗、干燥步骤，供玻璃基底的厚度介于0.3至0.5毫米之间。

14.根据权利要求9所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S170步骤所述提供显影液，显影液是四甲基加水；所述S210步骤显影，显影液也是四甲基加水。

15.根据权利要求9所述一种防伪材料的制备方法，其特征在于：所述S240步骤刻蚀基材层，所用气体是CF6。