镀膜腔室清洗装置及镀膜腔室清洗方法
技术领域
本发明涉及有机镀膜技术领域,尤其是涉及一种镀膜腔室清洗装置及镀膜腔室清洗方法。
背景技术
有机镀膜可以应用于高真空下的OLED器件制备、高分子薄膜密封等诸多工业领域。
在使用过程中会有大量有机材料不断的沉积在有机镀膜腔室侧壁上,如果沉积物在热和应力作用下发生崩裂和脱落则会产生大量颗粒和污染物,引起工艺中断并形成大量产品缺陷,损失巨大。
但是,传统清洗有机镀膜腔室内壁需要拆装、清洗、喷砂、热处理、重新抽真空、调校等大量工作,费工费时,严重影响生产进度。
发明内容
本发明的目的在于提供一种镀膜腔室清洗装置及镀膜腔室清洗方法,以缓解了现有技术中存在的传统的清洗有机镀膜腔室内壁方法费工费时,严重影响生产进度的技术问题。
本发明提供的镀膜腔室清洗装置,包括:转动驱动装置、水平驱动装置、旋转平台、反射镜和激光发射器;
转动驱动装置、水平驱动装置、旋转平台、反射镜和激光发射器均设置于有机镀膜腔室内,且激光发射器和转动驱动装置均与有机镀膜腔室的底部连接;
旋转平台设置于激光发射器的上方,水平驱动装置与旋转平台远离激光发射器的一端连接,水平驱动装置与反射镜传动连接,激光发射器发射的激光穿过旋转平台照射到反射镜上,反射镜用于将激光发射器发射的激光反射到有机镀膜腔室的内壁上,以清洁有机镀膜腔室内壁,水平驱动装置用于带动反射镜相对于旋转平台移动,以改变反射镜反射激光的方向;
转动驱动装置与旋转平台传动连接,转动驱动装置用于带动旋转平台转动,以改变反射镜反射激光的方向。
进一步的,旋转平台上设置有透光部;
激光发射器发射的激光穿过透光部照射到反射镜上。
进一步的,透光部设置为通孔。
进一步的,转动驱动装置包括电机和传动部;
电机与有机镀膜腔室的底部连接,电机远离有机镀膜腔室的底部的一端设置有驱动轴,传动部与驱动轴连接,且电机通过传动部与旋转平台传动连接,以使电机带动旋转平台转动。
进一步的,传动部设置为齿轮;
齿轮与电机的驱动轴连接,旋转平台外圆周方向设置有卡齿,齿轮与卡齿啮合,以使电机通过齿轮转动带动旋转平台转动。
进一步的,旋转平台的截面形状为圆环形。
进一步的,还包括控制装置;
控制装置分别与转动驱动装置和水平驱动装置电连接,控制装置用于控制转动驱动装置和水平驱动装置的开启或关闭。
进一步的,控制装置设置为微处理单元。
进一步的,还包括挡板;
挡板设置于有机镀膜腔室的底部,且挡板围成容置腔,转动驱动装置和激光发射器均设置于容置腔内。
本发明提供的镀膜腔室清洗方法,包括以下步骤:
通过控制装置设置水平驱动装置和转动驱动装置的工作程序;
同时控制激光发射器、水平驱动装置和转动驱动装置开启,以清洗有机镀膜腔室内壁。
本发明提供的镀膜腔室清洗装置,包括:转动驱动装置、水平驱动装置、旋转平台、反射镜和激光发射器;转动驱动装置、水平驱动装置、旋转平台、反射镜和激光发射器均设置于有机镀膜腔室内,且激光发射器和转动驱动装置均与有机镀膜腔室的底部连接;旋转平台设置于激光发射器的上方,水平驱动装置与旋转平台远离激光发射器的一端连接,水平驱动装置与反射镜传动连接,激光发射器发射的激光穿过旋转平台照射到反射镜上,反射镜用于将激光发射器发射的激光反射到有机镀膜腔室的内壁上,以清洁有机镀膜腔室内壁,水平驱动装置用于带动反射镜相对于旋转平台移动,以改变反射镜反射激光的方向;转动驱动装置与旋转平台传动连接,转动驱动装置用于带动旋转平台转动,以改变反射镜反射激光的方向。通过激光发射器向反射镜发射激光,利用反射镜将激光反射到有机镀膜腔室的内壁上,对有机镀膜腔室内壁进行清洗,并且通过转动驱动装置带动旋转平台上的反射镜转动,通过水平驱动装置带动反射镜相对于旋转平台移动,改变激光发射方向,对有机镀膜腔室的内壁进行全方位进行,缓解了现有技术中存在的传统的清洗有机镀膜腔室内壁方法费工费时,严重影响生产进度的技术问题,实现了快速对有机镀膜腔室内壁清洗的技术效果。
附图说明
为了更清楚地说明本发明具体实施方式或现有技术中的技术方案,下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本发明的一些实施方式,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的镀膜腔室清洗装置的整体结构示意图;
图2为本发明实施例提供的镀膜腔室清洗装置带有控制装置的结构示意图;
图3为本发明实施例提供的镀膜腔室清洗装置带有挡板的结构示意图;
图4为本发明实施例提供的镀膜腔室清洗装置第一状态下的结构示意图。
图标:100-转动驱动装置;110-电机;120-传动部;200-水平驱动装置;300-旋转平台;310-透光部;400-反射镜;500-激光发射器;600-控制装置;700-挡板。
具体实施方式
下面将结合附图对本发明的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
在本发明的描述中,需要说明的是,如出现术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等,其所指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本发明和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本发明的限制。此外,如出现术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本发明的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,如出现术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
图1为本实施例提供的镀膜腔室清洗装置的整体结构示意图;图2为本实施例提供的镀膜腔室清洗装置带有控制装置的结构示意图;图3为本实施例提供的镀膜腔室清洗装置带有挡板的结构示意图;图4为本实施例提供的镀膜腔室清洗装置第一状态下的结构示意图,其中,第一状态为激光发射器500发射激光时。
如图1-4所示,本实施例提供的镀膜腔室清洗装置,包括:转动驱动装置100、水平驱动装置200、旋转平台300、反射镜400和激光发射器500;转动驱动装置100、水平驱动装置200、旋转平台300、反射镜400和激光发射器500均设置于有机镀膜腔室内,且激光发射器500和转动驱动装置100均与有机镀膜腔室的底部连接;旋转平台300设置于激光发射器500的上方,水平驱动装置200与旋转平台300远离激光发射器500的一端连接,水平驱动装置200与反射镜400传动连接,激光发射器500发射的激光穿过旋转平台300照射到反射镜400上,反射镜400用于将激光发射器500发射的激光反射到有机镀膜腔室的内壁上,以清洁有机镀膜腔室内壁,水平驱动装置200用于带动反射镜400相对于旋转平台300移动,以改变反射镜400反射激光的方向;转动驱动装置100与旋转平台300传动连接,转动驱动装置100用于带动旋转平台300转动,以改变反射镜400反射激光的方向。
具体的,激光发射器500发射的激光穿过旋转平台300照射到反射镜400上,并利用反射镜400将激光反射到有机镀膜腔室的内壁上,对有机镀膜腔室的内壁进行清洗。
水平驱动装置200设置于旋转平台300上,并且水平驱动装置200与反射镜400连接,水平驱动装置200带动反射镜400朝向旋转平台300的圆心方向上移动,以改变激光发射器500发射的激光与反射镜400之间的角度,进而改变激光照射到有机镀膜腔室内壁的位置,使有机镀膜腔室的内壁的清洗面积更大。
转动驱动装置100与旋转平台300传动连接,转动驱动装置100带动旋转平台300转动,使反射镜400同旋转平台300一同转动,使反射镜400反射的激光可全方位清洗有机镀膜腔室的内壁,清洗效率更佳。
本实施例提供的镀膜腔室清洗装置,包括:转动驱动装置100、水平驱动装置200、旋转平台300、反射镜400和激光发射器500;转动驱动装置100、水平驱动装置200、旋转平台300、反射镜400和激光发射器500均设置于有机镀膜腔室内,且激光发射器500和转动驱动装置100均与有机镀膜腔室的底部连接;旋转平台300设置于激光发射器500的上方,水平驱动装置200与旋转平台300远离激光发射器500的一端连接,水平驱动装置200与反射镜400传动连接,激光发射器500发射的激光穿过旋转平台300照射到反射镜400上,反射镜400用于将激光发射器500发射的激光反射到有机镀膜腔室的内壁上,以清洁有机镀膜腔室内壁,水平驱动装置200用于带动反射镜400相对于旋转平台300移动,以改变反射镜400反射激光的方向;转动驱动装置100与旋转平台300传动连接,转动驱动装置100用于带动旋转平台300转动,以改变反射镜400反射激光的方向。通过激光发射器500向反射镜400发射激光,利用反射镜400将激光反射到有机镀膜腔室的内壁上,对有机镀膜腔室内壁进行清洗,并且通过转动驱动装置100带动旋转平台300上的反射镜400转动,通过水平驱动装置200带动反射镜400相对于旋转平台300移动,改变激光发射方向,对有机镀膜腔室的内壁进行全方位进行,缓解了现有技术中存在的传统的清洗有机镀膜腔室内壁方法费工费时,严重影响生产进度的技术问题,实现了快速对有机镀膜腔室内壁清洗的技术效果。
在上述实施例的基础上,进一步的,本实施例提供的镀膜腔室清洗装置中的旋转平台300上设置有透光部310;激光发射器500发射的激光穿过透光部310照射到反射镜400上。
进一步的,透光部310设置为通孔。
具体的,在旋转平台300上设置有透光部310,激光发射器500发射的激光穿过透光部310照射到反射镜400上,保证激光可完全照射到反射镜400上,透光部310可设置为通孔,激光穿过通孔罩设到反射镜400上。
进一步的,转动驱动装置100包括电机110和传动部120;电机110与有机镀膜腔室的底部连接,电机110远离有机镀膜腔室的底部的一端设置有驱动轴,传动部120与驱动轴连接,且电机110通过传动部120与旋转平台300传动连接,以使电机110带动旋转平台300转动。
进一步的,传动部120设置为齿轮;齿轮与电机110的驱动轴连接,旋转平台300外圆周方向设置有卡齿,齿轮与卡齿啮合,以使电机110通过齿轮转动带动旋转平台300转动。
进一步的,旋转平台300的截面形状为圆环形。
具体的,电机110的输出轴上设置传动部120,电机110输出轴转动带动传动部120转动,使传动部120带动旋转平台300转动,传动部120设置为齿轮,并且旋转平台300的外圆周上设置卡齿,齿轮与卡齿啮合,实现电机110与旋转平台300的传动连接。
本实施例提供的镀膜腔室清洗装置,通过透光部310的设置,使激光发射器500发射的激光穿过旋转平台300照射到反射镜400上;通过传动部120的设置,使转动驱动装置100与旋转平台300传动连接,带动旋转平台300转动。
在上述实施例的基础上,进一步的,本实施例提供的镀膜腔室清洗装置还包括控制装置600;控制装置600分别与转动驱动装置100和水平驱动装置200电连接,控制装置600用于控制转动驱动装置100和水平驱动装置200的开启或关闭。
进一步的,控制装置600设置为微处理单元。
具体的,通过控制装置600分别与转动驱动装置100和水平驱动装置200电连接,利用控制装置600控制转动驱动装置100和水平驱动装置200工作,控制转动驱动装置100和水平驱动装置200开启或关闭。
进一步的,还包括挡板700;挡板700设置于有机镀膜腔室的底部,且挡板700围成容置腔,转动驱动装置100和激光发射器500均设置于容置腔内。
具体的,通过挡板700的设置,避免在有机镀膜腔室镀膜时,对容置腔内的激光发射器500产生污染,影响后续的清洗效果。
本实施例提供的镀膜腔室清洗方法,包括以下步骤:
通过控制装置600设置水平驱动装置200和转动驱动装置100的工作程序;
同时控制激光发射器500、水平驱动装置200和转动驱动装置100开启,以清洗有机镀膜腔室内壁。
具体的,有机镀膜完成后,利用控制装置600设置水平驱动装置200和转动驱动装置100的工作程序,设置完毕后,同时开启水平驱动装置200、转动驱动装置100和激光发射器500,将激光输出功率调至2000mw,对有机镀膜腔室内壁进行清洗,程序结束后,关闭水平驱动装置200、转动驱动装置100和激光发射器500。
最后应说明的是:以上各实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述各实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的范围。