CN108579186A - 一种清洗装置及其应用和清洗方法 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 115
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 13
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 44
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims abstract description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 14
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 claims description 13
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 7
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 7
- 239000007769 metal material Substances 0.000 claims description 7
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 claims description 7
- 238000005086 pumping Methods 0.000 claims description 6
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 5
- 150000004699 copper complex Chemical class 0.000 claims description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 230000005611 electricity Effects 0.000 claims description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 239000006210 lotion Substances 0.000 description 3
- 239000013618 particulate matter Substances 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 229910000042 hydrogen bromide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QSLPNSWXUQHVLP-UHFFFAOYSA-N $l^{1}-sulfanylmethane Chemical compound [S]C QSLPNSWXUQHVLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000000536 complexating effect Effects 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003292 glue Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000001259 photo etching Methods 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000004886 process control Methods 0.000 description 1
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
- B01D35/16—Cleaning-out devices, e.g. for removing the cake from the filter casing or for evacuating the last remnants of liquid
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Abstract
本发明提供了一种清洗装置,用于清洗刻蚀设备的过滤器,包括储液槽、进液管、出液管和循环泵,储液槽用于储存清洗液,设置有第一开口和第二开口;进液管一端连接于所述第一开口,另一端用于与所述过滤器的进液口连接;出液管一端连接于所述第二开口,另一端用于与所述过滤器的出液口连接;循环泵设置于所述进液管和/或所述出液管上,以使所述清洗液在所述储液槽和所述过滤器之间循环流动。本发明提供的清洗装置对刻蚀设备中的过滤器进行清洗,提高过滤器的使用寿命,同时减少过滤器的更换,节省成本和时间。本发明还提供了该清洗装置的应用和清洗方法。
Description
技术领域
本发明涉及刻蚀设备领域,特别是涉及一种清洗装置及其应用和清洗方法。
背景技术
在薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD)、半导体装置等微电路是通过在基板上形成的导电金属层或绝缘层上均匀地涂抹光刻胶,然后通过刻有图案的薄膜,进行光照射后成像,使所需的图案光刻胶成像,采用干式蚀刻或湿式蚀刻,在光刻胶下部的金属膜或绝缘膜上显示图案后,剥离去除不需要的光刻胶等一系列的光刻工程而完成的。大型显示器的栅极及数据金属配线所使用的铜合金,目前所用刻蚀液主要以双氧水系为主,由于铜离子在刻蚀液中的存在,会催化双氧水的分解,从而容易造成刻蚀液爆沸,因此,需要在刻蚀液中加入螯合剂络合铜离子。但是在刻蚀过程中,经常会有大颗粒析出物产生,造成刻蚀过程中的过滤器过早堵塞,无法正常使用。过多的更换过滤器使得生产成本大幅提高,同时增加了生产时间。因此,亟需一种操作简单且能保证过滤器正常工作的清洗装置。
发明内容
有鉴于此,本发明提供了一种清洗装置,包括储液槽、进液管、出液管和循环泵,用于清洗刻蚀设备的过滤器,提高过滤器的使用寿命,同时减少过滤器的更换,节省成本和时间。
第一方面,本发明提供了一种清洗装置,用于清洗刻蚀设备的过滤器,包括:
储液槽,用于储存清洗液,设置有第一开口和第二开口;
进液管,一端连接于所述第一开口,另一端用于与所述过滤器的进液口连接;
出液管,一端连接于所述第二开口,另一端用于与所述过滤器的出液口连接;
循环泵,设置于所述进液管和/或所述出液管上,以使所述清洗液在所述储液槽和所述过滤器之间循环流动。
可选的,所述清洗装置还包括排液管,所述排液管与所述过滤器的进液口或出液口相连,以使所述清洗液从所述排液管排出。
可选的,所述排液管设置有抽液装置,用于将所述排液管中的液体抽出。
可选的,所述过滤器的进液口和出液口、所述进液管、所述出液管、所述排液管分别设置有阀门。
可选的,所述阀门包括电动阀门、气动阀门和电磁阀门中的至少一种。
可选的,所述清洗液包括能够溶解金属络合物的溶液,所述金属络合物包括铜络合物、钼络合物、铬络合物和镍络合物中的至少一种。
可选的,所述储液槽、所述进液管、所述出液管和所述循环泵的材质包括耐所述清洗液腐蚀的金属材质或塑料材质。
可选的,所述储液槽的容积大于所述过滤器的容积。
本发明第一方面提供了一种清洗装置,包括储液槽、进液管、出液管和循环泵,用于清洗刻蚀设备的过滤器,溶解阻塞过滤器的颗粒物质,提高过滤器的使用寿命,同时减少过滤器的更换,节省成本和时间,有利于后续制备工艺的进行。
第二方面,本发明提供了一种清洗方法,用于清洗刻蚀设备的过滤器,包括:
提供如第一方面所述的清洗装置,将所述清洗装置中的所述进液管与所述过滤器的进液口相连,将所述出液管与所述过滤器的出液口相连;
开启所述循环泵,使所述清洗液通过所述进液管和所述出液管,在所述储液槽和所述过滤器之间循环流动,对所述过滤器进行正向或反向清洗;
关闭所述循环泵,将所述过滤器中的所述清洗液排出。
本发明第二方面提供的一种清洗方法,操作简单,能够循环清洗过滤器,过程可控,易于实现。
第三方面,本发明提供了一种刻蚀设备,包括如第一方面所述的清洗装置。
本发明第三方面提供的一种刻蚀设备,其中包括用于清洗过滤器的清洗装置,可以根据过滤器的阻塞情况,随时进行清洗,简单方便,过滤器的使用寿命延长,节约生产成本和时间,满足量产需求。
本发明的有益效果:
(1)本发明提供的清洗装置,包括储液槽、进液管、出液管和循环泵,用于清洗刻蚀设备的过滤器,可以对过滤器进行正向或反向清洗,提高过滤器的使用寿命,同时减少过滤器的更换,节省成本和时间,有利于后续制备工艺的进行;
(2)本发明提供的清洗方法,操作简单,能够循环清洗过滤器,过程可控,易于实现。
附图说明
图1为本发明实施例提供的第一种清洗装置的结构示意图;
图2为本发明实施例提供的第二种清洗装置的结构示意图;
图3为本发明实施例提供的第三种清洗装置的结构示意图。
具体实施方式
以下所述是本发明实施例的优选实施方式,应当指出,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明实施例原理的前提下,还可以做出若干改进和润饰,这些改进和润饰也视为本发明实施例的保护范围。
本发明提供的一种清洗装置,用于清洗刻蚀设备的过滤器,包括:
储液槽,用于储存清洗液,设置有第一开口和第二开口;
进液管,一端连接于所述第一开口,另一端用于与所述过滤器的进液口连接;
出液管,一端连接于所述第二开口,另一端用于与所述过滤器的出液口连接;
循环泵,设置于所述进液管和/或所述出液管上,以使所述清洗液在所述储液槽和所述过滤器之间循环流动。
本发明实施方式中,所述清洗装置还包括排液管,所述排液管与所述过滤器的进液口或出液口相连,以使所述清洗液从所述排液管排出。
本发明实施方式中,所述排液管设置有抽液装置,用于将所述排液管中的液体抽出。所述抽液装置可以使得排液管中的液体更加快速地排出,节省时间。
本发明实施方式中,所述过滤器的进液口和出液口、所述进液管、所述出液管、所述排液管分别设置有阀门。可选的,所述阀门包括电动阀门、气动阀门和电磁阀门中的至少一种。
本发明实施方式中,所述清洗液包括能够溶解金属络合物的溶液,所述金属络合物包括铜络合物、钼络合物、铬络合物和镍络合物中的至少一种。清洗液可以为酸液,也可以为碱液,不限于为无机溶液或有机溶液,所述清洗液的浓度也不作限定,只要可以溶解过滤器中阻塞的金属络合物即可。具体的,所述清洗液可以但不限于为盐酸溶液、氢氟酸溶液、硫酸溶液、硝酸溶液、次氯酸溶液、溴化氢溶液、三氯代乙酸溶液或甲磺酸溶液。在现有的刻蚀工艺中,由于栅极及数据金属配线使用的多是铜合金,为防止铜与刻蚀液反应需加入螯合剂与铜反应,会产生铜络合物阻塞过滤器。优选的,所述清洗液包括能够溶解铜络合物的溶液。当然,在其他实施方式中,若存在其他金属络合物,为了实现过滤器的有效清洗,则此时所述清洗液包括能够溶解所述其他金属络合物的溶液。具体的,可以但不限于当存在钼络合物时,所述清洗液包括能够溶解钼络合物的溶液。
本发明实施方式中,所述储液槽、所述进液管、所述出液管和所述循环泵的材质包括耐所述清洗液腐蚀的金属材质或塑料材质。
本发明实施方式中,对所述储液槽的容积不作限定,具体的根据实际生产需要进行设置。优选的,本发明实施方式中,所述储液槽的容积大于所述过滤器的容积。当所述储液槽的容积大于所述过滤器的容积,所述清洗液能够尽量充满所述过滤器,可以更好地进行溶解过滤器中阻塞的颗粒物,加速溶解,减少清洗时间。
请参阅图1,为本发明提供的一种清洗装置,包括储液槽20、进液管30、出液管40和循环泵50。该清洗装置用于清洗刻蚀设备的过滤器10。其中,储液槽20储存有清洗液,设置有第一开口和第二开口;进液管30一端连接于所述第一开口,另一端用于与所述过滤器10的进液口连接;出液管40一端连接于所述第二开口,另一端用于与所述过滤器10的出液口连接;循环泵50设置于出液管40,以使清洗液在储液槽20和过滤器10之间循环流动,从而使得过滤器中的大颗粒物质溶解,减少过滤器阻塞情况。在本发明具体实施方式中,所述清洗液由储液槽20的第一开口通过进液管30进入过滤器10中,并通过出液管40流至第二开口,返回储液槽20中,对过滤器10的清洗为正向清洗方式,即清洗液由过滤器10的进液口流入,过滤器10的出液口流出。在本发明另一具体实施方式中,所述清洗液由储液槽20的第二开口通过出液管40进入过滤器10中,并通过进液管30流至第一开口,返回储液槽20中,对过滤器10的清洗为反向清洗方式,即清洗液由过滤器10的出液口流入,过滤器10的进液口流出。在本发明具体实施方式中,循环泵50设置于进液管30。在本发明另一实施方式中,进液管30和出液管40均设置有循环泵50。在本发明实施方式中,清洗液包括能够溶解金属络合物的溶液,金属络合物包括铜络合物、钼络合物、铬络合物和镍络合物中的至少一种。清洗液可以为酸液,也可以为碱液,不限于为无机溶液或有机溶液,所述清洗液的浓度也不作限定,只要可以溶解过滤器中阻塞的金属络合物即可。具体的,所述清洗液可以但不限于为盐酸溶液、氢氟酸溶液、硫酸溶液、硝酸溶液、次氯酸溶液、溴化氢溶液、三氯代乙酸溶液或甲磺酸溶液。在本发明实施方式中,所述储液槽、所述进液管、所述出液管和所述循环泵的材质包括耐所述清洗液腐蚀的金属材质或塑料材质。在本发明实施方式中,所述储液槽的容积大于所述过滤器的容积。
请参阅图2,为本发明提供的一种清洗装置,包括储液槽20、进液管30、出液管40、循环泵50和排液管60。该清洗装置用于清洗刻蚀设备的过滤器10。其中,储液槽20储存有清洗液,设置有第一开口和第二开口;进液管30一端连接于所述第一开口,另一端用于与所述过滤器10的进液口连接;出液管40一端连接于所述第二开口,另一端用于与所述过滤器10的出液口连接;循环泵50设置于出液管40,以使清洗液在储液槽20和过滤器10之间循环流动;排液管60与过滤器10的进液口相连,以使清洗液从排液管60排出。在本发明另一实施方式中,排液管60与过滤器10的出液口相连。在本发明另一实施方式中,排液管60设置有抽液装置,用于将排液管60中的液体抽出。在本发明实施方式中,排液管60的材质包括耐所述清洗液腐蚀的金属材质或塑料材质。
请参阅图3,为本发明提供的一种清洗装置,包括储液槽20、进液管30、出液管40、循环泵50、排液管60以及设置在进液管30的阀门71、设置在出液管40的阀门72、设置在排液管60的阀门73、设置在过滤器10进液口的阀门74和设置在过滤器10出液口的阀门75。该清洗装置用于清洗刻蚀设备的过滤器10。其中,储液槽20储存有清洗液,设置有第一开口和第二开口;进液管30一端连接于所述第一开口,另一端用于与所述过滤器10的进液口连接;出液管40一端连接于所述第二开口,另一端用于与所述过滤器10的出液口连接;循环泵50设置于出液管40,以使清洗液在储液槽20和过滤器10之间循环流动;排液管60与过滤器10的进液口相连,以使清洗液从排液管60排出;阀门71、阀门72、阀门73、阀门74和阀门75包括电动阀门、气动阀门和电磁阀门中的至少一种,阀门的开合用于控制清洗液的流动范围。在本发明实施方式中,阀门71、阀门72、阀门73、阀门74和阀门75的材质包括耐所述清洗液腐蚀的金属材质或塑料材质。
本发明还提供了一种清洗方法,用于清洗刻蚀设备的过滤器,包括:
提供上述的清洗装置,将清洗装置中的所述进液管与所述过滤器的进液口相连,将所述出液管与所述过滤器的出液口相连;
开启所述循环泵,使所述清洗液通过所述进液管和所述出液管,在所述储液槽和所述过滤器之间循环流动,对所述过滤器进行正向或反向清洗;
关闭所述循环泵,将所述过滤器中的所述清洗液排出。
在本发明实施方式中,当清洗装置还包括排液管时,清洗液由排液管排出。在本发明实施方式中,当排液管设置有抽液装置时,抽液装置用于将排液管中的液体抽出。在本发明实施方式中,过滤器的进液口和出液口、进液管、出液管和排液管分别设置有阀门;所述阀门包括电动阀门、气动阀门和电磁阀门中的至少一种。在本发明实施方式中,清洗液包括能够溶解金属络合物的溶液,金属络合物包括铜络合物、钼络合物、铬络合物和镍络合物中的至少一种。在本发明实施方式中,储液槽、进液管、出液管、循环泵、排液管和阀门的材质包括耐所述清洗液腐蚀的金属材质或塑料材质。在本发明实施方式中,储液槽的容积大于过滤器的容积。
结合图3,本发明提供一种清洗方法,用于清洗刻蚀设备的过滤器,包括:
将阀门71、阀门72、阀门74和阀门75关闭,打开阀门73,排空过滤器10中的残留刻蚀液;
关闭阀门73,打开阀门71和阀门72,并启动循环泵50,将储液槽20中的清洗液通过进液管30泵入过滤器10中,对过滤器10中阻塞的金属络合物进行溶解,同时清洗液通过出液管40回流至储液槽,对过滤器10进行循环清洗;
关闭循环泵50、阀门71和阀门72,打开阀门73,将残留的清洗液通过排液管60排出,即完成对过滤器10的清洗。
再关闭阀门73,开启阀门71和阀门72,通入刻蚀液即可进行刻蚀。
优选的,当将残留的清洗液通过排液管60排出后,还包括打开阀门74和阀门75,通入刻蚀液对过滤器10进行润洗后,关闭阀门74和阀门75,打开阀门73,将刻蚀液通过排液管60排出,反复进行润洗多次即可。
本发明还提供了一种刻蚀设备,包括了上述的清洗装置。利用本发明提供的清洗装置对刻蚀设备中的过滤器进行清洗,减少过滤器的阻塞情况,提高过滤器的使用寿命,减少过滤器的更换次数,进而提高了生产效率,节约成本和时间。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式,其描述较为具体和详细,但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是,对于本领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明构思的前提下,还可以做出若干变形和改进,这些都属于本发明的保护范围。因此,本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。
Claims (10)
1.一种清洗装置,用于清洗刻蚀设备的过滤器,其特征在于,包括:
储液槽,用于储存清洗液,设置有第一开口和第二开口;
进液管,一端连接于所述第一开口,另一端用于与所述过滤器的进液口连接;
出液管,一端连接于所述第二开口,另一端用于与所述过滤器的出液口连接;
循环泵,设置于所述进液管和/或所述出液管上,以使所述清洗液在所述储液槽和所述过滤器之间循环流动。
2.如权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述清洗装置还包括排液管,所述排液管与所述过滤器的进液口或出液口相连,以使所述清洗液从所述排液管排出。
3.如权利要求2所述的清洗装置,其特征在于,所述排液管设置有抽液装置,用于将所述排液管中的液体抽出。
4.如权利要求2所述的清洗装置,其特征在于,所述过滤器的进液口和出液口、所述进液管、所述出液管、所述排液管分别设置有阀门。
5.如权利要求4所述的清洗装置,其特征在于,所述阀门包括电动阀门、气动阀门和电磁阀门中的至少一种。
6.如权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述清洗液包括能够溶解金属络合物的溶液,所述金属络合物包括铜络合物、钼络合物、铬络合物和镍络合物中的至少一种。
7.如权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述储液槽、所述进液管、所述出液管和所述循环泵的材质包括耐所述清洗液腐蚀的金属材质或塑料材质。
8.如权利要求1所述的清洗装置,其特征在于,所述储液槽的容积大于所述过滤器的容积。
9.一种清洗方法,用于清洗刻蚀设备的过滤器,其特征在于,包括:
提供如权利要求1-8任一项所述的清洗装置,将所述清洗装置中的所述进液管与所述过滤器的进液口相连,将所述出液管与所述过滤器的出液口相连;
开启所述循环泵,使所述清洗液通过所述进液管和所述出液管,在所述储液槽和所述过滤器之间循环流动,对所述过滤器进行正向或反向清洗;
关闭所述循环泵,将所述过滤器中的所述清洗液排出。
10.一种刻蚀设备,其特征在于,包括如权利要求1-8任一项所述的清洗装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810468726.6A CN108579186A (zh) | 2018-05-16 | 2018-05-16 | 一种清洗装置及其应用和清洗方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201810468726.6A CN108579186A (zh) | 2018-05-16 | 2018-05-16 | 一种清洗装置及其应用和清洗方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN108579186A true CN108579186A (zh) | 2018-09-28 |
Family
ID=63631419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201810468726.6A Pending CN108579186A (zh) | 2018-05-16 | 2018-05-16 | 一种清洗装置及其应用和清洗方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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CN (1) | CN108579186A (zh) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2018
- 2018-05-16 CN CN201810468726.6A patent/CN108579186A/zh active Pending
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