CN108611660A - 高光电转换效率Bi2MoO6光阳极及其制备方法和应用 - Google Patents

高光电转换效率Bi2MoO6光阳极及其制备方法和应用 Download PDF

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Abstract

本发明提出了高光电转换效率Bi2MoO6光阳极及其制备方法和应用。本发明先通过磁控溅射法在导电玻璃基底覆盖一层致密的Bi2MoO6薄膜,再利用电泳沉积法在该薄膜上沉积一层Bi2MoO6粉体,经过高温退火处理后,形成高结晶性的Bi2MoO6光阳极薄膜。本发明制备出的光阳极薄膜有效的改善了载流子的传输效率,降低电子空穴的复合率,显著提高了光阳极的光电转换效率。本发明制备方法成本低、简单、方便操作,可广泛应用于多种电极薄膜的光电化学分解水体系。

Description

高光电转换效率Bi2MoO6光阳极及其制备方法和应用
技术领域
本发明属于光电化学技术领域,具体涉及一种高光电转换效率的Bi2MoO6光阳极及其制备方法。
背景技术
光电化学(PEC)水分解技术是一种环境友好型技术,其利用太阳光分解水制氢获得可再生能源,是目前解决环境和能源问题的主要手段。在PEC系统中,光阳极是决定系统性能的关键部件。因此,提高光阳极性能已成为PEC研究中最重要的课题之一,是实现光电化学分解水大规模应用的关键。
Bi2MoO6是一种典型的铋系n型可见光驱动的半导体,其带隙约为2.6eV。作为一类最简单的Aurivillius型结构材料,其在太阳能转换及环境污染治理方面表现出优异的可见光催化活性。目前,关于Bi2MoO6在PEC中的应用的报道并不多,并且在少量的报道中,其产生的光流小、量子效率低。因此,如何进一步提高Bi2MoO6的光电转换效率成为人们研究的重点。
发明内容
本发明提供一种高光电转换效率的Bi2MoO6光阳极的制备方法,使得电极薄膜中载流子进行有效传输,降低电子空穴复合率,从而提高光阳极的光电转换效率,此制备方法简单、方便、易操作、有利于大规模制备。
本发明采用的技术方案为:高光电转换效率Bi2MoO6光阳极是,首先利用磁控溅射的方法在导电基底上附着一层Bi2MoO6薄膜,再通过电泳沉积法在Bi2MoO6薄膜上沉积Bi2MoO6粉体,经高温退火处理制得。
一种高光电转换效率Bi2MoO6光阳极的制备方法,包括如下步骤:
1)利用磁控溅射的方法在导电基底上附着一层Bi2MoO6薄膜:安装Bi2MoO6靶材和FTO基底,导电层面向靶材,采用直靶溅射的方式,调整靶材与基底的间距,对磁控溅射镀膜设备的溅射腔室进行抽真空处理,至本底气压为1.7×10-4Pa;设定射频电源功率;溅射过程中的气压保持在0.5Pa,FTO不加热,并设置沉积时间;将制得的附着一层Bi2MoO6薄膜的FTO基底密封保存;
2)通过电泳沉积法在Bi2MoO6薄膜上沉积Bi2MoO6粉体:将适量的Bi2MoO6粉末样品和I2超声震荡分散于丙酮与水的混合溶液中,获得电泳沉积的悬浮液;将步骤1)制备的附着一层Bi2MoO6薄膜的FTO基底与一个清洗干净的FTO基底插入到电泳沉积的悬浮液中,并在两电极间施加一定的直流电压,沉积设定的时间后,切断电流,将电泳沉积了Bi2MoO6粉末的附着一层Bi2MoO6薄膜的FTO基底从悬浮液中取出,在室温条件下晾干并在马弗炉中焙烧,得到高光电转换效率Bi2MoO6光阳极。
优选的,步骤1)中,调整靶材与基底的间距为6cm。
优选的,步骤1)中,设定射频电源功率为60W,设置沉积时间为1h。
优选的,步骤2)中,I2与Bi2MoO6的质量比为6:1;丙酮与水的混合溶液中,按体积比,丙酮:水=25:1。
优选的,步骤2)中,在两电极间施加15V的直流电压,沉积时间为1-5min。
优选的,步骤2)中,马弗炉中焙烧温度为500℃,焙烧时间为90min。
上述的高光电转换效率Bi2MoO6光阳极在光电化学水分解中的应用。
本发明具有以下有益效果:
电泳沉积法是一种常见的制备电极薄膜的方法,其具有成本低、易操作、耗时短等优点,但是其制备出的薄膜颗粒间连接性差,并且与导电基底的附着力小,限制光生载流子的传输,从而导致电极薄膜的光电转换效率低。本发明将磁控溅射法与电泳沉积法相结合,先通过磁控溅射法在导电玻璃基底覆盖一层致密的Bi2MoO6薄膜,再利用电泳沉积法在该薄膜上沉积一层Bi2MoO6粉体,经过高温退火处理后,形成高结晶性的Bi2MoO6光阳极薄膜。这种方法缓解了通过电泳沉积法制备的薄膜的缺点,降低了孔隙率并改善了颗粒间的连接性,从而提高了载流子的传输效率以及导电基底对电子的收集效率,获得高PEC性能的Bi2MoO6光阳极。本发明方法简单、易操作,除了Bi2MoO6光电极体系外,还可广泛的应用于其他的半导体光电极体系。
附图说明
图1为实施例1中得到的Bi2MoO6光阳极薄膜的XRD图。
图2为实施例1中得到的Bi2MoO6光阳极薄膜的SEM图。
图3为实施例2中BMO与BMO-S薄膜的光电流的对比图。
图4为实施例2中BMO与BMO-S薄膜的阻抗图谱的对比图。
图5为实施例2中BMO与BMO-S薄膜的量子效率对比图。
具体实施方式
实施例1 Bi2MoO6光阳极的制备
(一)Bi2MoO6粉末的制备:
1)取2.425g Bi(NO3)3·5H2O和0.442g(NH4)6Mo7O24·4H2O分别溶解在15ml去离子水和乙醇(v:v=1:1)的混合溶液中,同时进行磁力搅拌15min;
2)将以上两种溶液混合并搅拌20分钟,并将所得溶液转移至50ml不锈钢高压釜中,将其放在马弗炉中,160℃加热15小时;
3)冷却至室温后,取出样品进行离心,并用去离子水和乙醇洗涤三次,以去除残留物,然后在70℃下干燥。最后得到黄色粉末为Bi2MoO6
(二)高光电转换效率Bi2MoO6光阳极(BMO-S)的制备:
1)磁控溅射沉积过程:首先,安装Bi2MoO6靶材和FTO基底,导电层面向靶材,采用直靶溅射的方式,调整靶材与基底的距离为6cm。对磁控溅射镀膜设备的溅射腔室进行抽真空处理,至本底气压为1.7×10-4Pa。设定射频电源功率为60W。溅射过程中的气压保持在0.5Pa,FTO不加热,保持沉积时长为60分钟,制得附着一层Bi2MoO6薄膜的FTO基底,密封保存。
2)电泳沉积过程:将研磨的60mg Bi2MoO6粉体和10mg碘分散于25mL丙酮和水的混合溶液(v:v=25:1)中,超声分散60min,制得均匀的电泳沉积的悬浊液。将1)制备的附着一层Bi2MoO6薄膜的FTO基底与一个清洗干净的FTO基底(10mm×20mm)插入到电泳沉积的悬浊液中,并在两电极间施加15V的直流电压,沉积3min。切断电流,将电泳沉积了Bi2MoO6粉末的附着一层Bi2MoO6薄膜的FTO基底从悬浮液中取出,在空气中自然晾干。最后,在马弗炉中500℃焙烧90min,得目标产物Bi2MoO6光阳极,标记为BMO-S。
(三)对比例Bi2MoO6光阳极(BMO)的制备:
重复步骤2),只是将步骤2)中,插入电泳沉积的悬浊液中的附着一层Bi2MoO6薄膜的FTO基底替换成另一个清洗干净的FTO基底,最终获得只经过电泳沉积了Bi2MoO6粉末的Bi2MoO6光阳极,标记为BMO。
(四)检测
将(二)和(三)制备的BMO-S和BMO两个样品进行XRD测试,结果如图1所示,从图1中可以看出BMO-S的结晶性高于BMO。
将(二)和(三)制备的BMO-S和BMO两个样品进行SEM测试,结果如图2所示,从图2中可以看出BMO-S薄膜(a)比BMO薄膜(b)更致密,晶界数量少。
实施例2 Bi2MoO6光阳极薄膜的应用
分别将实施例1制备的BMO和BMO-S光阳极进行光电流、阻抗、以及量子效率等一系列的光电化学性能测试。
所有电化学实验测试过程都在三电极体系的电化学工作站(Princeton AppliedResearch 2273)中进行。样品薄膜作为工作电极,铂片为对电极,Ag/AgCl为参比电极,电解液为0.5M硫酸钠,样品光照射面积为1cm2
光电流测试:光源为300W氙灯,偏压为1.18v vs.VRHE,测得结果如图3所示,结果显示,BMO-S的光电流是BMO的13倍。
电化学阻抗谱(EIS)测试:固定的电压为0V vs.Voc,频率范围是0.1~105Hz。测得结果如图4所示,BMO-S的阻抗远小于BMO;
量子效率(IPCE)测试:选取多个波长(380nm,390nm,410nm,420nm,430nm,450nm,460nm,490nm)的单色光照射样品,测得其在偏压为1.18V vs.VRHE时的光电流。利用公式:
其中,I为光电流密度(单位:μA),λ为入射单色光波长(nm),P为入射光强(单位:μW)。通过计算得出量子效率的值,结果如图5所示,在波长为385nm单色光照射下的量子效率最高。

Claims (8)

1.高光电转换效率Bi2MoO6光阳极,其特征在于,所述的高光电转换效率Bi2MoO6光阳极是,首先利用磁控溅射的方法在导电基底上附着一层Bi2MoO6薄膜,再通过电泳沉积法在Bi2MoO6薄膜上沉积Bi2MoO6粉体,经高温退火处理制得。
2.一种高光电转换效率Bi2MoO6光阳极的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)利用磁控溅射的方法在导电基底上附着一层Bi2MoO6薄膜:安装Bi2MoO6靶材和FTO基底,导电层面向靶材,采用直靶溅射的方式,调整靶材与基底的间距,对磁控溅射镀膜设备的溅射腔室进行抽真空处理,至本底气压为1.7×10-4Pa;设定射频电源功率;溅射过程中的气压保持在0.5Pa,FTO不加热,并设置沉积时间;将制得的附着一层Bi2MoO6薄膜的FTO基底密封保存;
2)通过电泳沉积法在Bi2MoO6薄膜上沉积Bi2MoO6粉体:将适量的Bi2MoO6粉末样品和I2超声震荡分散于丙酮与水的混合溶液中,获得电泳沉积的悬浮液;将步骤1)制备的附着一层Bi2MoO6薄膜的FTO基底与一个清洗干净的FTO基底插入到电泳沉积的悬浮液中,并在两电极间施加一定的直流电压,沉积设定的时间后,切断电流,将电泳沉积了Bi2MoO6粉末的附着一层Bi2MoO6薄膜的FTO基底从悬浮液中取出,在室温条件下晾干并在马弗炉中焙烧,得到高光电转换效率Bi2MoO6光阳极。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤1)中,调整靶材与基底的间距为6cm。
4.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤1)中,设定射频电源功率为60W,设置沉积时间为1h。
5.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤2)中,I2与Bi2MoO6的质量比为6:1;丙酮与水的混合溶液中,按体积比,丙酮:水=25:1。
6.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤2)中,在两电极间施加15V的直流电压,沉积时间为1-5min。
7.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,步骤2)中,马弗炉中焙烧温度为500℃,焙烧时间为90min。
8.权利要求1所述的高光电转换效率Bi2MoO6光阳极在光电化学分解水中的应用。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109626422A (zh) * 2018-12-11 2019-04-16 辽宁大学 一种TiO2/g-C3N4光阳极纳米复合材料的制备方法及其应用
CN110498487A (zh) * 2019-09-06 2019-11-26 西安建筑科技大学 一种十六烷基三甲基溴化铵改性钼酸铋光电极的制备方法、产品及其应用
CN114674892A (zh) * 2022-03-18 2022-06-28 济南大学 上转换材料结合信号猝灭传感器件的构建
CN114737217A (zh) * 2022-02-23 2022-07-12 辽宁大学 一种Bi2MoO6/CuO光电极薄膜及其制备方法和在光电化学水分解中的应用

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102222575A (zh) * 2011-03-30 2011-10-19 东南大学 染料敏化太阳能电池光阳极的制备方法
CN107177859A (zh) * 2017-05-18 2017-09-19 辽宁大学 Pb3Nb4O13光阳极材料的制备方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102222575A (zh) * 2011-03-30 2011-10-19 东南大学 染料敏化太阳能电池光阳极的制备方法
CN107177859A (zh) * 2017-05-18 2017-09-19 辽宁大学 Pb3Nb4O13光阳极材料的制备方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JIANQIANG YU 等,: ""Enhancement of photo-to-current efficiency over Two-dimensional Bi2MoO6 nanoplate thin-film photoelectrode"", 《ELECTROCHEMICAL AND SOLID-STATE LETTERS》 *

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109626422A (zh) * 2018-12-11 2019-04-16 辽宁大学 一种TiO2/g-C3N4光阳极纳米复合材料的制备方法及其应用
CN110498487A (zh) * 2019-09-06 2019-11-26 西安建筑科技大学 一种十六烷基三甲基溴化铵改性钼酸铋光电极的制备方法、产品及其应用
CN114737217A (zh) * 2022-02-23 2022-07-12 辽宁大学 一种Bi2MoO6/CuO光电极薄膜及其制备方法和在光电化学水分解中的应用
CN114737217B (zh) * 2022-02-23 2023-11-10 辽宁大学 一种Bi2MoO6/CuO光电极薄膜及其制备方法和在光电化学水分解中的应用
CN114674892A (zh) * 2022-03-18 2022-06-28 济南大学 上转换材料结合信号猝灭传感器件的构建
CN114674892B (zh) * 2022-03-18 2023-09-05 济南大学 上转换材料结合信号猝灭传感器件的构建

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