CN108793140A - 一种高质量大尺寸二维材料及其制备方法 - Google Patents
一种高质量大尺寸二维材料及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN108793140A CN108793140A CN201810753613.0A CN201810753613A CN108793140A CN 108793140 A CN108793140 A CN 108793140A CN 201810753613 A CN201810753613 A CN 201810753613A CN 108793140 A CN108793140 A CN 108793140A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- preparation
- acid
- material powder
- emulsion dispersion
- hydroxide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 97
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims abstract description 28
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims abstract description 68
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 51
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 47
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000010008 shearing Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims abstract description 15
- 230000009471 action Effects 0.000 claims abstract description 6
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims description 29
- WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M tetramethylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].C[N+](C)(C)C WGTYBPLFGIVFAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 22
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 19
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 19
- VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC VDZOOKBUILJEDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 18
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 17
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 16
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 claims description 14
- -1 neopelex Chemical compound 0.000 claims description 14
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 13
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 9
- WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N (E)-8-Octadecenoic acid Natural products CCCCCCCCCC=CCCCCCCC(O)=O WRIDQFICGBMAFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 20:1omega9c fatty acid Natural products CCCCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O LQJBNNIYVWPHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 9-Heptadecensaeure Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O QSBYPNXLFMSGKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000005642 Oleic acid Substances 0.000 claims description 8
- ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N Oleic acid Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N diethyl phthalate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC FLKPEMZONWLCSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 8
- QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N isooleic acid Natural products CCCCCCCC=CCCCCCCCCC(O)=O QXJSBBXBKPUZAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N oleic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(O)=O ZQPPMHVWECSIRJ-KTKRTIGZSA-N 0.000 claims description 8
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical group CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N azane;dihydrofluoride Chemical compound [NH4+].F.[F-] KVBCYCWRDBDGBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 7
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical group C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000138 intercalating agent Substances 0.000 claims description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 6
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 150000001412 amines Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000004673 fluoride salts Chemical class 0.000 claims description 5
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229940073455 tetraethylammonium hydroxide Drugs 0.000 claims description 5
- LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M tetraethylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CC[N+](CC)(CC)CC LRGJRHZIDJQFCL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 claims description 4
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 4
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 claims description 4
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 claims description 4
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 claims description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 claims description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 claims description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 4
- JAJWGJBVLPIOOH-IZYKLYLVSA-M sodium taurocholate Chemical compound [Na+].C([C@H]1C[C@H]2O)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H]2CC[C@H]([C@@H](CCC(=O)NCCS([O-])(=O)=O)C)[C@@]2(C)[C@@H](O)C1 JAJWGJBVLPIOOH-IZYKLYLVSA-M 0.000 claims description 4
- RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphane Chemical group CCCCCCCCP(CCCCCCCC)CCCCCCCC RMZAYIKUYWXQPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- QGLWBTPVKHMVHM-KTKRTIGZSA-N (z)-octadec-9-en-1-amine Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCN QGLWBTPVKHMVHM-KTKRTIGZSA-N 0.000 claims description 3
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N Betaine Natural products C[N+](C)(C)CC([O-])=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 claims description 3
- KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O N,N,N-trimethylglycinium Chemical compound C[N+](C)(C)CC(O)=O KWIUHFFTVRNATP-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 3
- RCEAADKTGXTDOA-UHFFFAOYSA-N OS(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCC[Na] Chemical compound OS(O)(=O)=O.CCCCCCCCCCCC[Na] RCEAADKTGXTDOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005864 Sulphur Substances 0.000 claims description 3
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 claims description 3
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 claims description 3
- 229960003237 betaine Drugs 0.000 claims description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 3
- 230000005496 eutectics Effects 0.000 claims description 3
- UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N lithium;2-methylpropane Chemical compound [Li+].C[C-](C)C UBJFKNSINUCEAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- PZYDAVFRVJXFHS-UHFFFAOYSA-N n-cyclohexyl-2-pyrrolidone Chemical class O=C1CCCN1C1CCCCC1 PZYDAVFRVJXFHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000004714 phosphonium salts Chemical group 0.000 claims description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 claims description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 3
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Chemical group COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 claims description 3
- AWDRATDZQPNJFN-VAYUFCLWSA-N taurodeoxycholic acid Chemical compound C([C@H]1CC2)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H]2CC[C@H]([C@@H](CCC(=O)NCCS(O)(=O)=O)C)[C@@]2(C)[C@@H](O)C1 AWDRATDZQPNJFN-VAYUFCLWSA-N 0.000 claims description 3
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 claims description 3
- ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 1-Ethyl-2-pyrrolidinone Chemical class CCN1CCCC1=O ZFPGARUNNKGOBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FTCIOUYXOOXMBV-UHFFFAOYSA-N OC(=O)c1ccccc1C(O)=O.C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C Chemical compound OC(=O)c1ccccc1C(O)=O.C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C FTCIOUYXOOXMBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZLWPAELISNYYGM-UHFFFAOYSA-N azanium;2-dodecylbenzenesulfonate Chemical group [NH4+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O ZLWPAELISNYYGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 claims 2
- NGWKGSCSHDHHAJ-YPFQVHCOSA-N Liquoric acid Chemical compound C1C[C@H](O)C(C)(C)C2CC[C@@]3(C)[C@]4(C)C[C@H]5O[C@@H]([C@](C6)(C)C(O)=O)C[C@@]5(C)[C@@H]6C4=CC(=O)C3[C@]21C NGWKGSCSHDHHAJ-YPFQVHCOSA-N 0.000 claims 1
- NGWKGSCSHDHHAJ-UHFFFAOYSA-N Liquoric acid Natural products C1CC(O)C(C)(C)C2CCC3(C)C4(C)CC5OC(C(C6)(C)C(O)=O)CC5(C)C6C4=CC(=O)C3C21C NGWKGSCSHDHHAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- DFGMFVYRMVYRRA-UHFFFAOYSA-N [O].CC Chemical compound [O].CC DFGMFVYRMVYRRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- NWEKXBVHVALDOL-UHFFFAOYSA-N butylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCC[NH3+] NWEKXBVHVALDOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 claims 1
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 claims 1
- 238000011031 large-scale manufacturing process Methods 0.000 abstract description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 15
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 14
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 13
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 6
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000012621 metal-organic framework Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 4
- 229910017665 NH4HF2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910009818 Ti3AlC2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 229910052961 molybdenite Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052982 molybdenum disulfide Inorganic materials 0.000 description 3
- ZMBHCYHQLYEYDV-UHFFFAOYSA-N trioctylphosphine oxide Chemical compound CCCCCCCCP(=O)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZMBHCYHQLYEYDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 2
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910002899 Bi2Te3 Inorganic materials 0.000 description 2
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910020039 NbSe2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N Sodium Chemical compound [Na] KEAYESYHFKHZAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 2
- OSOKRZIXBNTTJX-UHFFFAOYSA-N [O].[Ca].[Cu].[Sr].[Bi] Chemical compound [O].[Ca].[Cu].[Sr].[Bi] OSOKRZIXBNTTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTNCAPKYOBYQCX-UHFFFAOYSA-N [P].[As] Chemical compound [P].[As] CTNCAPKYOBYQCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000002925 chemical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007385 chemical modification Methods 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 2
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 2
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 2
- 239000002887 superconductor Substances 0.000 description 2
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 2
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- USZPWQKODIZQDR-UHFFFAOYSA-N CCCCCCCCCCCCC(C=CC=C1)=C1P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.Br Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(C=CC=C1)=C1P(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1.Br USZPWQKODIZQDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N Lithium ion Chemical compound [Li+] HBBGRARXTFLTSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010054949 Metaplasia Diseases 0.000 description 1
- HVHSLVRAAURMGO-UHFFFAOYSA-M P.[Br-].C(CCC)[P+](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 Chemical compound P.[Br-].C(CCC)[P+](C1=CC=CC=C1)(C1=CC=CC=C1)C1=CC=CC=C1 HVHSLVRAAURMGO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910004470 Ta4AlC3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004472 Ta4C3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910009594 Ti2AlN Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910009819 Ti3C2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003090 WSe2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000001743 benzylic group Chemical group 0.000 description 1
- WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L calcium difluoride Chemical compound [F-].[F-].[Ca+2] WUKWITHWXAAZEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001634 calcium fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006555 catalytic reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 229940099352 cholate Drugs 0.000 description 1
- BHQCQFFYRZLCQQ-OELDTZBJSA-N cholic acid Chemical compound C([C@H]1C[C@H]2O)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H]2CC[C@H]([C@@H](CCC(O)=O)C)[C@@]2(C)[C@@H](O)C1 BHQCQFFYRZLCQQ-OELDTZBJSA-N 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Chemical group 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000004945 emulsification Methods 0.000 description 1
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 description 1
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910001416 lithium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003701 mechanical milling Methods 0.000 description 1
- 230000015689 metaplastic ossification Effects 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N molybdenum disulfide Chemical compound S=[Mo]=S CWQXQMHSOZUFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N octyldodecane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- WQKGAJDYBZOFSR-UHFFFAOYSA-N potassium;propan-2-olate Chemical compound [K+].CC(C)[O-] WQKGAJDYBZOFSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- LMHHRCOWPQNFTF-UHFFFAOYSA-N s-propan-2-yl azepane-1-carbothioate Chemical compound CC(C)SC(=O)N1CCCCCC1 LMHHRCOWPQNFTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- 229940045946 sodium taurodeoxycholate Drugs 0.000 description 1
- YXHRQQJFKOHLAP-FVCKGWAHSA-M sodium;2-[[(4r)-4-[(3r,5r,8r,9s,10s,12s,13r,14s,17r)-3,12-dihydroxy-10,13-dimethyl-2,3,4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-tetradecahydro-1h-cyclopenta[a]phenanthren-17-yl]pentanoyl]amino]ethanesulfonate Chemical compound [Na+].C([C@H]1CC2)[C@H](O)CC[C@]1(C)[C@@H]1[C@@H]2[C@@H]2CC[C@H]([C@@H](CCC(=O)NCCS([O-])(=O)=O)C)[C@@]2(C)[C@@H](O)C1 YXHRQQJFKOHLAP-FVCKGWAHSA-M 0.000 description 1
- HFQQZARZPUDIFP-UHFFFAOYSA-M sodium;2-dodecylbenzenesulfonate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCC1=CC=CC=C1S([O-])(=O)=O HFQQZARZPUDIFP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003470 tongbaite Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 239000003643 water by type Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/182—Graphene
- C01B32/184—Preparation
- C01B32/19—Preparation by exfoliation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B19/00—Selenium; Tellurium; Compounds thereof
- C01B19/007—Tellurides or selenides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B21/00—Nitrogen; Compounds thereof
- C01B21/06—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron
- C01B21/064—Binary compounds of nitrogen with metals, with silicon, or with boron, or with carbon, i.e. nitrides; Compounds of nitrogen with more than one metal, silicon or boron with boron
- C01B21/0648—After-treatment, e.g. grinding, purification
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/90—Carbides
- C01B32/914—Carbides of single elements
- C01B32/921—Titanium carbide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01G—COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F
- C01G39/00—Compounds of molybdenum
- C01G39/06—Sulfides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B2204/00—Structure or properties of graphene
- C01B2204/20—Graphene characterized by its properties
- C01B2204/32—Size or surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/20—Particle morphology extending in two dimensions, e.g. plate-like
- C01P2004/24—Nanoplates, i.e. plate-like particles with a thickness from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/61—Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Colloid Chemistry (AREA)
Abstract
本发明公开了一种高质量大尺寸二维材料及其制备方法,其中制备方法包括:S1:将层状结构材料粉末进行预处理后分散到化学药液中,得到分散液;S2:将所述分散液置于乳化分散设备中,在所述化学药液以及乳化分散的作用下对所述层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离;S3:经离心分离、真空干燥,得到高质量大尺寸的二维材料。本发明提出的高质量大尺寸二维材料及其制备方法,简单快捷、剥离效率高、可实现连续规模化生产。
Description
技术领域
本发明涉及纳米材料技术领域,尤其涉及一种高质量大尺寸二维材料及其制备方法。
背景技术
以石墨烯、类石墨烯硫化钼等为代表的二维材料(一个维度上维持纳米尺度,电子只能在另两个非纳米尺度上自由运动的材料)因其独特的电子结构和力、光、电、磁、热学等性能,在能源存储/转换、光电探测、电子、催化、生物等诸多领域具有巨大的应用潜力。二维材料的制备技术可概括为两种:基于自下而上理念的化学气相沉积、外延生长、水热合成技术等和基于自上而下理念的微机械剥离、液相剥离技术等。其中,前者(化学气相沉积、外延生长、水热合成技术等)可提供相对高质量、大尺寸的二维材料,但依赖于昂贵的设备和苛刻的反应条件,操作复杂,成本高,难以实现大规模生产。微机械剥离技术于2004年由AndreGeim首次提出用来制备石墨烯,该技术采用光刻胶的粘附力克服分子层间的范德华力实现剥离,简单快捷,可获得高质量(保持原有的晶格结构)大尺寸的二维材料,但费时费力,产量低,重复性差,难以实现精确控制和大规模制备。
液相剥离技术直接将三维层状结构材料分散在液相(常加入表面活性剂或离子插层剂等)中,借助机械力(超声波、剪切、挤压、摩擦等)将其剥离成二维纳米片。液相剥离技术操作简单快捷,(与其它技术相比)产率高,便于量产,因此成为制备二维材料的重要手段。但是,超声波的空化效应决定着声波只能在有限区域内提供高的能量密度(如专利CN104591181A、CN107055497A),不能实现高效益的规模化生产,此外单层纳米片的产率较高,但尺寸较小;球磨辅助液相剥离技术经济简单,产率高,但球磨过程中粉体与球之间发生无规则、随机强烈碰撞,易破坏材料的晶体结构(引入随机不可控的结构缺陷),导致纳米片的某些性能恶化(如专利CN107381643A、CN106219608A)。
专利CN105800545A公开一种基于超重力旋转床反应器的液相剪切剥离技术,其主要步骤为:将层状材料粉末分散在液相中,通入到超重力旋转床反应器;高速旋转的床体产生强大的离心力场模拟超重力环境,气-液、液-液和液-固两相在超重力环境下的多空介质或孔道中流动接触产生巨大的剪切力,对粉末进行剥离;经离心、微孔滤膜抽滤和真空干燥获得二维纳米片。该工艺简单,易于规模放大,但剥离制备的二维纳米片单层产率低(层数≥4),且尺寸小于300nm。
Coleman JN公开报道一种基于Kitchen Blender或Silverson Mixers(CN105263858A;Paton KR et al.Nature Materials,2014,13:624-630.)的液相剪切剥离技术,主要借助转子与定子高速相对旋转产生的剪切力对分散在液相中的层状材料粉末进行高速剪切剥离。该技术高效快捷,应用广泛,但剥离制备的二维纳米片单层产率较低(层数≥2),且尺寸较小(≤600nm)。
总之,现有液相剥离技术制备二维材料仍存在一些问题,比如液相剥离制备的二维材料厚度(高达10层数厚)以及平面尺寸(几十纳米到几个微米)分布较宽;单层产率低(≤10%,基于锂离子插层的电化学剥离技术除外);总剥离率低(≤17%,Coleman JNetal.Advanced Materials,2011,23,3944-3948.);偏薄纳米片的尺寸往往偏小;部分试剂有毒、易燃易爆等。这些问题导致现有二维材料远远达不到工业商用产品的基本要求(低成本、高质量、高产率、安全绿色环保)。因此,有必要进一步探索发展一种更加高效快捷、应用广泛、可实现连续性批量生产高质量大尺寸二维材料的液相剥离技术。
以上背景技术内容的公开仅用于辅助理解本发明的构思及技术方案,其并不必然属于本专利申请的现有技术,在没有明确的证据表明上述内容在本专利申请的申请日已经公开的情况下,上述背景技术不应当用于评价本申请的新颖性和创造性。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提出一种高质量大尺寸二维材料及其制备方法,简单快捷、剥离效率高、可实现连续规模化生产。
为了达到上述目的,本发明采用以下技术方案:
本发明公开了一种高质量大尺寸二维材料的制备方法,包括以下步骤:
S1:将层状结构材料粉末进行预处理后分散到化学药液中,得到分散液;
S2:将所述分散液置于乳化分散设备中,在所述化学药液以及乳化分散的作用下对所述层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离;
S3:经离心分离、真空干燥,得到高质量大尺寸的二维材料。
优选地,步骤S1中的所述化学药液为表面活性剂溶液、有机溶剂、插层剂或者刻蚀剂。
优选地,其中的所述表面活性剂溶液为亲水性表面活性剂或亲油性表面活性剂;亲水性表面活性剂为脱氧胆酸盐、胆酸钠、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、牛磺脱氧胆酸盐、牛磺胆酸钠、聚乙二醇、季铵盐或者甜菜碱型表面活性剂;亲油性表面活性剂为三正辛基膦、氧化三正辛基膦、油胺、油酸与氢氧化钠混合液、油酸与氢氧化钾混合液或者油酸与三乙醇氨混合液;所述有机溶剂为N-甲基吡咯烷酮、N-环己基吡咯烷酮、N-乙基-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、邻苯二甲酸二乙酯、苯甲酸苄酯、二苄基醚、甲基氯仿或异丙醇;所述插层剂为碱金属、硝酸与有机酸混合液、硝酸与酸酐混合液、乙醇、叔丁醇、聚环氧乙烷、可溶性聚四氟乙烯、聚乙烯醇、邻苯二甲酸二乙二醇二丙烯酸酯、四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、氟化氢铵、季膦盐、十二烷基苯磺酸铵盐、N-十二烷基双季铵盐、多季胺盐或者吡啶衍生物;所述刻蚀剂为丁基锂、叔丁基锂、醇盐、四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、氟化氢铵、胺类碱、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氟酸、盐酸与氟化盐的混合液、硫酸与氟化盐的混合液或者低共熔混合盐。
优选地,步骤S1中所述化学药液为亲水性的表面活性剂溶液或亲油性的表面活性剂溶液,且其中亲水性的表面活性剂溶液或亲油性的表面活性剂溶液中的表面活性剂与所述层状结构材料粉末的质量浓度比例为1:500~1:50。
优选地,在步骤S1中的所述分散液中所述层状结构材料粉末的质量浓度为1~150g/L;进一步可以为1~50g/L。
优选地,其中步骤S1中的所述层状结构材料粉末的平均粒径为5~300μm。
优选地,其中步骤S1中的将层状结构材料粉末进行预处理包括:将层状结构材料粉末进行表面官能团改性处理、膨胀处理和/或插层处理。
优选地,步骤S2中所述乳化分散设备中的转子与定子之间的间隙为0.05~0.8mm。
优选地,所述乳化分散设备的转子转速为1000~26000rpm,工作时间为2~600min。
优选地,所述乳化分散设备包括循环管路和可密封的不锈钢罐,其中所述分散液置于所述不锈钢罐中进行处理。
优选地,所述乳化分散设备在对所述层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离时浆料温度为5~120℃。
优选地,所述乳化分散设备在对所述层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离时浆料所处的环境气氛为真空、空气、惰性、氧化性气体、还原性气体、碱性气体或酸性气体。
优选地,所述乳化分散设备在对所述层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离时浆料所处的环境气氛压力为-0.1~0.25MPa。
优选地,步骤S3中离心分离步骤所采用的离心机的转速为1000~10000rpm,离心时间为5-180min。
优选地,真空干燥步骤的温度为50~120℃,干燥时间为2-50h。
本发明还公开了一种高质量大尺寸二维材料,采用上述的制备方法制得。
优选地,二维材料的平面直径≥1.0μm。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:本发明中提出的高质量大尺寸二维材料的制备方法采用化学机械剥离制备得到高质量大尺寸二维材料,通过乳化分散设备对分散到化学药液中的层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离,其中乳化分散设备的转子相对于定子高速旋转产生极高的切向速度,使物料在狭窄的间隙中受到强烈挤压、摩擦、剪切和湍流等综合作用,瞬间均匀精细地破碎、分散、剥离,剪切作用力作用方向有序,获得的二维材料具有较大平面尺寸(二维各个方向的直径≥1.0μm);该制备方法中将化学效应与机械力协同作用于层状结构材料粉末,可获得高的剥离效率;简单快捷,且可实现连续规模化生产;因此,本发明的高质量大尺寸二维材料的制备方法技术简单、高效、快捷、应用广泛、可连续批量生产、易于实现工业化推广应用。
在进一步的方案中,乳化分散设备可提供多种气氛(真空、空气、惰性、氧化、还原、酸性气氛、碱性气氛)保护以及较宽的温度、压力范围,便于同时实现二维材料的剥离制备与化学改性(包括引入缺陷、表面官能团等);更进一步地,乳化分散设备包括循环管路和可密封不锈钢罐,加之转子转速与转子-定子间隙可在较宽范围内连续可调,可一次性制备层数连续可控的二维材料,同时高效快捷、安全环保,易于实现自动化控制量产。
附图说明
图1是本发明优选实施例的高质量大尺寸二维材料的制备方法的流程示意图。
具体实施方式
下面对照附图并结合优选的实施方式对本发明作进一步说明。
如图1,本发明优选实施例公开了一种高质量大尺寸二维材料的制备方法,包括以下步骤:
S1:将层状结构材料粉末进行预处理后分散到化学药液中,得到分散液;
其中,层状结构材料粉末具体为三维层状结构材料,该三维层状结构材料是指层内以强的共价键或离子键结合,而层与层之间依靠弱的范德华力堆叠在一起的新型材料,包括但不限于:石墨、膨胀石墨、六方氮化硼(h-BN)、过渡金属硫族化物(TMDs)、过渡金属氧化物(TMOs)、MAX(M为早期过渡金属,A为第三或四主族元素,X为C、N、Zr、Hf;如Ti3AlC2、Cr3AlC2、Ti2SiC、Ti2AlN、Ta4AlC3、(Ti0.5,Nb0.5)2AlC、Ti3(Al0.5,Si0.5)C2、Ti2Al(C0.5,N0.5)、Zr3Al3C5、Hf2[Al(Si)]4C5)、石墨相氮化碳(g-C3N4)、黑鳞(BP)、黑砷磷(b-AsP)、镓砷磷(GaAsP)、层状双氢氧化物(LDHs)、金属-有机骨架材料(MOF)、层状拓扑绝缘体(如Bi2Se3)、层状热电材料(如Bi2Te3)、层状超导材料(如NbSe2、CsNi2Se2、CuxBi2Se3、铋锶钙铜氧化物Bi2Sr2CaCu2O8+X),其中进一步地,石墨为膨胀石墨,其中石墨是指天然鳞片石墨,膨胀石墨是由天然鳞片石墨处理得到的层间距较大的石墨。
该层状结构材料粉末的平均粒径为5~300μm,其中的预处理包括但不限于表面官能团改性处理、膨胀处理、插层处理。
化学药液为表面活性剂溶液、有机溶剂、插层剂或者刻蚀剂。
表面活性剂溶液为亲水性表面活性剂或亲油性表面活性剂,亲水性表面活性剂可以为:脱氧胆酸盐(如脱氧胆酸钠(SDC))、胆酸钠(SC)、十二烷基苯磺酸钠(SDBS)、十二烷基硫酸钠(SDS)、牛磺脱氧胆酸盐(如牛磺脱氧胆酸钠(TDC))、牛磺胆酸钠(TC)、聚乙二醇(PEG)、季铵盐(如氯化双十烷基二甲基铵)、甜菜碱型表面活性剂(如N-羧甲基-N,N-二甲基-十二烷基铵内盐);亲油性表面活性剂可为三正辛基膦(TOP)、氧化三正辛基膦(TOPO)、油酸与氢氧化钠的混合液、油酸与氢氧化钾的混合液、油酸与三乙醇氨的混合液、油胺。其中,亲水性的表面活性剂溶液或亲油性的表面活性剂溶液中的表面活性剂与所述层状结构材料粉末的质量浓度比例为1:500~1:50。
有机溶剂可为N-甲基吡咯烷酮(NMP)、N-环己基吡咯烷酮(CHP)、N-乙基-吡咯烷酮(NEP)、二甲基甲酰胺(DMF)、二甲基亚砜(DMSO)、邻苯二甲酸二乙酯(DEP)、苯甲酸苄酯、二苄基醚(DE)、甲基氯仿(TCA)、异丙醇(IPA)或其它合适的有机溶剂。
插层剂可为碱金属、硝酸与有机酸的混合液、硝酸与酸酐的混合液、乙醇(EtOH)、叔丁醇(TBA)、聚环氧乙烷(PEO)、可溶性聚四氟乙烯(PFA)、聚乙烯醇(PVA)、邻苯二甲酸二乙二醇二丙烯酸酯(PDDA)、四甲基氢氧化铵(TMAH)、四丁基氢氧化铵(TBAH)、四乙基氢氧化铵(TEAH)、四丙基氢氧化铵(TPAH)、氟化氢铵(NH4HF2)、季膦盐(如十二烷基三苯基溴化膦(DTPB)和丁基三苯基溴化膦(BTPB))、十二烷基苯磺酸铵盐、N-十二烷基双季铵盐、多季胺盐、吡啶衍生物或其它合适的插层剂;其中的四甲基氢氧化铵(TMAH)、四丁基氢氧化铵(TBAH)、四乙基氢氧化铵(TEAH)、四丙基氢氧化铵(TPAH)、氟化氢铵(NH4HF2)均可以提供有机铵根离子。
刻蚀剂可为丁基锂、叔丁基锂、醇盐(如异丙醇钾、异丙醇钠)、四甲基氢氧化铵(TMAH)、四丁基氢氧化铵(TBAH)、氟化氢铵(NH4HF2)、胺类碱(如甲酰胺、苯甲酰胺)、氢氧化钠(NaOH)、氢氧化钾(KOH)、氢氟酸(HF)、酸(HCl、H2SO4)与氟化盐(LiF、NaF、KF、CsF、CaF2、TBAF)的混合溶液、低共熔混合盐(LiF/NaF/KF)或其它合适的刻蚀剂。
其中在分散液中层状结构材料粉末的质量浓度为1~150g/L;进一步可以为1~50g/L。
S2:将分散液置于乳化分散设备中,在化学药液以及乳化分散的作用下对层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离;
具体地,该乳化分散设备包括工作模块、操作面板、控制器、便携箱、循环管、(可密封)不锈钢罐、压力表、温度探测器、耐腐蚀密封圈;该乳化分散设备可针对不同粘度浆状的液体原料进行粉碎、分散、乳化、混合,通过分散盘上下锯齿的高速运转(转子/定子间的相对旋转)对物料进行高速强烈的剪切、撞击、粉碎、分散;乳化分散设备的转子相对于定子高速旋转所产生极高的切向速度,使分散于液体环境中的层状结构材料粉末在狭窄的间隙中受到多次高频循环往复的强烈挤压、摩擦、剪切和湍流等综合作用,瞬间均匀精细地破碎、分散、剥离。
该乳化分散设备含循环管路,可在一定时间内多次高频循环往复的剥离层状结构材料粉末;该乳化分散设备的转子与定子间隙可在0.05~0.8mm范围内连续调节,加之含有循环管路,可一次性剥离制备层数连续可控的二维材料;其中,乳化分散设备的转子转速为1000~26000rpm,工作时间为2~600min;乳化分散设备高速剪切剥离制备二维材料的过程中浆料温度为5~120℃;乳化分散设备高速剪切剥离制备二维材料的过程中浆料时所处环境气氛可为真空、空气、惰性(如氮气、氩气)、氧化性气体、还原性气体(如H2和N2混合气体)、碱性气体、酸性气体,进一步地,该环境气氛压力可为-0.1~0.25MPa;其中,乳化分散设备包括可密封的不锈钢罐,安全环保、经济,易于实现自动化控制量产。
S3:经离心分离、真空干燥,得到高质量大尺寸的二维材料(纳米片)。
具体地,离心分离步骤所采用的离心机的转速可为1000~10000rpm;离心时间可为5-180min;真空干燥步骤的温度可为50~120℃,干燥时间可为2-50h。该制得的二维材料的二维尺寸≥1.0μm,也即二维各个方向的直径≥1.0μm。
通过上述步骤制得的高质量大尺寸的二维材料包括石墨烯以及类石墨烯化合物,其中类石墨烯化合物包括但不限于六方氮化硼(h-BN)、过渡金属硫族化物(TMDs)、过渡金属氧化物(TMOs)、MXyTx(M为早期过渡金属,X为C、N、Zr、Hf;T为-OH、-O、-H、-F等Mn+1Xn表面终端的官能团;如Ti3C2Tx、Cr3C2Tx、Ti2CTx、Ti2NTx、Ta4C3Tx、(Ti0.5,Nb0.5)2CTx、Ti2(C0.5,N0.5)Tx、Zr3C5Tx、Hf2C5Tx)、石墨相氮化碳(g-C3N4)、黑鳞(BP)、黑砷磷(b-AsP)、镓砷磷(GaAsP)、层状双氢氧化物(LDHs)、金属-有机骨架材料(MOF)、层状拓扑绝缘体(如Bi2Se3)、层状热电材料(如Bi2Te3)、层状超导材料(如NbSe2、CsNi2Se2、CuxBi2Se3、铋锶钙铜氧化物Bi2Sr2CaCu2O8+X)或其它任意单层或几层的化合物纳米片。
下面结合七个典型的实施方式(不是全部实施方式)对本发明的技术方案做进一步阐述,明确本发明的目的以及优点。
实施方式一
本实施方式具体包括以下步骤:取40g平均粒径为10μm的天然鳞片石墨粉体和1.5LN-甲基吡咯烷酮(NMP)在不锈钢罐中混合;通入氩气,鼓泡30min;设定乳化分散机(德国IKAMagic LAB)转子-定子间隙为0.2mm,转速为5000rpm,工作时间2h,开启设备对石墨粉体进行剥离;设定离心机转速为3000rpm,离心时间为30min,开启设备对剥离后的浆料进行离心;取上层液体,在100℃下对其进行真空干燥24h,即可获得石墨烯。
实施方式二
本实施方式具体包括以下步骤:取40g平均粒径为10μm的天然鳞片石墨粉体、1.5L二甲基亚枫(DMSO)和45g氢化钠在不锈钢罐中混合;通入氩气,鼓泡30min;开启乳化分散机(日本PUC Colloid Mills),对石墨粉体进行剥离2h;设定离心机转速为3500rpm,离心时间为30min,开启设备对剥离后的浆料进行离心;取上层液体,在100℃下对其进行真空干燥24h,即可获得平均尺寸大于1μm的高质量石墨烯。
实施方式三
本实施方式具体包括以下步骤:取40g平均粒径为40μm的天然鳞片石墨粉体、1.5L异丙醇(IPA)和45g异丙醇锂在不锈钢罐中混合;通入氩气,鼓泡30min;设定乳化分散机(德国IKAMagic LAB)转子-定子间隙为0.4mm,转速为4000rpm,工作时间1h,开启设备对石墨粉体进行剥离;设定离心机转速为3000rpm,离心时间为30min,开启设备对剥离后的浆料进行离心;取上层液体,在100℃下对其进行真空干燥24h,即可获得平均尺寸大于3μm的高质量石墨烯。
实施方式四
本实施方式具体包括以下步骤:取40g平均粒径为10μm的MoS2粉体和1.5LN-甲基吡咯烷酮(NMP)在不锈钢罐中混合;通入氩气,鼓泡30min;开启乳化分散机(无锡江科PHM-15),对MoS2粉体进行剥离2h;设定离心机转速为5000rpm,离心时间为30min,开启设备对剥离后的浆料进行离心;取上层液体,在100℃下对其进行真空干燥24h,即可获得平均尺寸大于1μm的高质量二维MoS2纳米片。
实施方式四
本实施方式具体包括以下步骤:取40g平均粒径为10μm的MoS2粉体和1.5LN-甲基吡咯烷酮(NMP)在不锈钢罐中混合;通入氩气,鼓泡30min;设定乳化分散机(德国IKAMagicLAB)转子-定子间隙为0.6mm,转速为10000rpm,工作时间0.5h,开启设备对MoS2粉体进行剥离;设定离心机转速为5000rpm,离心时间为30min,开启设备对剥离后的浆料进行离心;取上层液体,在100℃下对其进行真空干燥24h,即可获得平均尺寸大于1μm的高质量二维MoS2纳米片。
实施方式五
本实施方式具体包括以下步骤:取40g平均粒径为10μm的WTe2粉体、12g脱氧胆酸钠(SDC)和1.5L去离子水在不锈钢罐中混合;通入氩气,鼓泡30min;设定乳化分散机(德国IKAMagic LAB)转子-定子间隙为0.3mm,转速为5000rpm,工作时间2h,开启设备对WSe2粉体进行剥离;设定离心机转速为5000rpm,离心时间为30min,开启设备对剥离后的浆料进行离心;取上层液体,在100℃下对其进行真空干燥24h,即可获得平均尺寸大于1μm的高质量二维WTe2纳米片。
实施方式六
本实施方式具体包括以下步骤:取30g平均粒径为40μm的Ti3AlC2粉体于1.5LHCl溶液(10wt%)中,静置30min;将预处理后的Ti3AlC2粉体和1.5L四甲基氢氧化铵(TMAH)在不锈钢罐中混合;通入氩气,鼓泡30min;设定乳化分散机(德国IKAMagic LAB)转子-定子间隙为0.6mm,转速为3000rpm,工作时间0.5h,开启设备对Ti3AlC2粉体进行刻蚀、剥离;设定离心机转速为5000rpm,离心时间为30min,开启设备对剥离后的浆料进行离心;取上层液体,在100℃下对其进行真空干燥24h,即可获得平均尺寸大于3μm的高质量二维Ti3C2纳米片。
实施方式七
本实施方式具体包括以下步骤:取30g平均粒径为10μm的h-BN粉体和2.0L苯甲酸苄酯在不锈钢罐中混合;通入氩气,鼓泡30min;设定多功能乳化分散机(德国IKAMagicLAB)转子-定子间隙为0.6mm,转速为3000rpm,工作时间1h,开启设备对h-BN粉体进行剥离;设定离心机转速为3000rpm,离心时间为30min,开启设备对剥离后的浆料进行离心;取上层液体,在100℃下对其进行真空干燥24h,即可获得平均尺寸大于1μm的高质量二维h-BN纳米片。
本发明具体实施方式的制备方法,通过调整乳化分散机转子-定子间隙、转速/时间、溶剂种类、温度和保护气氛等,可控制二维纳米片的尺寸(大小和厚度)和质量(缺陷等)。
乳化分散机通过分散盘上下锯齿的高速运转对不同粘度浆状的液体原料进行高速强烈的剪切、撞击、粉碎、分散、乳化、混合,从而达到迅速混合、溶解、分散、细化的目的。乳化分散机含有循环管、可密封不锈钢罐、温控系统,加之转子转速与转子-定子间隙在很宽范围内连续可调,因此本发明优选实施例中通过采用乳化分散机实现了一次性剥离制备层数连续可控的高质量大尺寸二维材料,而且制备过程安全环保、经济,易于实现自动化控制量产。现有液相剥离技术制备二维材料的过程主要依赖机械力(如球磨、超声、搅拌等过程中产生的作用力);而在本发明优选实施例中将化学效应与机械力协同作用于层状结构材料粉末,获得了更高的剥离效率。
本发明优选实施方式中采用乳化分散机的转子相对于定子高速旋转所产生极高的切向速度,使物料在狭窄的间隙中受到强烈挤压、摩擦、剪切和湍流等综合作用,瞬间均匀精细地破碎、分散、剥离,剪切作用力作用方向有序,获得的二维材料具有较大平面尺寸(二维各个方向的直径≥1.0μm);其中乳化分散机可提供多种气氛(真空、空气、惰性、氧化、还原、酸性气氛、碱性气氛)保护以及较宽的温度、压力范围,便于同时实现二维材料的剥离制备与化学改性(包括引入缺陷、表面官能团等);且在乳化分散机含有循环管路和可密封不锈钢罐,加之转子转速与转子-定子间隙可在较宽范围内连续可调,可一次性制备层数连续可控的二维材料,同时高效快捷、安全环保,易于实现自动化控制量产;本发明将化学效应与机械力协同作用于层状结构材料粉末,可获得高的剥离效率;该方法技术简单、高效、快捷、应用广泛、可连续批量生产、易于实现工业化推广应用。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明,不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干等同替代或明显变型,而且性能或用途相同,都应当视为属于本发明的保护范围。
Claims (10)
1.一种高质量大尺寸二维材料的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:将层状结构材料粉末进行预处理后分散到化学药液中,得到分散液;
S2:将所述分散液置于乳化分散设备中,在所述化学药液以及乳化分散的作用下对所述层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离;
S3:经离心分离、真空干燥,得到高质量大尺寸的二维材料。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤S1中的所述化学药液为表面活性剂溶液、有机溶剂、插层剂或者刻蚀剂;进一步地:
其中的所述表面活性剂溶液为亲水性表面活性剂或亲油性表面活性剂;亲水性表面活性剂为脱氧胆酸盐、胆酸钠、十二烷基苯磺酸钠、十二烷基硫酸钠、牛磺脱氧胆酸盐、牛磺胆酸钠、聚乙二醇、季铵盐或者甜菜碱型表面活性剂;亲油性表面活性剂为三正辛基膦、氧化三正辛基膦、油胺、油酸与氢氧化钠混合液、油酸与氢氧化钾混合液或者油酸与三乙醇氨混合液;
所述有机溶剂为N-甲基吡咯烷酮、N-环己基吡咯烷酮、N-乙基-吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、邻苯二甲酸二乙酯、苯甲酸苄酯、二苄基醚、甲基氯仿或异丙醇;
所述插层剂为碱金属、硝酸与有机酸混合液、硝酸与酸酐混合液、乙醇、叔丁醇、聚环氧乙烷、可溶性聚四氟乙烯、聚乙烯醇、邻苯二甲酸二乙二醇二丙烯酸酯、四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、氟化氢铵、季膦盐、十二烷基苯磺酸铵盐、N-十二烷基双季铵盐、多季胺盐或者吡啶衍生物;
所述刻蚀剂为丁基锂、叔丁基锂、醇盐、四甲基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、氟化氢铵、胺类碱、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氟酸、盐酸与氟化盐的混合液、硫酸与氟化盐的混合液或者低共熔混合盐。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤S1中所述化学药液为亲水性的表面活性剂溶液或亲油性的表面活性剂溶液,且其中亲水性的表面活性剂溶液或亲油性的表面活性剂溶液中的表面活性剂与所述层状结构材料粉末的质量浓度比例为1:500~1:50。
4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,在步骤S1中的所述分散液中所述层状结构材料粉末的质量浓度为1~150g/L;进一步地,在步骤S1中的所述分散液中所述层状结构材料粉末的质量浓度为1~50g/L。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,其中步骤S1中的所述层状结构材料粉末的平均粒径为5~300μm,进一步地,其中步骤S1中的将层状结构材料粉末进行预处理包括:将层状结构材料粉末进行表面官能团改性处理、膨胀处理和/或插层处理。
6.根据权利要求1至5任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤S2中所述乳化分散设备中的转子与定子之间的间隙为0.05~0.8mm;进一步地,所述乳化分散设备的转子转速为1000~26000rpm,工作时间为2~600min。
7.根据权利要求1至5任一项所述的制备方法,其特征在于,所述乳化分散设备包括循环管路和可密封的不锈钢罐,其中所述分散液置于所述不锈钢罐中进行处理;进一步地,所述乳化分散设备在对所述层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离时浆料温度为5~120℃。
8.根据权利要求1至5任一项所述的制备方法,其特征在于,所述乳化分散设备在对所述层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离时浆料所处的环境气氛为真空、空气、惰性、氧化性气体、还原性气体、碱性气体或酸性气体,进一步地,所述乳化分散设备在对所述层状结构材料粉末进行化学及剪切剥离时浆料所处的环境气氛压力为-0.1~0.25MPa。
9.根据权利要求1至5任一项所述的制备方法,其特征在于,步骤S3中离心分离步骤所采用的离心机的转速为1000~10000rpm,离心时间为5-180min;进一步地,真空干燥步骤的温度为50~120℃,干燥时间为2-50h。
10.一种高质量大尺寸二维材料,其特征在于,采用权利要求1至9任一项所述的制备方法制得;进一步地,二维材料的平面直径≥1.0μm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810753613.0A CN108793140B (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 一种高质量大尺寸二维材料及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810753613.0A CN108793140B (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 一种高质量大尺寸二维材料及其制备方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108793140A true CN108793140A (zh) | 2018-11-13 |
CN108793140B CN108793140B (zh) | 2020-09-08 |
Family
ID=64075972
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810753613.0A Expired - Fee Related CN108793140B (zh) | 2018-07-10 | 2018-07-10 | 一种高质量大尺寸二维材料及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN108793140B (zh) |
Cited By (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109763054A (zh) * | 2019-03-21 | 2019-05-17 | 陕西理工大学 | 一种多元混杂碳化物硬质合金及其制备方法和应用 |
CN110451565A (zh) * | 2019-09-10 | 2019-11-15 | 深圳中科智车联合发展有限公司 | 一种制备二维层状纳米材料的方法 |
CN110627025A (zh) * | 2019-11-06 | 2019-12-31 | 榆林学院 | 一种超声耦合超重力旋转床剥离制备二维石墨相氮化碳分散液的方法 |
CN111232982A (zh) * | 2020-03-18 | 2020-06-05 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种二维Ti3C2TX纳米片的剥离方法 |
CN111229199A (zh) * | 2019-10-09 | 2020-06-05 | 武汉纺织大学 | 液相剥离法制备二维铋基氧族化合物纳米片的方法及应用 |
CN111498850A (zh) * | 2020-04-26 | 2020-08-07 | 江南大学 | 一种二维过渡金属碳氮化物及其制备方法和应用 |
CN111606324A (zh) * | 2019-02-22 | 2020-09-01 | 河南大学 | 一种湿法机械剥离制备二维材料的方法 |
CN112023702A (zh) * | 2020-09-07 | 2020-12-04 | 湖北中烟工业有限责任公司 | 一种羟基化氮化硼复合膜及其制备方法和应用 |
CN112209354A (zh) * | 2019-06-26 | 2021-01-12 | 苏州太湖电工新材料股份有限公司 | 一种制备疏水型六方氮化硼纳米片的方法 |
CN112624115A (zh) * | 2021-01-14 | 2021-04-09 | 山东大学 | 一种润滑剂用Ti2CTx纳米片及其制备方法与应用 |
CN112768835A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-05-07 | 陈云 | 一种Cr3AlC2/PVDF-PVA锂离子电池隔膜的制备方法 |
CN114074927A (zh) * | 2020-08-18 | 2022-02-22 | 清华大学深圳国际研究生院 | 一种二维材料及其制备方法和复合膜 |
CN114147211A (zh) * | 2021-12-07 | 2022-03-08 | 合肥工业大学 | 一种铜锡双金属烯纳米片及其制备方法 |
CN115505781A (zh) * | 2022-09-07 | 2022-12-23 | 河海大学 | 一种利用MXene局部原位氧化与基体形成钉扎效应的铜基复合材料强化方法 |
CN115611247A (zh) * | 2021-07-13 | 2023-01-17 | 华南理工大学 | 一种制备少层黑磷烯的方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101857221A (zh) * | 2010-05-21 | 2010-10-13 | 哈尔滨工业大学 | 高效率制备石墨烯复合物或氧化石墨烯复合物的方法 |
CN104402053A (zh) * | 2014-11-04 | 2015-03-11 | 中国科学院大学 | 一种类石墨烯二维纳米片的制备方法 |
CN104495936A (zh) * | 2014-12-12 | 2015-04-08 | 电子科技大学 | 一种层状二硫化钼纳米材料的制备方法 |
CN105523549A (zh) * | 2016-01-28 | 2016-04-27 | 成都新柯力化工科技有限公司 | 一种用于机械剥离法制备石墨烯的剥离剂及应用 |
CN106315669A (zh) * | 2016-08-30 | 2017-01-11 | 陕西科技大学 | 一种二维Ti2AlC纳米片的制备方法 |
CN106395807A (zh) * | 2016-08-30 | 2017-02-15 | 北京化工大学 | 一种高效低成本制备二维纳米材料的方法 |
CN106672954A (zh) * | 2017-01-20 | 2017-05-17 | 北京航空航天大学 | 一种液相剥离制备石墨烯二维材料的方法 |
CN106915770A (zh) * | 2015-12-25 | 2017-07-04 | 华中科技大学 | 一种合成二氧化钛纳米薄膜的方法 |
-
2018
- 2018-07-10 CN CN201810753613.0A patent/CN108793140B/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101857221A (zh) * | 2010-05-21 | 2010-10-13 | 哈尔滨工业大学 | 高效率制备石墨烯复合物或氧化石墨烯复合物的方法 |
CN104402053A (zh) * | 2014-11-04 | 2015-03-11 | 中国科学院大学 | 一种类石墨烯二维纳米片的制备方法 |
CN104495936A (zh) * | 2014-12-12 | 2015-04-08 | 电子科技大学 | 一种层状二硫化钼纳米材料的制备方法 |
CN106915770A (zh) * | 2015-12-25 | 2017-07-04 | 华中科技大学 | 一种合成二氧化钛纳米薄膜的方法 |
CN105523549A (zh) * | 2016-01-28 | 2016-04-27 | 成都新柯力化工科技有限公司 | 一种用于机械剥离法制备石墨烯的剥离剂及应用 |
CN106315669A (zh) * | 2016-08-30 | 2017-01-11 | 陕西科技大学 | 一种二维Ti2AlC纳米片的制备方法 |
CN106395807A (zh) * | 2016-08-30 | 2017-02-15 | 北京化工大学 | 一种高效低成本制备二维纳米材料的方法 |
CN106672954A (zh) * | 2017-01-20 | 2017-05-17 | 北京航空航天大学 | 一种液相剥离制备石墨烯二维材料的方法 |
Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111606324B (zh) * | 2019-02-22 | 2023-06-30 | 河南大学 | 一种湿法机械剥离制备二维材料的方法 |
CN111606324A (zh) * | 2019-02-22 | 2020-09-01 | 河南大学 | 一种湿法机械剥离制备二维材料的方法 |
CN109763054A (zh) * | 2019-03-21 | 2019-05-17 | 陕西理工大学 | 一种多元混杂碳化物硬质合金及其制备方法和应用 |
CN112209354A (zh) * | 2019-06-26 | 2021-01-12 | 苏州太湖电工新材料股份有限公司 | 一种制备疏水型六方氮化硼纳米片的方法 |
CN112209354B (zh) * | 2019-06-26 | 2021-11-19 | 苏州太湖电工新材料股份有限公司 | 一种制备疏水型六方氮化硼纳米片的方法 |
CN110451565A (zh) * | 2019-09-10 | 2019-11-15 | 深圳中科智车联合发展有限公司 | 一种制备二维层状纳米材料的方法 |
CN111229199A (zh) * | 2019-10-09 | 2020-06-05 | 武汉纺织大学 | 液相剥离法制备二维铋基氧族化合物纳米片的方法及应用 |
CN110627025A (zh) * | 2019-11-06 | 2019-12-31 | 榆林学院 | 一种超声耦合超重力旋转床剥离制备二维石墨相氮化碳分散液的方法 |
CN111232982A (zh) * | 2020-03-18 | 2020-06-05 | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 | 一种二维Ti3C2TX纳米片的剥离方法 |
CN111498850A (zh) * | 2020-04-26 | 2020-08-07 | 江南大学 | 一种二维过渡金属碳氮化物及其制备方法和应用 |
CN111498850B (zh) * | 2020-04-26 | 2021-08-20 | 江南大学 | 一种二维过渡金属碳氮化物及其制备方法和应用 |
CN114074927B (zh) * | 2020-08-18 | 2023-02-03 | 清华大学深圳国际研究生院 | 一种二维材料及其制备方法和复合膜 |
CN114074927A (zh) * | 2020-08-18 | 2022-02-22 | 清华大学深圳国际研究生院 | 一种二维材料及其制备方法和复合膜 |
CN112023702A (zh) * | 2020-09-07 | 2020-12-04 | 湖北中烟工业有限责任公司 | 一种羟基化氮化硼复合膜及其制备方法和应用 |
CN112023702B (zh) * | 2020-09-07 | 2022-02-08 | 湖北中烟工业有限责任公司 | 一种羟基化氮化硼复合膜及其制备方法和应用 |
CN112768835A (zh) * | 2021-01-07 | 2021-05-07 | 陈云 | 一种Cr3AlC2/PVDF-PVA锂离子电池隔膜的制备方法 |
CN112624115B (zh) * | 2021-01-14 | 2022-10-04 | 山东大学 | 一种润滑剂用Ti2CTx纳米片及其制备方法与应用 |
CN112624115A (zh) * | 2021-01-14 | 2021-04-09 | 山东大学 | 一种润滑剂用Ti2CTx纳米片及其制备方法与应用 |
CN115611247A (zh) * | 2021-07-13 | 2023-01-17 | 华南理工大学 | 一种制备少层黑磷烯的方法 |
CN115611247B (zh) * | 2021-07-13 | 2023-11-24 | 华南理工大学 | 一种制备少层黑磷烯的方法 |
CN114147211A (zh) * | 2021-12-07 | 2022-03-08 | 合肥工业大学 | 一种铜锡双金属烯纳米片及其制备方法 |
CN114147211B (zh) * | 2021-12-07 | 2024-01-30 | 合肥工业大学 | 一种铜锡双金属烯纳米片及其制备方法 |
CN115505781A (zh) * | 2022-09-07 | 2022-12-23 | 河海大学 | 一种利用MXene局部原位氧化与基体形成钉扎效应的铜基复合材料强化方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108793140B (zh) | 2020-09-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN108793140A (zh) | 一种高质量大尺寸二维材料及其制备方法 | |
CN106219608B (zh) | 一种二维材料的制备方法 | |
CN101817516A (zh) | 高效率低成本机械剥离制备石墨烯或氧化石墨烯的方法 | |
CN104803380B (zh) | 一种石墨烯的制备方法 | |
CN103253659B (zh) | 一种超声波剥离石墨制备石墨烯的方法 | |
CN104402053B (zh) | 一种类石墨烯二维纳米片的制备方法 | |
CN105366668A (zh) | 一种超临界流体制备石墨烯的方法 | |
US20190023577A1 (en) | Industrial method for preparing large-sized graphene | |
CN105236366A (zh) | 一种黑磷烯纳米片的制备方法 | |
CN107098344A (zh) | 一种二维层状MXene材料的制备方法 | |
CN101857221A (zh) | 高效率制备石墨烯复合物或氧化石墨烯复合物的方法 | |
CN111606324B (zh) | 一种湿法机械剥离制备二维材料的方法 | |
CN107151002B (zh) | 一种以浓硫酸为插层剂制备单层或寡层氮化硼纳米片的方法 | |
CN102583335A (zh) | 一种石墨烯均匀分散液的制备方法 | |
CN103130276B (zh) | 一种钒酸镉纳米棒的制备方法 | |
CN105273114B (zh) | 一种低氧化程度石墨烯改性聚甲基丙烯酸甲酯复合材料的制备方法 | |
CN110143586A (zh) | 一种单层或少层的石墨烯的制备方法 | |
CN107814380A (zh) | 利用剪切增稠体系剥离石墨制备石墨烯的方法 | |
CN110040728B (zh) | 剥离层状材料并尺寸筛选分离二维纳米片的方法及设备 | |
CN102826540A (zh) | 一种制备还原石墨烯或石墨烯薄膜的方法 | |
CN111320150A (zh) | 一种利用碱金属盐的离子插入超声剥离制备六方氮化硼纳米片的方法 | |
CN106477631A (zh) | 一种实现二硫化钼2h到1t相转变的方法 | |
CN109576454A (zh) | 金属纳米片的制备方法、金属纳米片、用途和负极活性材料 | |
CN100503094C (zh) | 一种Co-Ni-Cu体系非晶态合金单分散性纳米粒子的制备方法 | |
CN102133645B (zh) | 一种环境友好的微米级三角形银片的制备方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20200908 |