CN108570230A - 聚合物组合物以及聚合物复合物和光学膜 - Google Patents
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Abstract
公开聚合物组合物以及聚合物复合物和光学膜。所述聚合物组合物包括聚合物、纳米结构体、和由化学式1表示的硅烷分散剂，其中，在化学式1中，R1‑R6、Ar、L1‑L6、p、q、r、s、t、u和w与详述的说明书中描述的相同。化学式1R1‑(Ar)p‑(O‑L1)q‑(O‑L2)r‑(O‑L3‑O‑L4)s‑O‑(L5)t‑(L6)u‑(CR2R3)w‑Si(R4R5R6)。
Description
对相关申请的交叉引用
本申请要求于2017年3月9日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请No.10-2017-0030151的优先权和权益、由其产生的所有权益，将其全部内容引入本文作为参考。
技术领域
公开了聚合物组合物、聚合物复合物、和光学膜。
背景技术
常用平板显示器可分为通过自身发射光的发光显示设备和需要单独的光源和光学膜的非发射式显示设备。所述光学膜被用于改善其图像品质。
所述光学膜可为聚合物膜，并且除了聚合物之外，所述聚合物膜还可包括纳米结构体，以满足多种性质。
然而，所述纳米结构体在聚合物中可变成附聚的并且导致恶化的光学特性。因此，对于具有抵抗在聚合物中附聚的纳米结构体的聚合物组合物仍然存在需要。
发明内容
一种实施方式提供能够通过提高纳米结构体的分散性而改善光学特性的聚合物组合物。
另一实施方式提供能够通过提高纳米结构体的分散性而改善光学特性的聚合物复合物。
又一实施方式提供包括所述聚合物复合物的光学膜。
根据一种实施方式，聚合物组合物包括聚合物、纳米结构体、和由化学式1表示的硅烷分散剂。
化学式1
R1-(Ar)p-(O-L1)q-(O-L2)r-(O-L3-O-L4)s-O-(L5)t-(L6)u-(CR2R3)w-Si(R4R5R6)
在化学式1中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
各R2和R3相同或不同，并且各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
R4-R6各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，条件是R4-R6的至少一个为取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30亚环烷基或者取代或未取代的C6-C30亚芳基，
各L1-L4相同或不同，并且各自独立地为C1-C5亚烷基，
各L5相同或不同，并且为O、C(＝O)、C(＝O)O、C(＝O)NRa、或其组合，其中Ra为氢或者取代或未取代的C1-C20烷基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
p、t、和u各自独立地为0或1，
q、r、和s各自独立地为0-30的整数，条件是2≤q+r+s≤30，和
w为0-10的整数。
所述硅烷分散剂可由化学式2表示。
化学式2
在化学式2中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
R4-R6各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，条件是R4-R6的至少一个为取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30环烷基或者取代或未取代的C6-C30芳基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
p、t1、t2、和u各自独立地为0或1，
q为2-30的整数，和
w为0-10的整数。
Ar可为取代或未取代的亚苯基(即，苯环)或者取代或未取代的亚环己基。
R4-R6各自独立地可为取代或未取代的C1-C30烷氧基。
所述硅烷分散剂可由化学式1a到1d之一表示。
化学式1a
化学式1b
化学式1c
化学式1d
在化学式1a到1d中，
R7-R9独立地为甲基或乙基，
t1为0或1，
q为2-30的整数，和
m为1-25的整数。
所述硅烷分散剂可与所述纳米结构体的表面结合。
所述纳米结构体可包括无机纳米颗粒、无机纳米棒、无机纳米板(纳米盘，nanoplate)、无机纳米线、无机纳米薄片(纳米片，nanoflake)、无机纳米管、无机纳米胶囊、或其组合。
所述纳米结构体可包括TiO2、ZrO2、BaTiO3、SrTiO3、Cu2O、CuO、Cr2O3、Fe2O3、Mn3O4、MnO2、NiO、ZnO、或其组合。
所述纳米结构体可具有小于或等于约50纳米(nm)的长直径。
所述聚合物可包括聚烯烃、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚(甲基)丙烯酰基(例如，聚(甲基)丙烯酸甲酯)、聚苯乙烯、环氧聚合物、聚碳酸酯、聚硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合。
所述聚合物可包括聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺(尼龙)、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PETG)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合。
根据另一实施方式，聚合物组合物包括聚合物和经改性的纳米结构体，其中所述经改性的纳米结构体包括纳米结构体和与所述纳米结构体的表面结合的由化学式1’表示的硅烷分散剂。
化学式1’
R1-(Ar)p-(O-L1)q-(O-L2)r-(O-L3-O-L4)s-O-(L5)t-(L6)u-(CR2R3)w-Si(R4'R5'R6')
在化学式1’中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
各R2和R3相同或不同，并且各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
R4'-R6'各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、或者式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，条件是R4'-R6'的至少一个为式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30亚环烷基或者取代或未取代的C6-C30亚芳基，
各L1-L4相同或不同，并且各自独立地为C1-C5亚烷基，
各L5相同或不同，并且为O、C(＝O)、C(＝O)O、C(＝O)NRa、或其组合，其中Ra为氢或者取代或未取代的C1-C20烷基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
p、t、和u各自独立地为0或1，
q、r、和s各自独立地为0-30的整数，条件是2≤q+r+s≤30，和
w为0-10的整数。
所述硅烷分散剂可由化学式2’表示。
化学式2’
在化学式2’中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
R4'-R6'各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、或者式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，条件是R4'-R6'的至少一个为式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30亚环烷基或者取代或未取代的C6-C30亚芳基，
p、t1、t2、和u各自独立地为0或1，
q为2-30的整数，和
w为0-10的整数。
在化学式1’中，各Ar可相同或不同，并且可为取代或未取代的亚苯基或者取代或未取代的亚环己基。
R4'-R6'各自可为式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点。
所述硅烷分散剂可由化学式1a'到1d'之一表示。
化学式1a'
化学式1b'
化学式1c'
化学式1d'
在化学式1a'到1d'中，
t1为0或1，
q为2-30的整数，
m为1-25的整数，和
*为与所述纳米结构体的表面的结合位点。
所述纳米结构体可包括无机纳米颗粒、无机纳米棒、无机纳米板、无机纳米线、无机纳米薄片、无机纳米管、无机纳米胶囊、或其组合。
所述纳米结构体可包括TiO2、ZrO2、BaTiO3、SrTiO3、Cu2O、CuO、Cr2O3、Fe2O3、Mn3O4、MnO2、NiO、ZnO、或其组合。
所述纳米结构体可具有小于或等于约50纳米(nm)的长直径。
可以基于所述聚合物和所述经改性的纳米结构体的总体积的约0.1体积百分数(体积％)-20体积％的量包括所述经改性的纳米结构体。
所述聚合物可包括聚烯烃、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚(甲基)丙烯酰基、聚苯乙烯、环氧聚合物、聚碳酸酯、聚硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合。
所述聚合物可包括聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺(尼龙)、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PETG)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合。
根据另一实施方式，聚合物复合物包括所述聚合物组合物，其中所述纳米结构体和所述硅烷分散剂分散在所述聚合物中。
可以基于所述聚合物复合物的总体积的约0.1体积％-约20体积％的量包括所述纳米结构体和所述硅烷分散剂。
所述聚合物复合物可为膜形式，并且所述聚合物复合物可满足在450纳米的波长处大于或等于约85％的可见光透射率、当根据ASTM D1003-07测定时小于约1的雾度、和当根据ASTM D1925测定时小于或等于约3.5的黄色指数。
根据另一实施方式，光学膜包括所述聚合物复合物。
所述光学膜可满足在450纳米的波长处大于或等于约85％的可见光透射率、当根据ASTM D1003-07测定时小于约1的雾度、和当根据ASTM D1925测量时小于或等于约3.5的黄色指数。
在另一实施方式中，聚合物复合物包括所述聚合物组合物，其中所述经改性的纳米结构体分散在所述聚合物中。
可以基于所述聚合物复合物的总体积的约0.1体积％-约20体积％的量包括所述经改性的纳米结构体。
所述聚合物复合物可为膜形式，并且满足在450纳米的波长处大于或等于约85％的可见光透射率、当根据ASTM D1003-07测定时小于约1的雾度、和当根据ASTM D1925测定时小于或等于约3.5的黄色指数。
在另一实施方式中，光学膜包括所述包含聚合物和经改性的纳米结构体的聚合物复合物。
所述光学膜可满足在450纳米的波长处大于或等于约85％的可见光透射率、当根据ASTM D1003-07测定时小于约1的雾度、和当根据ASTM D1925测量时小于或等于约3.5的黄色指数。
通过提高纳米结构体或者经改性的纳米结构体在聚合物中的分散性，所述聚合物复合物的光学特性可改善，并且因此所述聚合物复合物可有效地应用于光学膜。
附图说明
由结合附图考虑的示例性实施方式的以下描述，这些和/或其它方面将变得更明晰和更容易领会，其中：
图1是光透射率(％)对纳米结构体体积(体积％)的图，其显示根据实施方式的聚合物复合物的光学性质；
图2为黄色指数(YI)对纳米结构体体积(体积％)的图，其显示根据实施方式的聚合物复合物的光学性质；
图3为雾度对纳米结构体体积(体积％)的图，其显示根据实施方式的聚合物复合物的光学性质；和
图4为厚度方向延迟(Rth/微米，“Rth/μm)对纳米结构体体积(体积％)的图，其显示根据实施方式的聚合物复合物的光学性质。
具体实施方式
下文中将详细地描述本公开内容的示例性实施方式，并且其可由本领域技术人员实施。然而，本公开内容可以许多不同的形式体现并且不被解释为限于本文中阐述的示例性实施方式。
本文中使用的术语仅用于描述具体实施方式的目的并且不意图为限制性的。如本文中使用的，单数形式“一个(种)”和“该(所述)”也意图包括复数形式，除非上下文清楚地另外指明。术语“或”意味着“和/或”。如本文中使用的，术语“和/或”包括相关列举项目的一个或多个的任意和全部组合。表述例如“......的至少一个(种)”当在要素列表之前或之后时修饰整个要素列表，而不修饰该列表的单独要素。
将理解，尽管术语第一、第二、第三等可在本文中用于描述各种元件、组分、区域、层和/或部分，但这些元件、组分、区域、层和/或部分不应受这些术语限制。这些术语仅用于将一个元件、组分、区域、层或部分区别于另外的元件、组分、区域、层或部分。因此，在不背离本实施方式的教导的情况下，下面讨论的第一元件、组分、区域、层或部分可称为第二元件、组分、区域、层或部分。
将进一步理解，术语“包括”或“包含”当用在本说明书中时，表明存在所陈述的特征、区域、整体、步骤、操作、元件、和/或组分，但不排除存在或增加一种或多种另外的特征、区域、整体、步骤、操作、元件、组分、和/或其集合。
如本文中使用的“约”或“大约”包括所陈述的值且意味着在如由本领域普通技术人员考虑到所讨论的测量和与具体量的测量有关的误差(即，测量系统的限制)而确定的对于具体值的可接受的偏差范围内。
除非另外定义，在本文中所使用的所有术语(包括技术和科学术语)的含义与本总的发明构思所属领域的普通技术人员通常理解的相同。将进一步理解，术语，例如在常用字典中定义的那些，应被解释为其含义与它们在本公开内容和相关领域的背景中的含义一致，并且将不以理想化或过度形式的意义进行解释，除非在本文中清楚地如此定义。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“取代(的)”指的是基团或化合物的氢原子被包括如下的取代基代替：卤素、羟基、硝基、氰基、氨基、叠氮基、脒基、肼基、腙基、羰基、氨基甲酰基、硫醇基、酯基、羧基或其盐、磺酸基团或其盐、磷酸基团或其盐、C1-C20烷基、C2-C20烯基、C2-C20炔基、C6-C30芳基、C7-C30芳烷基、C1-C30烷氧基、C1-C20杂烷基、C3-C20杂芳烷基、C3-C30环烷基、C3-C15环烯基、C6-C15环炔基、C3-C30杂环烷基、或其组合。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“杂”指的是包括1-4个选自N、O、S、Se、Te、Si、和P的杂原子。
如本文中使用的，术语“烷基”基团指的是具有规定数量的碳原子的直链或支链饱和单价烃基。术语“亚烷基”基团意指具有指示数量的碳原子的直链或支链饱和二价烃基团。
如本文中使用的，术语“烯基”基团指的是具有规定数量的碳原子的包括至少一个碳-碳双键的直链或支链单价烃基。
如本文中使用的，术语“炔基”基团指的是具有规定数量的碳原子的具有至少一个碳-碳三键的直链或支链单价烃基。
如本文中使用的，术语“环烷基”基团指的是包括一个或多个其中所有环成员为碳的饱和环的单价基团例如环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基、和金刚烷基。如本文中使用的，术语“亚环烷基”基团意指包括饱和的一个环或多个环的二价基团。
环烷基的部分地饱和的变体包括例如环烯基(例如环己烯基)或环炔基。
如本文中使用的，术语“烷氧基”基团意指连接到氧桥的具有所指示数量的碳原子的如以上定义的单价烷基。如本文中使用的，术语“氧基亚烷基”基团意指连接到氧桥的具有指示数量的碳原子的亚烷基。
如本文中使用的，术语“芳基”基团指的是其中所有环成员为碳并且至少一个环是芳族的单价环状基团，所述基团具有规定数量的碳原子。可存在超过一个环，并且任何另外的环可独立地为芳族的、饱和的或者部分地不饱和的，并且可为稠合的、悬垂的、螺环状的、或其组合。如本文中使用的，术语“亚芳基”基团意指其中所有环成员为碳并且至少一个环为芳族的二价环状基团。
如本文中使用的，术语“聚(甲基)丙烯酰基”意指包含甲基丙烯酰基基团的单体的聚合物，例如聚(甲基)丙烯酸酯和聚(甲基)丙烯酰胺。
如本文中使用的，当未另外提供定义时，术语“(甲基)丙烯酰基”指的是丙烯酰基和/或甲基丙烯酰基。所述丙烯酰基或甲基丙烯酰基可为酯(例如，(甲基)丙烯酸(C1-C6烷基)酯)或者酸或其盐(例如，甲基丙烯酸或其盐)。
下文中，描述根据实施方式的硅烷分散剂。
根据实施方式的硅烷分散剂由化学式1表示。
化学式1
R1-(Ar)p-(O-L1)q-(O-L2)r-(O-L3-O-L4)s-O-(L5)t-(L6)u-(CR2R3)w-Si(R4R5R6)
在化学式1中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
各R2和R3相同或不同，并且各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
R4-R6各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，条件是R4-R6的至少一个为取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30亚环烷基或者取代或未取代的C6-C30亚芳基，
各L1-L4相同或不同，并且各自独立地为C1-C5亚烷基，
各L5相同或不同，并且为O、C(＝O)、C(＝O)O、C(＝O)NRa、或其组合，其中Ra为氢或者取代或未取代的C1-C20烷基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
p、t、和u各自独立地为0或1，
q、r、和s各自独立地为0-30的整数，条件是2≤q+r+s≤30，和
w为0-10的整数。
通过包括包含至少一个能水解的基团(能水解的官能团)的硅烷部分，根据实施方式的硅烷分散剂可与所述纳米结构体的表面结合例如共价键合，并且改善所述纳米结构体的分散性。
另外，根据实施方式的硅烷分散剂包括：在末端处的包括烷基且任选地包括亚芳基的疏水性部分、和包括线型氧化亚烷基的亲水性部分，并且因此可根据分散介质的种类有效地设计所述疏水性部分和所述亲水性部分的长度并且在多种分散介质中可实现良好的分散特性。
例如，化学式1的R1可为取代或未取代的C1-C30线型或支化的烷基。
例如，化学式1的R1可为取代或未取代的C1-C30支化的烷基。
例如，化学式1的各R2和R3可相同或不同，并且各自独立地可为氢或者取代或未取代的C1-C30烷基。
例如，化学式1的R4-R6可各自独立地为取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素。
例如，化学式1的R4-R6可各自独立地为取代或未取代的C1-C30烷氧基。
例如，化学式1的各Ar可相同或不同，并且可为取代或未取代的亚苯基或者取代或未取代的亚环己基。
例如，化学式1的各L1-L4可相同或不同，并且各自独立地可为亚乙基或亚丙基。
例如，L6可为取代或未取代的C1-C10氧基亚烷基，和在一些实施方式中可为取代的C1-C6氧基亚烷基。在这些实施方式中，t可为0，且u可为1。进一步地，在这些实施方式中，L6可为如在本文中的定义中所描述地取代的。在一些实施方式中,L6可被卤素、羟基、C1-C30烷氧基、硝基、氰基、或氨基取代。
例如，化学式1的L5可为C(＝O)NRa，其中Ra为氢或者取代或未取代的C1-C20烷基，t可为1，且u可为0。
例如，所述硅烷分散剂可由化学式2表示。
化学式2
在化学式2中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
R4-R6各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，条件是R4-R6的至少一个为取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30环烷基或者取代或未取代的C6-C30芳基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
p、t1、t2、和u各自独立地为0或1，
q为2-30的整数，和
w为0-10的整数。
例如，化学式2的R1可为取代或未取代的C1-C30线型或支化的烷基。
例如，化学式2的R1可为取代或未取代的C1-C30支化的烷基。
例如，化学式2的R4-R6可各自独立地为取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素。
例如，化学式2的R4-R6可各自独立地为取代或未取代的C1-C30烷氧基。
例如，化学式2的各Ar可相同或不同，并且可为取代或未取代的亚苯基或者取代或未取代的亚环己基。
例如，化学式2的各L1-L4可相同或不同，并且各自独立地可为亚乙基或亚丙基。
根据实施方式的硅烷分散剂可例如由化学式1a到1d之一表示，但是不限于此。
化学式1a
化学式1b
化学式1c
化学式1d
在化学式1a到1d中，
R7-R9各自独立地为甲基或乙基，
t1为0或1，
q为2-30的整数，和
m为1-25的整数。
所述硅烷分散剂可具有约200-约2,000克/摩尔(g/mol)例如约500-约1,500g/mol的分子量。
现在描述根据实施方式的纳米结构体。
所述纳米结构体可为例如包括无机材料、有机材料、或有机/无机材料的纳米级结构并且可为一维、二维、和/或三维形状的纳米结构体。
所述纳米结构体可包括例如纳米颗粒、纳米棒、纳米板、纳米线、纳米薄片、纳米管、纳米胶囊、或其组合，但是不限于此。
例如，所述纳米结构体可为无机纳米颗粒、无机纳米棒、无机纳米板、无机纳米线、无机纳米薄片、无机纳米管、无机纳米胶囊、或其组合，但是不限于此。
所述纳米结构体可为例如氧化物、氮化物、或氧氮化物，并且可为例如金属氧化物、半金属氧化物、金属氮化物、半金属氮化物、金属氧氮化物、或半金属氧氮化物。
所述纳米结构体可为例如具有高的折射率的金属氧化物、半金属氧化物、金属氮化物、半金属氮化物、金属氧氮化物、或半金属氧氮化物，例如具有大于或等于约2.0的折射率的金属氧化物或半金属氧化物，再例如具有约2.0-约2.8的折射率的金属氧化物或半金属氧化物。
所述纳米结构体可包括例如TiO2、ZrO2、BaTiO3、SrTiO3、Cu2O、CuO、Cr2O3、Fe2O3、Mn3O4、MnO2、NiO、ZnO、或其组合，但是不限于此。
所述纳米结构体可具有例如小于或等于约200nm的长直径例如约5nm-约100nm、约5nm-约80nm、或者约5nm-约50nm的长直径。
此处，在球形形状的情况下，所述长直径可为直径，并且在非球形形状的情况下，其可为长度、宽度、和高度或厚度中的最长部分(最大维度)的尺寸。
可以基于所述聚合物组合物的总(固体)体积的约0.01体积％-约20体积％的量包括所述纳米结构体和所述硅烷分散剂。
在所述范围内，可以基于所述聚合物组合物的总体积的约2.0体积％-约15.0体积％的量包括所述纳米结构体和所述硅烷分散剂。
所述聚合物组合物可任选地包括溶剂。
如果所述溶剂溶解和/或分散所述聚合物和所述纳米结构体或所述经改性的纳米结构体，则所述溶剂没有特别限制并且可为例如选自如下的一种或多种：水；醇溶剂例如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、丙二醇、丙二醇甲基醚、乙二醇等；脂族烃溶剂例如己烷、庚烷等；芳族溶剂例如甲苯、吡啶、喹啉、茴香醚、均三甲苯、二甲苯等；酮溶剂例如甲基异丁基酮、1-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、环己酮、丙酮等；醚溶剂例如四氢呋喃、异丙基醚等；乙酸酯溶剂例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇甲基醚乙酸酯等；酰胺溶剂例如二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺(DMF)等；腈溶剂例如乙腈、苄腈等；和前述溶剂的混合物，但是不限于此。
下文中，描述根据实施方式的经改性的纳米结构体。
根据实施方式的经改性的纳米结构体包括纳米结构体和与所述纳米结构体的表面结合的硅烷分散剂。
所述纳米结构体可为例如包括无机材料、有机材料、或有机/无机材料的纳米级结构体并且可为一维、二维、和/或三维形状的纳米结构体。
所述纳米结构体可包括例如纳米颗粒、纳米棒、纳米板、纳米线、纳米薄片、纳米管、纳米胶囊、或其组合，但是不限于此。
例如，所述纳米结构体可为无机纳米颗粒、无机纳米棒、无机纳米板、无机纳米线、无机纳米薄片、无机纳米管、无机纳米胶囊、或其组合，但是不限于此。
所述纳米结构体可为例如氧化物、氮化物、或氧氮化物，并且可为例如金属氧化物、半金属氧化物、金属氮化物、半金属氮化物、金属氧氮化物、或半金属氧氮化物。
所述纳米结构体可为例如具有高的折射率的金属氧化物、半金属氧化物、金属氮化物、半金属氮化物、金属氧氮化物、或半金属氧氮化物，例如具有大于或等于约2.0的折射率的金属氧化物或半金属氧化物，再例如具有约2.0-约2.8的折射率的金属氧化物或半金属氧化物。
所述纳米结构体可包括例如TiO2、ZrO2、BaTiO3、SrTiO3、Cu2O、CuO、Cr2O3、Fe2O3、Mn3O4、MnO2、NiO、ZnO、或其组合，但是不限于此。
所述纳米结构体可具有例如小于或等于约200nm的长直径例如约5nm-约100nm、约5nm-约80nm、或者约5nm-约50nm的长直径。
此处，在球形形状的情况下，所述长直径可为直径，且在非球形形状的情况下，其可为长度、宽度、和高度或厚度中的最长部分的尺寸。所述经改性的纳米结构体可为如下的纳米结构体：其中其表面的至少一部分通过硅烷分散剂改性，和例如所述纳米结构体的表面的至少一部分可与所述硅烷分散剂的能水解的基团通过水解和缩合反应而化学结合例如共价键合。
与所述纳米结构体结合的硅烷分散剂可为由化学式1表示的硅烷分散剂与所述纳米结构体的表面的水解和缩合反应产物，并且可例如由化学式1’表示。
化学式1’
R1-(Ar)p-(O-L1)q-(O-L2)r-(O-L3-O-L4)s-O-(L5)t-(L6)u-(CR2R3)w-Si(R4'R5'R6')
在化学式1’中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
各R2和R3相同或不同，并且各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
R4'-R6'各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、或者式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，条件是R4'-R6'的至少一个为式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30亚环烷基或者取代或未取代的C6-C30亚芳基，
各L1-L4相同或不同，并且各自独立地为C1-C5亚烷基，
各L5相同或不同，并且为O、C(＝O)、C(＝O)O、或C(＝O)NRa，其中Ra为氢或者取代或未取代的C1-C20烷基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
p、t、和u各自独立地为0或1，
q、r、和s各自独立地为0-30的整数，条件是2≤q+r+s≤30，和
w为0-10的整数。
例如，化学式1’的R1可为取代或未取代的C1-C30线型或支化的烷基。
例如，化学式1’的R1可为取代或未取代的C1-C30支化的烷基。
例如，化学式1’的各R2和R3可相同或不同，并且可各自独立地为氢或者取代或未取代的C1-C30烷基。
例如，化学式1’的R4'-R6'可各自独立地为式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点。
例如，化学式1’的各Ar可相同或不同，并且可为取代或未取代的亚苯基或者取代或未取代的亚环己基。
例如，化学式1’的各L1-L4可相同或不同，并且各自独立地可为亚乙基或亚丙基。
例如，与所述纳米结构体的表面结合的硅烷分散剂可由化学式2’表示。
化学式2’
在化学式2’中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
R4'-R6'各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、或者式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，条件是R4'-R6'的至少一个为式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的结合位点，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30亚环烷基或者取代或未取代的C6-C30亚芳基，
p、t1、t2、和u各自独立地为0或1，
q为2-30的整数，和
w为0-10的整数。
例如，化学式2’的R1可为取代或未取代的C1-C30线型或支化的烷基。
例如，化学式2’的R1可为取代或未取代的C1-C30支化的烷基。
例如，化学式2’的R4'-R6'可各自为式(-O-*)的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点。
例如，化学式2’的各Ar可相同或不同，并且可为取代或未取代的亚苯基或者取代或未取代的亚环己基。
例如，化学式2’的各L1-L4可相同或不同，并且各自独立地可为亚乙基或亚丙基。
与所述纳米结构体的表面结合的硅烷分散剂可例如由化学式1a'到1d'之一表示，但是不限于此。
化学式1a'
化学式1b'
化学式1c'
化学式1d'
在化学式1a'到1d'中，
t1为0或1，
q为2-30的整数，
m为1-25的整数，和
*为与所述纳米结构体的表面的结合位点。
根据实施方式的经改性的纳米结构体使在分散介质中的分散性提高，并且因此减少或者防止附聚。
另外，与所述纳米结构体的表面结合的硅烷分散剂包括：在末端处的包括烷基并且任选地包括亚芳基的疏水性部分、和包括线型氧化亚烷基的亲水性部分，并且因此可根据分散介质的种类有效地设计所述疏水性部分和所述亲水性部分的长度且在多种分散介质中可实现良好的分散特性。
因此，根据实施方式的经改性的纳米结构体不管分散介质的种类为何均可有效地使用并且具有多种应用范围。
下文中，描述聚合物组合物。
根据一种实施方式的聚合物组合物包括聚合物、纳米结构体、和所述硅烷分散剂。
根据另一实施方式的聚合物组合物包括聚合物和所述经改性的纳米结构体。
所述聚合物可为例如亲水性聚合物或疏水性聚合物例如疏水性聚合物。
所述聚合物可包括例如聚烯烃、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚(甲基)丙烯酰基、聚苯乙烯、环氧聚合物、聚碳酸酯、聚硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合，但是不限于此。
所述聚合物可包括例如聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺(尼龙)、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PETG)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合，但是不限于此。
可以基于所述聚合物组合物的总(固体)体积的大于或等于约80体积％的量包括所述聚合物。
在所述范围内，可以基于所述聚合物组合物的总体积的约80体积％-约99.9体积％的量包括所述聚合物。
在所述范围内，可以基于所述聚合物组合物的总体积的约85体积％-约98体积％的量包括所述聚合物。
可以基于所述聚合物组合物的总体积的约0.01体积％-约20体积％的量包括所述经改性的纳米结构体。
在所述范围内，可以基于所述聚合物组合物的总体积的约2.0体积％-约15.0体积％的量包括所述经改性的纳米结构体。
所述聚合物组合物可任选地包括溶剂。
如果所述溶剂溶解和/或分散所述聚合物和所述纳米结构体或所述经改性的纳米结构体，则所述溶剂没有特别限制并且可为例如选自如下的一种或多种：水；醇溶剂例如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇、叔丁醇、丙二醇、丙二醇甲基醚、乙二醇等；脂族烃溶剂例如己烷、庚烷等；芳族溶剂例如甲苯、吡啶、喹啉、茴香醚、均三甲苯、二甲苯等；酮溶剂例如甲基异丁基酮、1-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)、环己酮、丙酮等；醚溶剂例如四氢呋喃、异丙基醚等；乙酸酯溶剂例如乙酸乙酯、乙酸丁酯、丙二醇甲基醚乙酸酯等；酰胺溶剂例如二甲基乙酰胺、二甲基甲酰胺(DMF)等；腈溶剂例如乙腈、苄腈等；和前述溶剂的混合物，但是不限于此。
如上所述，所述经改性的纳米结构体由于高的分散性而可基本上均匀地分散在所述聚合物组合物的聚合物中并且因此可减少或防止通过过度附聚而产生沉淀物或者漂浮材料，且从而，所述聚合物组合物可为光学上透明的分散体形式。类似地，所述纳米结构体和所述硅烷分散剂可基本上均匀地分散在所述聚合物组合物的聚合物中，且从而，所述聚合物组合物可为光学上透明的分散体形式。
所述聚合物组合物可形成为聚合物复合物。
所述聚合物复合物可包括聚合物和分散在所述聚合物中的经改性的纳米结构体。替代地，所述聚合物复合物可包括所述包含聚合物、纳米结构体、和硅烷分散剂的聚合物组合物，其中所述纳米结构体和所述硅烷分散剂分散在所述聚合物中。
所述聚合物可为例如亲水性聚合物或疏水性聚合物例如疏水性聚合物。
所述聚合物可包括例如聚烯烃、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚(甲基)丙烯酰基、聚苯乙烯、环氧聚合物、聚碳酸酯、聚硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合，但是不限于此。
所述聚合物可包括例如聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺(尼龙)、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PETG)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合，但是不限于此。
可以基于所述聚合物复合物的总体积的约0.1体积％-约20体积％的量包括所述纳米结构体和所述硅烷分散剂。
在所述范围内，可以基于所述聚合物复合物的总体积的约2体积％-约15体积％的量包括所述纳米结构体和所述硅烷分散剂。
可以基于所述聚合物复合物的总体积的约0.1体积％-约20体积％的量包括所述经改性的纳米结构体。
在所述范围内，可以基于所述聚合物复合物的总体积的约2体积％-约15体积％的量包括所述经改性的纳米结构体。
所述聚合物复合物可例如以膜的形式制备并且可作为聚合物膜使用，并且可为例如透明的。
所述聚合物复合物可为例如具有约0.1微米(μm)-约500μm例如约1μm-约300μm、约1μm-约200μm、或者约2μm-约150μm的厚度的透明膜。
所述聚合物复合物可为例如满足在450纳米的波长处大于或等于约85％的可见光透射率、当根据ASTM D1003-07测定时小于约1的雾度、和当根据ASTM D1925测定时小于或等于约3.5的黄色指数的透明膜。
所述聚合物复合物可为例如满足在450纳米的波长处大于或等于约87％的可见光透射率、当根据ASTM D1003-07测定时小于约0.8的雾度、和当根据ASTM D1925测定时小于或等于约3.0的黄色指数的透明膜。
所述聚合物复合物可应用于任何需要透明性的用途中。
所述聚合物复合物可例如用作基底、保护膜、光学膜、介电层、绝缘层、胶粘层等。
例如，所述聚合物复合物可用作光学膜。
所述光学膜可例如满足在450纳米的波长处大于或等于约85％的可见光透射率、当根据ASTM D1003-07测定时小于约1的雾度、和当根据ASTM D1925测定时小于或等于约3.5的黄色指数，例如在450纳米的波长处大于或等于约88％的光透射率、当根据ASTMD1003-07测定时小于约0.8的雾度、和当根据ASTM D1925测定时小于或等于约3.0的黄色指数。
所述光学膜可为例如补偿膜。
所述补偿膜可为例如在单轴或双轴方向上伸长的并且可具有预定的延迟。
所述补偿膜的延迟可表示为面内延迟(Ro)和厚度方向延迟(Rth)。
所述补偿膜的面内延迟(Ro)为在所述补偿膜的平面中产生的延迟并且可通过方程1表示：
Ro＝(nx-ny)d 方程(1)
所述补偿膜的厚度方向延迟(Rth)为在所述补偿膜的厚度方向上产生的延迟并且可通过方程2表示：
Rth＝{[(nx+ny)/2]-nz}d 方程(2)
在方程1和2中，nx为在所述补偿膜的平面内的具有最高面内折射率的方向(下文中，称作“慢轴”)上的折射率，ny为在所述补偿膜的平面内的具有最低面内折射率的方向(下文中，称作“快轴”)上的折射率，nz为在与所述补偿膜的慢轴和快轴垂直的方向上的折射率，并且d为所述补偿膜的厚度。
通过改变nx、ny、nz、和/或厚度(d)，所述补偿膜可具有预定的面内延迟和厚度方向延迟。
所述补偿膜可单独地或者与其它补偿膜一起使用。
所述补偿膜可与偏振器一起使用并且可作为用于防止显示设备的外部光的反射的光学膜使用。
所述光学膜可为例如抗反射膜，但是不限于此。
所述补偿膜可应用于多种显示设备。
所述显示设备可为例如液晶显示器(LCD)或者有机发光二极管(OLED)显示器，但是不限于此。
下文中，参照实施例更详细地说明实施方式。
然而，这些实施例是示例性的，并且本公开内容不限于此。
实施例
硅烷分散剂的合成
合成实施例1
化学式1aa
反应方案1
将7.34g(10mmol)化合物1(Triton X-102，Sigma Aldrich Co.,Ltd.)、2.48g(10mmol)3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯、和24mg 2-乙基己酸锡(II)置于干燥的250mL圆底烧瓶中，然后在60℃下在氮气气氛下搅拌24小时以获得由化学式1aa表示的作为黄色粘稠液体的硅烷分散剂。
1H NMR(CDCl3)600MHz,δ,ppm:0.75(s,9H),1.19(t,9H)1.30(s,6H),1.60(m,2H),1.69(s,2H),3.09(m,2H),3.60(m,2H),3.77(q,6H)3.64(m,38H),3.72(m,4H),3.85(m,2H),4.10(m,2H),6.82(d,2H),7.26(d,2H)。
FT-IR Si-O带状峰在3350-3300cm-1区域中且N-H带状峰在1200-1000cm-1区域中。
合成实施例2
化学式1ba
反应方案2
将6.26g(10mmol)化合物2(九缩十乙二醇单十二烷基醚，Sigma Aldrich Co.,Ltd.)、2.48g(10mmol)3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯、和24mg 2-乙基己酸锡(II)置于干燥的250mL圆底烧瓶中，然后在60℃下在氮气气氛下搅拌24小时以获得由化学式1ba表示的作为黄色粘稠液体的硅烷分散剂。
FT-IR Si-O带状峰在3350-3300cm-1区域中且N-H带状峰在1200-1000cm-1区域中。
合成实施例3
化学式1bb
反应方案3
将7.28g(10mmol)化合物3(PEG(12)十三烷基醚，Sigma Aldrich Co.,Ltd.)、2.48g(10mmol)3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯、和24mg 2-乙基己酸锡(II)置于干燥的250mL圆底烧瓶中，然后在60℃下在氮气气氛下搅拌24小时以获得由化学式1bb表示的作为黄色粘稠液体的硅烷分散剂。
FT-IR Si-O带状峰在3350-3300cm-1区域中且N-H带状峰确认在1200-1000cm-1区域中。
合成实施例4
化学式1bc
反应方案4
将10g(10mmol)化合物4(PEG(18)十三烷基醚，Sigma Aldrich Co,Ltd.)、2.48g(10mmol)3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯、和24mg 2-乙基己酸锡(II)置于干燥的250mL圆底烧瓶中，然后在60℃下在氮气气氛下搅拌24小时以获得由化学式1bc表示的作为黄色粘稠液体的硅烷分散剂。
FT-IR Si-O带状峰在3350-3300cm-1区域中且N-H带状峰确认在1200-1000cm-1区域中。
合成实施例5
化学式1ca
反应方案5
将6.24g(10mmol)化合物5(Triton N-101Reduced，Sigma Aldrich Co.,Ltd.)、2.48g(10mmol)3-(三乙氧基甲硅烷基)丙基异氰酸酯、和24mg 2-乙基己酸锡(II)置于干燥的250mL圆底烧瓶中，然后在60℃下在氮气气氛下搅拌24小时以获得由化学式1ca表示的作为黄色粘稠液体的硅烷分散剂。
FT-IR Si-O带状峰在3350-3300cm-1区域中且N-H带状峰确认在1200-1000cm-1区域中。
经改性的纳米结构体的制备
制备实施例1
向异丙醇(50ml)添加油酸(2M)，然后，向其添加异丙醇钛(0.25M)，并且将混合物搅拌4小时。
将所得混合物在微波(输出功率：600-800W)中在180℃下热处理4小时，然后在甲苯中分离和纯化。
随后，向其添加2g根据合成实施例1的硅烷分散剂，并且将所获得的混合物在微波中在150℃下在8atm的条件下搅拌和反应4小时以获得经改性的纳米结构体。
制备实施例2
根据与制备实施例1相同的方法制造经改性的纳米结构体，除了如下之外：使用根据合成实施例2的硅烷分散剂代替根据合成实施例1的硅烷分散剂。
制备实施例3
根据与制备实施例1相同的方法制造经改性的纳米结构体，除了如下之外：使用根据合成实施例3的硅烷分散剂代替根据合成实施例1的硅烷分散剂。
制备实施例4
根据与制备实施例1相同的方法制造经改性的纳米结构体，除了如下之外：使用根据合成实施例4的硅烷分散剂代替根据合成实施例1的硅烷分散剂。
制备实施例5
根据与制备实施例1相同的方法制造经改性的纳米结构体，除了如下之外：使用根据合成实施例5的硅烷分散剂代替根据合成实施例1的硅烷分散剂。
聚合物复合物的制备
实施例1
将2.8g聚酰亚胺与37.2g二甲基乙酰胺(DMAc)混合以制备40g溶液。
将基于最终聚合物复合物的3.7体积％的制备实施例1的经改性的纳米结构体与该溶液混合以制备涂布溶液。
随后，通过使用刮刀将该涂布溶液在15cm×8cm玻璃基底上流延。
将流延的基底首先在热板上在100℃下干燥30分钟，随后在炉子中在氮气气氛下在230℃下干燥90分钟，以制造约3μm厚的聚合物复合物。
实施例2
根据与实施例1相同的方法制造聚合物复合物，除了如下之外：使用3.7体积％的根据制备实施例2的经改性的纳米结构体代替根据制备实施例1的经改性的纳米结构体。
实施例3
根据与实施例1相同的方法制造聚合物复合物，除了如下之外：使用4.7体积％的根据制备实施例2的经改性的纳米结构体代替根据制备实施例1的经改性的纳米结构体。
实施例4
根据与实施例1相同的方法制造聚合物复合物，除了如下之外：使用2.5体积％的根据制备实施例2的经改性的纳米结构体代替根据制备实施例1的经改性的纳米结构体。
实施例5
根据与实施例1相同的方法制造聚合物复合物，除了如下之外：使用2.6体积％的根据制备实施例2的经改性的纳米结构体代替根据制备实施例1的经改性的纳米结构体。
对比例1
根据与实施例1相同的方法制造聚合物复合物，除了如下之外：使用3.9体积％的TiO2纳米棒(DT-TIOS-10MEK-W20，Ditto Tech)代替根据制备实施例1的经改性的纳米结构体。
对比例2
根据与实施例1相同的方法制造聚合物复合物，除了如下之外：使用5.3体积％的TiO2纳米棒(DT-TIOS-10MEK-W20，Ditto Tech)代替根据制备实施例1的经改性的纳米结构体。
对比例3
根据与实施例1相同的方法制造聚合物复合物，除了如下之外：使用6.6体积％的TiO2纳米棒(DT-TIOS-10MEK-W20，Ditto Tech)代替根据制备实施例1的经改性的纳米结构体。
参考例
根据与实施例1相同的方法制造聚合物复合物，除了如下之外：不包括根据制备实施例1的经改性的纳米结构体。
评价
评价根据实施例1-5和对比例1-3的聚合物复合物的光学性质。
通过使用UV分光光度计(cm-3600d，Konica Minolta Co.)测量光透射率、雾度、和黄色指数(YI)，并且此处，雾度使用D1003-07(A)标准，且黄色指数使用D1925标准。
通过使用棱镜耦合器(2010/M，Metricon Corp.)在450nm的波长处测量折射率。
结果示于表1和图1-4中。
图1-4为显示根据实施例1-5和对比例1-3的聚合物复合物的光学性质的图。
表1
参照表1和图1-4，与根据对比例1-3的聚合物复合物相比，根据实施例1-5的聚合物复合物显示出高的光透射率，但是低的黄色指数和低的雾度。
特别地，根据实施例1-5的聚合物复合物满足大于或等于约85％的光透射率、小于或等于约1的雾度、和小于或等于约3.5的黄色指数以及在所述范围内的大于或等于约87％的光透射率、小于或等于约0.8的雾度、和小于或等于约3.0的黄色指数。
因此，根据实施例1-5的聚合物复合物包括经改性的纳米结构体并且因此可减少聚合物中纳米结构体的附聚，从而提高分散性，并且结果，防止光学特性的恶化。
另外，根据实施例1-5的聚合物复合物可由于所述经改性的纳米结构体而改变相位差并且因此，可有效地应用于光学膜例如补偿膜。
尽管已经关于当前被认为是实践性的实例实施方式的内容描述了本公开内容，但是将理解，本发明不限于所公开的实施方式，而是相反，意图覆盖包括在所附权利要求的精神和范围内的多种改动和等同布置。
Claims (28)
1.聚合物组合物，其包括：
聚合物；
纳米结构体；和
由化学式1表示的硅烷分散剂：
化学式1
R1-(Ar)p-(O-L1)q-(O-L2)r-(O-L3-O-L4)s-O-(L5)t-(L6)u-(CR2R3)w-Si(R4R5R6)
其中，在化学式1中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
各R2和R3相同或不同，并且各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
R4-R6各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，条件是R4-R6的至少一个为取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30亚环烷基或者取代或未取代的C6-C30亚芳基，
各L1-L4相同或不同，并且各自独立地为C1-C5亚烷基，
各L5相同或不同，并且为O、C(＝O)、C(＝O)O、C(＝O)NRa、或其组合，其中Ra为氢或者取代或未取代的C1-C20烷基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
p、t和u各自独立地为0或1，
q、r和s各自独立地为0-30的整数，条件是2≤q+r+s≤30，和
w为0-10的整数。
2.如权利要求1所述的聚合物组合物，其中所述硅烷分散剂由化学式2表示：
化学式2
其中，在化学式2中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
R4-R6各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，条件是R4-R6的至少一个为取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30亚环烷基或者取代或未取代的C6-C30亚芳基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
p、t1、t2和u各自独立地为0或1，
q为2-30的整数，和
w为0-10的整数。
3.如权利要求1所述的聚合物组合物，其中Ar为取代或未取代的亚苯基或者取代或未取代的亚环己基。
4.如权利要求1所述的聚合物组合物，其中R4-R6各自独立地为取代或未取代的C1-C30烷氧基。
5.如权利要求1所述的聚合物组合物，其中所述硅烷分散剂由化学式1a到1d之一表示：
化学式1a
化学式1b
化学式1c
化学式1d
其中，在化学式1a到1d中，
R7-R9各自独立地为甲基或乙基，
t1为0或1，
q为2-30的整数，和
m为1-25的整数。
6.如权利要求1所述的聚合物组合物，其中所述硅烷分散剂与所述纳米结构体的表面结合。
7.如权利要求1所述的聚合物组合物，其中所述纳米结构体包括无机纳米颗粒、无机纳米棒、无机纳米板、无机纳米线、无机纳米薄片、无机纳米管、无机纳米胶囊、或其组合。
8.如权利要求7所述的聚合物组合物，其中所述纳米结构体包括TiO2、ZrO2、BaTiO3、SrTiO3、Cu2O、CuO、Cr2O3、Fe2O3、Mn3O4、MnO2、NiO、ZnO、或其组合。
9.如权利要求1所述的聚合物组合物，其中所述纳米结构体具有小于或等于50纳米的长直径。
10.如权利要求1所述的聚合物组合物，其中所述聚合物包括聚烯烃、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚(甲基)丙烯酰基、聚苯乙烯、环氧聚合物、聚碳酸酯、聚硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合。
11.如权利要求10所述的聚合物组合物，其中所述聚合物包括聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合。
12.聚合物组合物，其包括
聚合物和经改性的纳米结构体，
其中所述经改性的纳米结构体包括纳米结构体和由化学式1’表示并且与所述纳米结构体的表面结合的硅烷分散剂：
化学式1’
R1-(Ar)p-(O-L1)q-(O-L2)r-(O-L3-O-L4)s-O-(L5)t-(L6)u-(CR2R3)w-Si(R4’R5’R6’)
其中，在化学式1’中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
各R2和R3相同或不同，并且各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、取代或未取代的C1-C30烷氧基、羟基、或卤素，
R4'-R6'相同或不同，并且各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、或者式-O-*的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，条件是R4'-R6'的至少一个为式-O-*的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30亚环烷基或者取代或未取代的C6-C30亚芳基，
各L1-L4相同或不同，并且各自独立地为C1-C5亚烷基，
各L5相同或不同，并且为O、C(＝O)、C(＝O)O、C(＝O)NRa、或其组合，其中Ra为氢或者取代或未取代的C1-C20烷基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
p、t和u各自独立地为0或1，
q、r和s各自独立地为0-30的整数，条件是2≤q+r+s≤30，和
w为0-10的整数。
13.如权利要求12所述的聚合物组合物，其中所述硅烷分散剂由化学式2’表示：
化学式2’
其中，在化学式2’中，
R1为取代或未取代的C1-C30烷基，
各L6相同或不同，并且为取代或未取代的C1-C30氧基亚烷基，
R4'-R6'各自独立地为氢、取代或未取代的C1-C30烷基、或者式-O-*的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，条件是R4'-R6'的至少一个为式-O-*的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点，
各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的C3-C30亚环烷基或者取代或未取代的C6-C30亚芳基，
p、t1、t2和u独立地为0或1，
q为2-30的整数，和
w为0-10的整数。
14.如权利要求12所述的聚合物组合物，其中各Ar相同或不同，并且为取代或未取代的亚苯基或者取代或未取代的亚环己基。
15.如权利要求12所述的聚合物组合物，其中R4'-R6'各自为式-O-*的基团，其中*为通过水解和缩合反应与所述纳米结构体的表面的结合位点。
16.如权利要求12所述的聚合物组合物，其中所述硅烷分散剂由化学式1a'到1d'之一表示：
化学式1a'
化学式1b'
化学式1c'
化学式1d'
其中，在化学式1a'到1d'中，
t1为0或1，
q为2-30的整数，
m为1-25的整数，和
*为与所述纳米结构体的表面的结合位点。
17.如权利要求12所述的聚合物组合物，其中所述纳米结构体包括无机纳米颗粒、无机纳米棒、无机纳米板、无机纳米线、无机纳米薄片、无机纳米管、无机纳米胶囊、或其组合。
18.如权利要求17所述的聚合物组合物，其中所述纳米结构体包括TiO2、ZrO2、BaTiO3、SrTiO3、Cu2O、CuO、Cr2O3、Fe2O3、Mn3O4、MnO2、NiO、ZnO、或其组合。
19.如权利要求12所述的聚合物组合物，其中所述纳米结构体具有小于或等于50纳米的长直径。
20.如权利要求12所述的聚合物组合物，其中基于所述聚合物和所述经改性的纳米结构体的总体积，以0.1体积％-20体积％的量包括所述经改性的纳米结构体。
21.如权利要求12所述的聚合物组合物，其中所述聚合物包括聚烯烃、聚酰胺、聚酰亚胺、聚酯、聚(甲基)丙烯酰基、聚苯乙烯、环氧聚合物、聚碳酸酯、聚硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合。
22.如权利要求21所述的聚合物组合物，其中所述聚合物包括聚乙烯、聚丙烯、聚酰胺、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二醇酯、二醇改性的聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚二甲基硅氧烷、聚氨酯、其共聚物、或它们的组合。
23.聚合物复合物，其包括
根据权利要求1-11任一项的聚合物组合物，其中所述纳米结构体和所述硅烷分散剂分散在所述聚合物中。
24.如权利要求23所述的聚合物复合物，其中基于所述聚合物复合物的总体积，以0.1体积％-20体积％的量包括所述纳米结构体和所述硅烷分散剂。
25.聚合物复合物，其包括
根据权利要求12-22任一项的聚合物组合物，其中所述经改性的纳米结构体分散在所述聚合物中。
26.如权利要求25所述的聚合物复合物，其中基于所述聚合物复合物的总体积，以0.1体积％-20体积％的量包括所述经改性的纳米结构体。
27.如权利要求23或25所述的聚合物复合物，其中所述聚合物复合物为膜形式，和
所述聚合物复合物满足在450纳米的波长处大于或等于85％的可见光透射率、当根据ASTM D1003-07测定时小于1的雾度、和当根据ASTM D1925测定时小于或等于3.5的黄色指数。
28.光学膜，其包括如权利要求23-27任一项所述的聚合物复合物。
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Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0406731A2 (en) * | 1989-07-05 | 1991-01-09 | BASF Corporation | Surface-modified micaceous particulates having improved dispersibility in aqueous media |
| US20060216438A1 (en) * | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Inorganic fine particle-containing composition, optical film, antireflection film and polarizing film, and polarizing plate and display device using the same |
| US20070092758A1 (en) * | 2005-10-20 | 2007-04-26 | Lee Eun S | Dispersant having silane head and phosphor paste composition comprising the same |
| CN102850563A (zh) * | 2012-09-26 | 2013-01-02 | 哈尔滨工业大学 | 氨基硅烷化改性碳化硅纳米颗粒增强聚酰亚胺复合薄膜的方法 |
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|---|---|---|---|---|
| EP0406731A2 (en) * | 1989-07-05 | 1991-01-09 | BASF Corporation | Surface-modified micaceous particulates having improved dispersibility in aqueous media |
| US20060216438A1 (en) * | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Inorganic fine particle-containing composition, optical film, antireflection film and polarizing film, and polarizing plate and display device using the same |
| US20070092758A1 (en) * | 2005-10-20 | 2007-04-26 | Lee Eun S | Dispersant having silane head and phosphor paste composition comprising the same |
| CN102850563A (zh) * | 2012-09-26 | 2013-01-02 | 哈尔滨工业大学 | 氨基硅烷化改性碳化硅纳米颗粒增强聚酰亚胺复合薄膜的方法 |
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