CN108774467A - 玻璃抛光用组合物 - Google Patents

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肖辉亚
黄灿容
田露
李�浩
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Dongguan Shuo Feng Grinding Technology Co Ltd
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    • C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
    • C09G1/00—Polishing compositions
    • C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
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Abstract

一种玻璃抛光用组合物，适用于平板显示玻璃基板表面的抛光，各组分配比为：碳化硅粉5~30wt%；二氧化硅溶胶0.1~2wt%；碳化硅二氧化硅桥联剂1~5wt%；表面保护膜形成剂0.1~2wt%；分散剂0.05~0.1wt%；去离子水余量。本发明具有可在低压下明显提升玻璃抛光速率，获得粗糙度更低的玻璃表面的优点。

Description

玻璃抛光用组合物
技术领域
本发明涉及一种对平板玻璃表面进行抛光的抛光组合物，尤其是一种适合于手机玻璃屏抛光的玻璃抛光用组合物。
背景技术
常规抛光系统的磨粒一般用氧化铈系列或硅溶胶系列，氧化铈系列的抛光系统，玻璃去除速率相对较低（小于0.5微米/分钟），对于用于平板显示的玻璃基板表面的抛光，该系统并不完全令人满意。而采用相对大的颗粒往往在玻璃表面上形成大划痕及凹坑，使玻璃面板的光学性能劣化，而且像铈一样的稀土是不可再生资源。硅溶胶的抛光系统能达到很好的表面质量，但是去除速率更低，不能满足平板玻璃基板市场的需求。
发明内容
针对现有技术的以上缺陷或改进需求，本发明提供了一种玻璃抛光用组合物，可在低压下明显提升玻璃抛光速率，获得粗糙度更低的玻璃表面。
本发明的技术方案是：提供一种玻璃抛光用组合物，适用于平板显示玻璃基板表面的抛光，各组分配比为：
碳化硅粉 5~30wt%
二氧化硅溶胶 0.1~2wt%
碳化硅二氧化硅桥联剂 1~5wt%
表面保护膜形成剂 0.1~2wt%
分散剂 0.05~0.1wt%
去离子水 余量。
作为对本发明的改进，所述碳化硅粉的平均粒径D50在1.2至3.0微米之间选择。
作为对本发明的改进，所述二氧化硅溶胶中的二氧化硅颗粒的平均粒径为90 nm-110nm。
作为对本发明的改进，所述二氧化硅桥联剂是磺化三聚氰胺甲醛树脂、二叔丁基苯酚或油酸钠。
作为对本发明的改进，所述表面保护膜形成剂是木糖醇、葡萄糖或季戊四醇。
作为对本发明的改进，所述分散剂是硬脂酸甘油酯、二油酸甘油酯或三聚甘油酯。
本发明的组分中，采用碳化硅粉，由于碳化硅粉的晶体结构，硬度高，切削能力强，化学性质稳定，导热性能好。碳化硅粉的微观形状呈六方晶体,碳化硅的莫氏硬度为9.2。
采用碳化硅二氧化硅桥联剂使碳化硅颗粒与二氧化硅颗粒相结合，形成更稳定的抛光粒子，不仅提升碳化硅的悬浮稳定性，且相应增加了抛光颗粒在玻璃表面的作用效率，提升了抛光速率，更好地修复表面。
在抛光过程中，由于表面应力大，为降低其在抛光过程中的应力积聚，本发明采用表面保护膜形成剂，可有效提升超薄玻璃抛光过程中的成品率；本发明中的表面保护膜形成剂为木糖醇、葡萄糖或季戊四醇，其在抛光过程中玻璃表面形成吸附，在增加玻璃表面的羟基密度，使抛光过程中应力分布更均匀的同时，形成保护膜，进一步降低表面损伤及缺陷产。
在本发明的组分中，分散剂是硬脂酸甘油酯、二油酸甘油酯或三聚甘油酯，在碳化硅颗粒的表面形成吸附层,使固体颗粒表面的电荷增加，提高形成立体阻碍的颗粒间的反作用力，不但提升碳化硅的悬浮稳定性，且相应增加了抛光颗粒在玻璃表面的作用效率，提升了抛光速率。
具体实施方式
下面结合具体案例对本发明进行说明。
实施例1
一种玻璃抛光用组合物，包括重量百分比的下述成份：
碳化硅粉 （D50 1.2um） 15wt%
二氧化硅溶胶 （D50 0.1um） 2wt%
磺化三聚氰胺甲醛树脂 1wt%
木糖醇 1wt%
硬脂酸甘油酯 0.05wt%
去离子水 余量。
实施例2
一种玻璃抛光用组合物，包括重量百分比的下述成份：
碳化硅粉 （D50 1.2um） 15wt%
二氧化硅溶胶 （D50 0.1um） 2wt%
二叔丁基苯酚或油酸钠 2wt%
葡萄糖 1wt%
二油酸甘油酯 0.05wt%
去离子水 余量。
实施例3
一种玻璃抛光用组合物，包括重量百分比的下述成份：
碳化硅粉 （D50 1.2um） 15wt%
二氧化硅溶胶 （D50 0.1um） 2wt%
磺化三聚氰胺甲醛树脂 5wt%
季戊四醇 1wt%
三聚甘油酯 0.05wt%
去离子水 余量。
实施例4
一种玻璃抛光用组合物，包括重量百分比的下述成份：
碳化硅粉 （D50 2.0um） 5wt%
二氧化硅溶胶 （D50 0.11um） 1wt%
二叔丁基苯酚或油酸钠 2wt%
木糖醇 2wt%
硬脂酸甘油酯 0.1wt%
去离子水 余量。
实施例5
一种玻璃抛光用组合物，包括重量百分比的下述成份：
碳化硅粉 （D50 3.0um） 30wt%
二氧化硅溶胶 （D50 0.09um） 0.1wt%
磺化三聚氰胺甲醛树脂 2wt%
木糖醇 0.1wt%
硬脂酸甘油酯 0.08wt%
去离子水 余量。
对照样：氧化铈 10%（D50 1.2um），钼酸铵5%，硝酸铈铵20%，六偏磷酸钠0.1%，余量为去离子水。
从上表可以看出，随着碳化硅二氧化硅桥联剂磺化三聚氰胺甲醛树脂的含量增加，抛光速率得到相应提高，表面粗糙度也随着下降，含量从2%到5%提高的幅度变小，证明碳化硅和二氧化硅已经充分桥联。
添加碳化硅二氧化硅桥联剂，能明显提高抛光速率和减低表面粗糙度。
单纯的碳化硅作为磨料，就算添加碳化硅二氧化硅桥联剂也不起作用。
单纯的二氧化硅溶胶作为磨料，能得到非常好的表面粗糙度，但是抛光速率非常低。
本领域的技术人员容易理解，以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种玻璃抛光用组合物，适用于平板显示玻璃基板表面的抛光，其特征在于，各组分配比为：
碳化硅粉 5~30wt%
二氧化硅溶胶 0.1~2wt%
碳化硅二氧化硅桥联剂 1~5wt%
表面保护膜形成剂 0.1~2wt%
分散剂 0.05~0.1wt%
去离子水 余量。
2.根据权利要求1所述的玻璃抛光用组合物，其特征在于，所述碳化硅粉的平均粒径D50在1.2至3.0微米之间选择。
3.根据权利要求1所述的玻璃抛光用组合物，其特征在于，所述二氧化硅溶胶中的二氧化硅颗粒的平均粒径为90 nm -110nm。
4.根据权利要求1所述的玻璃抛光用组合物，其特征在于，所述碳化硅二氧化硅桥联剂是磺化三聚氰胺甲醛树脂、二叔丁基苯酚或油酸钠。
5.根据权利要求1所述的玻璃抛光用组合物，其特征在于，所述表面保护膜形成剂是木糖醇、葡萄糖或季戊四醇。
6.根据权利要求1所述的玻璃抛光用组合物，其特征在于，所述分散剂是硬脂酸甘油酯、二油酸甘油酯或三聚甘油酯。
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Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102174294A (zh) * 2011-03-11 2011-09-07 金瑞新材料科技股份有限公司 硬盘磁头的抛光液及其制备方法
CN104479560A (zh) * 2014-12-30 2015-04-01 深圳市力合材料有限公司 一种适用于低下压力的集成电路铜抛光液
CN104818136A (zh) * 2015-04-30 2015-08-05 青岛德翕拓创高新技术有限公司 一种用于精密零件的洗涤剂
CN106189873A (zh) * 2016-07-22 2016-12-07 清华大学 一种抛光组合物
CN106244021A (zh) * 2015-06-05 2016-12-21 气体产品与化学公司 使用二氧化铈涂布的二氧化硅磨料的屏障化学机械平面化浆料
CN106833389A (zh) * 2017-01-10 2017-06-13 清华大学 一种适用于砷化镓晶片的化学机械抛光组合物

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102174294A (zh) * 2011-03-11 2011-09-07 金瑞新材料科技股份有限公司 硬盘磁头的抛光液及其制备方法
CN104479560A (zh) * 2014-12-30 2015-04-01 深圳市力合材料有限公司 一种适用于低下压力的集成电路铜抛光液
CN104818136A (zh) * 2015-04-30 2015-08-05 青岛德翕拓创高新技术有限公司 一种用于精密零件的洗涤剂
CN106244021A (zh) * 2015-06-05 2016-12-21 气体产品与化学公司 使用二氧化铈涂布的二氧化硅磨料的屏障化学机械平面化浆料
CN106189873A (zh) * 2016-07-22 2016-12-07 清华大学 一种抛光组合物
CN106833389A (zh) * 2017-01-10 2017-06-13 清华大学 一种适用于砷化镓晶片的化学机械抛光组合物

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