CN108431639A - 抗反射膜 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种包括低折射率层和硬涂层的抗反射膜，所述低折射率层包含：粘合剂树脂，所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷之间的交联聚合物；和分散在粘合剂树脂中的无机细颗粒，其中低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)为0.05μm至0.2μm。

Description

抗反射膜
技术领域
相关申请的交叉引用
本申请要求向韩国知识产权局于2016年3月9日提交的韩国专利申请第10-2016-0028464号和2017年3月9日提交的韩国专利申请第10-2017-0029955号的优先权的权益，其全部公开内容通过引用并入本文。
本发明涉及一种抗反射膜。更具体地，本发明涉及这样的抗反射膜：其在具有低反射率和高透光率的同时能够同时实现耐刮擦性和防污性，并且还能够提高显示装置的屏幕清晰度。
背景技术
通常，诸如PDP或LCD的平板显示装置配备有用于使从外部入射的光的反射最小化的抗反射膜。
作为用于使光的反射最小化的方法，存在以下方法：使填料如无机细颗粒分散在树脂中并涂覆在基底膜上以赋予不规则性的方法(抗眩光：AG涂覆)，通过在基底膜上形成具有不同折射率的复数个层来利用光的干涉的方法(抗反射：AR涂覆)；它们的混合方法等。
其中，在AG涂覆的情况下，反射光的绝对量等于一般的硬涂覆的绝对量，但是通过经由不规则性利用光散射来减少进入眼睛的光的量可以获得低反射效果。然而，由于AG涂覆因表面不规则性而具有差的屏幕清晰度，因而近来已经对AR涂覆进行了许多研究。
对于使用AR涂覆的膜，其中在基底膜上层合有硬涂层(高折射率层)、低反射涂层等的多层结构已经商业化。然而，如上所述的形成复数个层的方法的缺点在于，由于形成各层的过程是分开进行的，因此层间粘合力(界面粘合性)弱，并且耐刮擦性低。
此外，通常，为了改善包括在抗反射膜中的低折射率层的耐刮擦性，主要尝试了添加具有纳米尺寸的不同颗粒(例如，二氧化硅、氧化铝、沸石颗粒等)的方法。然而，当如上所述使用纳米尺寸的颗粒时，在降低低折射率层的反射率时同时提高耐刮擦性的方面存在限制，并且低折射率层表面的防污性由于具有纳米尺寸的颗粒而大大降低。
因此，已经积极进行了许多研究来减少从外部入射的光的绝对反射量并且提高防污性以及耐刮擦性，但由此产生的物理特性的改善程度不足。
发明内容
技术问题
本发明的一个目的是提供这样的抗反射膜：其能够在具有低反射率和高透光率的同时，还同时实现耐刮擦性和防污性，并且还能够提高显示装置的屏幕清晰度。
技术方案
在本发明的一个实施方案中，提供了包括低折射率层和硬涂层的抗反射膜，所述低折射率层包含：粘合剂树脂，所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物；和分散在粘合剂树脂中的无机细颗粒，其中低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)为0.05μm至0.2μm。
在下文中，将更详细地描述根据本发明的具体实施方案的抗反射膜。
在本公开内容中，可光聚合化合物统指当用光照射时(例如，当用可见光或紫外光照射时)引起聚合反应的化合物。
此外，(甲基)丙烯酸酯/(甲基)丙烯酰基((methy)acryl)是指包括丙烯酸酯/丙烯酰基和甲基丙烯酸酯/甲基丙烯酰基二者。
此外，(共聚)聚合物是指包括共聚物和均聚物两者。
此外，中空二氧化硅颗粒是指源自硅化合物或有机硅化合物的二氧化硅颗粒，其中在二氧化硅颗粒的表面上和/或内部存在空的空隙。
根据本发明的一个实施方案，可以提供包括低折射率层和硬涂层的抗反射膜，所述低折射率层包含：粘合剂树脂，所述粘合剂树脂包含可光聚合化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物；和分散在粘合剂树脂中的无机细颗粒，其中低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)为0.05μm至0.2μm。
本发明人对抗反射膜进行了深入研究，并通过实验发现，在包括低折射率层和硬涂层的同时满足关于低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)的上述数值的抗反射膜可以实现较低的反射率和较高的透光率，改善耐碱性并且同时确保优异的耐磨性或耐刮擦性，而且在提高显示装置的屏幕清晰度的同时还表现出优异的机械特性。
具体地，低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)可以为0.05μm至0.2μm、0.10μm至0.180μm，或者0.127μm至0.141μm。
由于低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)为0.05μm至0.2μm，因此抗反射膜可以得到能够同时实现抗反射效果和可见性的最佳表面不规则性结构。
抗反射膜的表面粗糙度由表面不规则性的10点平均粗糙度(Rz)来表示。10点平均粗糙度表示：基于表面不规则性曲线的取样长度内的平均线，五个最高轮廓峰的高度和五个最深轮廓谷的深度的绝对值的平均值之和。
此时，当作为不规则处的10点高度的Rz为0.05μm至0.2μm、0.10μm至0.180μm，或者0.127μm至0.141μm时，可以同时实现抗反射效果和可见性。当低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)小于0.05μm时，可能导致抗反射效果和面板缺陷的遮盖力降低。当低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)大于0.2μm时，可能导致分辨率降低(例如闪烁现象)和清晰度降低。
低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)可以通过非接触表面测量仪器(3D光学轮廓仪)来测量。
当包括在抗反射膜中的低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)为0.05μm至0.2μm时，抗反射膜的总雾度可以为5％或更小，或者1％至5％。这样的抗反射膜可以在保持可见性的同时提高面板缺陷的遮盖力，并且可以实现低反射率和高透光率。具体地，当抗反射膜的总雾度超过5％时，可能导致可见性劣化，例如对比度降低。
抗反射膜的总雾度和内部雾度可以分别为3％或更小。具体地，抗反射膜的总雾度可以为3％或更小、2％至3％，或者2.5％至2.75％，以及抗反射膜的内部雾度可以为2.7％或更小、2％至2.7％，或者2.30％至2.65％。
总雾度(Ha)被定义为表面雾度(Hs)与内部雾度(Hi)的总和，并且可以通过测量抗反射膜自身的雾度来获得总雾度。内部雾度可以通过在经碱处理的抗反射膜的表面上涂覆平坦化层来测量。由于定义了总雾度值和内部雾度值，因此可以定义表面雾度值。
此外，抗反射膜的内部雾度(Hi)相对于总雾度(Ha)的比率可以为97％或更小、96％或更小、30％至96％、90％至96％，或者92.0％至95.90％。
通常，表面雾度越高，由散射引起的反射率降低的效果越大。由低折射率层引起的降低反射率的效果在相同的折射率范围内进一步增加，并且必须确保一定程度的表面雾度，使得可以在显示装置中确保柔和的视觉感受。
相反，当抗反射膜的内部雾度(Hi)相对于总雾度(Ha)的比率超过97％时，总雾度(Ha)中表面雾度(Hs)的比率变得过小，并且抗反射膜不容易确保足够低的反射率，而且抗反射膜的干涉图案也容易暴露，使得最终应用的显示装置的清晰度和视觉感受可能劣化。
此外，抗反射膜可以实现低反射率和高透光率，并且具体地，表面特性和光学特性在暴露于碱之前至之后可以没有显著变化。具体地，抗反射膜在预定的碱处理之前或之后的色坐标值(b*)的变化可以为0.7或更小、0.05至0.7、0.5或更小、0.1至0.5、0.2至0.45，或者0.3至0.42。
抗反射膜在预定的碱处理之前至之后的色坐标值(b*)的变化可以使用光学装置在碱预处理之前和之后测量，在碱预处理中将抗反射膜浸渍在用蒸馏水稀释至5％至50％的水性碱溶液(氢氧化钠等)中1秒至100秒。
抗反射膜在380nm至780nm的可见光波长波段区域中的平均反射率可以为2.5％或更小、2.0％或更小、1.6％或更小，或者1.10％至2.25％。
低折射率层的厚度可以为1nm至200nm，并且硬涂层的厚度可以为0.1μm至100μm，或者1μm至10μm。
抗反射膜的特性取决于包含取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的低折射率层的特性等。具体地，不同于使用过去已知的二氧化硅、氧化铝、沸石等细颗粒的情况，取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷因为反应性官能团存在于表面上而可以改善低折射层的机械特性如耐刮擦性，并且在提高低折射率层的耐碱性的同时改善了外观特性如平均反射率和颜色。
另一方面，低折射率层可以包含含有可光聚合化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物的粘合剂树脂，和分散在粘合剂树脂中的无机细颗粒。
另一方面，聚倍半硅氧烷可以由(RSiO1.5)n(其中n为4至30，或8至20)表示，并且可以具有多种结构，例如无规型、梯型、笼型、部分笼型等。
然而，为了提高由一个实施方案的可光聚合涂覆组合物制得的低折射率层和抗反射膜的物理特性和品质，可以使用其中取代有一个或更多个反应性官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷作为取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷。
此外，更优选地，其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷在分子中可以包含8至20个硅原子。
此外，具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子可以取代有反应性官能团，此外，未取代有反应性官能团的硅原子可以取代有上述非反应性官能团。
由于具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团，因此可以增强在可光聚合涂覆组合物的光聚合期间形成的涂膜或粘合剂树脂的机械特性。此外，由于剩余的硅原子取代有非反应性官能团，因此发生空间位阻，这显著降低了硅氧烷键(-Si-O-)暴露于外部的频率或可能性，并因此可以增强在可光聚合涂覆组合物的光聚合期间形成的涂膜或粘合剂树脂的耐碱性。
在聚倍半硅氧烷上取代的反应性官能团可以包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃(烯丙基、环烯基、乙烯基二甲基甲硅烷基等)、聚乙二醇、硫醇和乙烯基，并且可以优选为环氧化物或(甲基)丙烯酸酯。
反应性官能团的更具体的实例包括(甲基)丙烯酸酯、具有1至20个碳原子的烷基(甲基)丙烯酸酯、具有3至20个碳原子的环烷基环氧化物和具有1至10个碳原子的烷基环烷烃环氧化物。烷基(甲基)丙烯酸酯意指“烷基”的未与(甲基)丙烯酸酯键合的另一部分为键合位置，环烷基环氧化物意指“环烷基”的未与环氧化物键合的另一部分为键合位置，烷基环烷烃环氧化物意指“烷基”的未与环烷烃环氧化物键合的另一部分为键合位置。
另一方面，除了上述反应性官能团之外，取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷还可以包含选自以下的至少一种非反应性官能团：具有1至20个碳原子的线性或支化烷基、具有6至20个碳原子的环己基和具有6至20个碳原子的芳基。因此，由于聚倍半硅氧烷中的反应性官能团和非反应性官能团为表面取代的，所以取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷中的硅氧烷键(-Si-O-)位于分子内部，而不暴露于外部，从而进一步增强了低折射率层和抗反射膜的耐碱性和耐刮擦性。
其中取代有至少一个反应性官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷(POSS)的实例包括：其中取代有至少一个醇的POSS，例如TMP二醇异丁基POSS、环己二醇异丁基POSS、1,2-丙二醇异丁基POSS、八(3-羟基-3-甲基丁基二甲基甲硅烷氧基)POSS等；其中取代有至少一个胺的POSS，例如氨基丙基异丁基POSS、氨基丙基异辛基POSS、氨基乙基氨基丙基异丁基POSS、N-苯基氨基丙基POSS、N-甲基氨基丙基异丁基POSS、八铵POSS、氨基苯基环己基POSS、氨基苯基异丁基POSS等；其中取代有至少一个羧酸的POSS，例如马来酰胺酸-环己基POSS、马来酰胺酸-异丁基POSS、八马来酰胺酸POSS等；其中取代有至少一个环氧化物的POSS，例如环氧基环己基异丁基POSS、环氧基环己基POSS、缩水甘油基POSS、缩水甘油基乙基POSS、缩水甘油基异丁基POSS、缩水甘油基异辛基POSS等；其中取代有至少一个酰亚胺的POSS，例如POSS马来酰亚胺环己基、POSS马来酰亚胺异丁基等；其中取代有至少一个(甲基)丙烯酸酯的POSS，例如丙烯酰基异丁基POSS、(甲基)丙烯酰基异丁基POSS、(甲基)丙烯酸酯环己基POSS、(甲基)丙烯酸酯异丁基POSS、(甲基)丙烯酸酯乙基POSS、(甲基)丙烯酰基乙基POSS、(甲基)丙烯酸酯异辛基POSS、(甲基)丙烯酰基异辛基POSS、(甲基)丙烯酰基苯基POSS、(甲基)丙烯酰基POSS、丙烯酰基POSS等；其中取代有至少一个腈基的POSS，例如氰基丙基异丁基POSS等；其中取代有至少一个降冰片烯的POSS，例如降冰片烯基乙基乙基POSS、降冰片烯基乙基异丁基POSS、降冰片烯基乙基二硅烷基异丁基POSS、三降冰片烯基异丁基POSS等；其中取代有至少一个乙烯基的POSS，例如烯丙基异丁基POSS、单乙烯基异丁基POSS、八环己烯基二甲基甲硅烷基POSS、八乙烯基二甲基甲硅烷基POSS、八乙烯基POSS等；其中取代有至少一个烯烃的POSS，例如烯丙基异丁基POSS、单乙烯基异丁基POSS、八环己烯基二甲基甲硅烷基POSS、八乙烯基二甲基甲硅烷基POSS、八乙烯基POSS等；其中取代有具有5至30个碳原子的PEG的POSS；或者其中取代有至少一个硫醇基的POSS，例如巯基丙基异丁基POSS、巯基丙基异辛基POSS等。
粘合剂树脂中源自取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分相比于源自可光聚合化合物的部分的重量比可以为0.005至0.50、0.005至0.25，或者0.015至0.19。
当粘合剂树脂中源自取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分相比于源自可光聚合化合物的部分的重量比过小时，可能难以充分地确保低折射率层的耐碱性和耐刮擦性。
此外，当粘合剂树脂中源自取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分相比于源自可光聚合化合物的部分的重量比过大时，低折射率层或抗反射膜的透明度可能降低，并且耐刮擦性可能大幅劣化。
另一方面，形成粘合剂树脂的可光聚合化合物可以包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。具体地，可光聚合化合物可以包括含有一个或更多个、两个或更多个、或者三个或更多个(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。
含有(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物的具体实例可以包括：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三氯乙烯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、丁二醇二甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸六乙酯、甲基丙烯酸丁酯，或者其两者或更多者的混合物；或者经氨基甲酸酯改性的丙烯酸酯低聚物、环氧丙烯酸酯低聚物、醚丙烯酸酯低聚物、树枝状丙烯酸酯低聚物，或者其两者或更多者的混合物。在此，低聚物的分子量优选为1000至10000。
含有乙烯基的单体或低聚物的具体实例包括二乙烯基苯、苯乙烯和对甲基苯乙烯。
粘合剂树脂中源自可光聚合化合物的部分的含量没有特别限制。然而，考虑到最终制造的低折射率层和抗反射膜的机械特性，可光聚合化合物的含量可以为20重量％至80重量％。
此外，如上所述，低折射率层可以包含源自含有光反应性官能团的基于氟的化合物的部分。由于包含了含有光反应性官能团的基于氟的化合物，低折射率层和抗反射膜可以具有较低的反射率和改善的透光率，并且还可以增强耐碱性和耐刮擦性。因此，粘合剂树脂还可以包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物和取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物。
基于氟的化合物可以包含或取代有至少一个光反应性官能团，并且光反应性官能团是指可以通过光照射(例如通过可见光或紫外光照射)参与聚合反应的官能团。光反应性官能团可以包括已知能够通过光照射参与聚合反应的多种官能团。其具体实例可以包括(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基。
含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量可以为1重量％至60重量％。当含有光反应性官能团的基于氟的化合物中的氟含量过小时，氟组分无法充分地排列在低折射率层的表面上，因此可能难以充分地确保物理特性，例如耐碱性。此外，当含有光反应性官能团的基于氟的化合物中的氟含量过大时，低折射率层的表面特性可能降低，或者在用于获得最终产品的随后过程中的缺陷产品的发生率可能增加。同时，当在具有抗反射功能的硬涂层的一个表面上形成低折射率层时，为了使在用于生产抗反射膜的最终应用产品(例如，TV或监视器)的随后过程期间可能发生的由剥离恒定电压引起的问题最小化，低折射率层可以包含氟含量为1重量％至25重量％的含有光反应性官能团的基于氟的化合物。
含有光反应性官能团的基于氟的化合物还可以包含硅或硅化合物。即，含有光反应性官能团的基于氟的化合物可以在其中任选地包含硅或硅化合物，具体地，含有光反应性官能团的基于氟的化合物中的硅含量可以为0.1重量％至20重量％。
包含在含有光反应性官能团的基于氟的化合物中的硅可以通过防止在低折射率层中产生雾化来用于提高透明度。另一方面，如果含有光反应性官能团的基于氟的化合物中硅的含量变得过大，则低折射率层的耐碱性可能降低。
含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量(通过GPC法测量的根据聚苯乙烯的重均分子量)可以为2000至200000。如果含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量过小，则低折射率层可能不具有足够的耐碱性特性。此外，当含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量过大时，低折射率层可能不具有足够的耐久性和耐刮擦性，其他组分与含有光反应性官能团的基于氟的化合物之间的相容性可能降低，并且在低折射率层的生产期间不发生均匀分散，使得最终产品的内部结构和表面特性可能劣化。
具体地，含有光反应性官能团的基于氟的化合物可以包括：i)脂族化合物或脂族环状化合物，其中取代有至少一个光反应性官能团并且至少一个碳上取代有至少一个氟；ii)杂脂族化合物或杂脂族环状化合物，其中取代有至少一个光反应性官能团，至少一个氢被氟取代，并且至少一个碳被硅取代；iii)基于聚二烷基硅氧烷的聚合物(例如，基于聚二甲基硅氧烷的聚合物)，其中取代有至少一个光反应性官能团并且至少一个硅上取代有至少一个氟；或iv)聚醚化合物，其中取代有至少一个光反应性官能团并且至少一个氢被氟取代；或者i)至iv)中的两者或更多者的混合物，或其共聚物。
基于100重量份的可光聚合化合物，低折射率层可以包含1重量份至75重量份的含有光反应性官能团的基于氟的化合物。当含有光反应性官能团的基于氟的化合物相对于可光聚合化合物以过量添加时，低折射率层可能不具有足够的耐久性或耐刮擦性。此外，当含有光反应性官能团的基于氟的化合物相对于可光聚合性化合物的量过小时，低折射率层可能不具有足够的耐碱性。
另一方面，除了上述可光聚合化合物以外，粘合剂树脂还可以包含源自基于氟的基于(甲基)丙烯酸酯的化合物的部分。基于氟的基于(甲基)丙烯酸酯的化合物还可以处于与包含在粘合剂树脂中的任一种或任意多种其他组分交联的状态。
当还包含基于氟的基于(甲基)丙烯酸酯的化合物时，基于氟的基于(甲基)丙烯酸酯的化合物相比于含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物的重量比可以为0.1％至10％。
基于氟的基于(甲基)丙烯酸酯的化合物的具体实例包括选自以下化学式11至15中的至少一种化合物。
[化学式11]
在以上化学式11中，R1为氢基或具有1至6个碳原子的烷基，a为0至7的整数，以及b为1至3的整数。
[化学式12]
在以上化学式12中，c为1至10的整数。
[化学式13]
在以上化学式13中，d为1至11的整数。
[化学式14]
在以上化学式14中，e为1至5的整数。
[化学式15]
在以上化学式15中，f为4至10的整数。
另一方面，无机细颗粒意指具有纳米或微米单位的直径的无机颗粒。
具体地，无机细颗粒可以包括实心无机纳米颗粒和/或中空无机纳米颗粒。
实心无机纳米颗粒意指最大直径为100nm或更小并且具有其中不存在空的空隙的形式的颗粒。
此外，中空无机纳米颗粒意指平均直径为200nm或更小并且具有其中在其表面上和/或内部存在空的空隙的形式的颗粒。
实心无机纳米颗粒的直径可以为0.5nm至100nm，或者1nm至50nm。
中空无机纳米颗粒的直径可以为1nm至200nm，或者10nm至100nm。
同时，实心无机纳米颗粒和中空无机纳米颗粒各自可以在其表面上包含选自(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基中的至少一种反应性官能团。由于实心无机纳米颗粒和中空无机纳米颗粒各自在表面上包含上述反应性官能团，因此低折射率层可以具有较高的交联度，从而确保更加改善的耐刮擦性和防污性。
对于中空无机纳米颗粒，表面涂覆有基于氟的化合物的中空无机纳米颗粒可以单独使用，或者与表面未涂覆有基于氟的化合物的中空无机纳米颗粒组合使用。当中空无机纳米颗粒的表面涂覆有基于氟的化合物时，表面能可以进一步降低，从而可以进一步增加低折射率层的耐久性和耐刮擦性。
作为将基于氟的化合物涂覆在中空无机纳米颗粒表面上的方法，可以没有任何限制地使用常规已知的颗粒涂覆方法、聚合方法等。例如，可以使中空无机纳米颗粒和基于氟的化合物在水和催化剂的存在下经历溶胶-凝胶反应，并由此可以使基于氟的化合物通过水解和缩合反应结合至中空无机纳米颗粒的表面。
中空无机纳米颗粒的具体实例可以包括中空二氧化硅颗粒。中空二氧化硅可以包含取代在其表面上的预定官能团以更容易地分散在有机溶剂中。可以取代在中空二氧化硅颗粒表面上的有机官能团的实例没有特别限制，但是例如(甲基)丙烯酸酯基、乙烯基、羟基、胺基、烯丙基、环氧基、羟基、异氰酸酯基、胺基、氟等可以取代在中空二氧化硅的表面上。
基于100重量份的可光聚合化合物，低折射率层的粘合剂树脂可以包含10重量份至350重量份或者50重量份至300重量份的无机细颗粒。当过量添加无机细颗粒时，涂膜的耐刮擦性和耐磨性可能由于粘合剂含量的降低而劣化。
同时，低折射率层可以通过将包含可光聚合化合物、无机细颗粒和取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的可光聚合涂覆组合物涂覆在预定基底上然后使涂覆产物光聚合来获得。基底的具体类型和厚度没有特别限制，并且可以没有特别限制地使用已知用于生产低折射率层或抗反射膜的基底。
可光聚合涂覆组合物还可以包含含有光反应性官能团的基于氟的化合物。
可光聚合涂覆组合物还可以包含光引发剂。
作为光聚合引发剂，可以没有特别限制地使用已知可用于可光聚合树脂组合物的任何化合物。具体地，可以使用基于二苯甲酮的化合物、基于苯乙酮的化合物、基于非咪唑的化合物、基于三嗪的化合物、基于肟的化合物，或者其两者或更多者的混合物。
基于100重量份的可光聚合化合物，光聚合引发剂可以以1重量份至100重量份的量使用。如果光聚合引发剂的量过小，则在使可光聚合涂覆组合物光聚合的步骤中，引发剂可能保持未固化而产生残留物质。如果光聚合引发剂的量过大，则未反应的引发剂可能作为杂质残留或者交联密度可能降低，因此所得膜的机械特性可能劣化，或者反射率可能大大增加。
此外，可光聚合涂覆组合物还可以包含有机溶剂。
有机溶剂的非限制性实例包括酮、醇、乙酸酯和醚，或者其两者或更多者的混合物。
这样的有机溶剂的具体实例包括：酮，例如甲基乙基酮、甲基异丁基酮、乙酰丙酮或异丁基酮；醇，例如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇或叔丁醇；乙酸酯，例如乙酸乙酯、乙酸异丙酯或聚乙二醇单甲基醚乙酸酯；醚，例如四氢呋喃或丙二醇单甲基醚；或者其两者或更多者的混合物。
有机溶剂可以在使包含于可光聚合涂覆组合物中的各组分混合时添加，或者可以在各组分以分散或混合于有机溶剂中的状态下添加时添加至可光聚合涂覆组合物中。如果可光聚合涂覆组合物中有机溶剂的含量过小，则可光聚合涂覆组合物的流动性可能降低，导致最终生产的膜中的缺陷，例如产生条纹等。此外，如果有机溶剂过量添加，则固体含量降低，并且膜的物理特性和表面特性可能由于不充分的涂覆和成膜而劣化，并且在干燥和固化过程期间可能出现缺陷。因此，可光聚合涂覆组合物可以包含有机溶剂，使得所含组分的总固体浓度变为1重量％至50重量％，或者2重量％至20重量％。
可以没有特别限制地使用通常用于涂覆可光固化涂覆组合物的方法和设备。例如，可以使用棒涂法(如Meyer棒涂法等)、凹版涂覆法、双辊反式涂覆法、真空狭缝模具涂覆法或双辊涂覆法等。
在使可光聚合涂覆组合物光聚合的步骤中，可以照射波长为200nm至400nm的紫外光或可见光，并且暴露量优选为100mJ/cm2至4000mJ/cm2。暴露时间没有特别限制，并且可以根据所使用的暴露设备、照射光的波长或暴露量适当地改变。
此外，在使可光聚合涂覆组合物光聚合的步骤中，可以进行氮气吹扫等以施加氮气气氛条件。
另一方面，作为硬涂层，可以没有任何特别限制地使用本领域中常规已知的硬涂层。作为硬涂膜的一个实例，可以提及包含含有可光聚合树脂的粘合剂树脂和分散在粘合剂树脂中的有机或无机细颗粒的硬涂膜。
包含在硬涂层中的可光聚合树脂是当用光如紫外线照射时可以引起聚合反应的可光聚合化合物的聚合物，并且可以是本领域中通常使用的可光聚合树脂。具体地，可光聚合树脂可以包括选自以下的至少一者：包括氨基甲酸酯丙烯酸酯低聚物、环氧丙烯酸酯低聚物、聚酯丙烯酸酯和聚醚丙烯酸酯的反应性丙烯酸酯低聚物组；以及包括二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇羟基五丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、三亚甲基丙基三丙烯酸酯、丙氧基化甘油三丙烯酸酯、三甲基丙烷乙氧基三丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、丙氧基化甘油三丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯和乙二醇二丙烯酸酯的多官能丙烯酸酯单体组。
有机或无机细颗粒的粒径没有特别限制，但是例如，有机细颗粒的颗粒直径可以为1μm至10μm，以及无机颗粒的颗粒直径可以为1nm至500nm，或1nm至300nm。
此外，包含在硬涂膜中的有机或无机细颗粒的具体实例没有限制，但是例如，有机或无机细颗粒可以为：由基于丙烯酸的树脂、基于苯乙烯的树脂、环氧树脂或尼龙树脂构成的有机细颗粒，或者由氧化硅、二氧化钛、氧化铟、氧化锡、氧化锆或氧化锌构成的无机细颗粒。
硬涂膜的粘合剂树脂还可以包含重均分子量为10000或更大的高分子量(共聚)聚合物。
高分子量(共聚)聚合物可以是选自以下的至少一者：基于纤维素的聚合物、基于丙烯酸的聚合物、基于苯乙烯的聚合物、基于环氧化物的聚合物、基于尼龙的聚合物、基于氨基甲酸酯的聚合物和基于聚烯烃的聚合物。
硬涂膜可以由包含有机或无机细颗粒、可光聚合树脂、光引发剂和重均分子量为10000或更大的高分子量(共聚)聚合物的抗眩光涂覆组合物形成。
作为硬涂膜的另一个实例，可以提及包含可光聚合树脂的粘合剂树脂和分散在粘合剂树脂中的抗静电剂的硬涂膜。
包含在硬涂层中的可光聚合树脂是当用光如紫外线照射时可以引起聚合反应的可光聚合化合物的聚合物，并且可以是本领域中常规使用的可光聚合树脂。然而，优选地，可光聚合化合物可以为基于多官能(甲基)丙烯酸酯的单体或低聚物，其中，(甲基)丙烯酸酯官能团的数量为2至10个，优选2至8个，并且更优选2至7个，这在确保硬涂层的物理特性方面是有利的。更优选地，可光聚合化合物可以为选自以下的至少一者：季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三季戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三氯乙烯二异氰酸酯、二甲苯二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯和三羟甲基丙烷聚乙氧基三(甲基)丙烯酸酯。
抗静电剂可以是季铵盐化合物、导电聚合物，或其混合物。在此，季铵盐化合物可以是分子中具有至少一个季铵盐基团的化合物，并且可以没有限制地使用低分子量形式或高分子量形式。此外，对于导电聚合物，可以没有限制地使用低分子量形式或高分子量形式，并且其类型没有特别限制，只要其可以是本发明所属技术领域中常规使用的导电聚合物即可。
包含可光聚合树脂的粘合剂树脂和分散在粘合剂树脂中的抗静电剂的硬涂膜还可以包含选自基于烷氧基硅烷的低聚物和基于金属醇盐的低聚物中的至少一种化合物。
基于烷氧基硅烷的化合物可以是本领域中常规使用的基于烷氧基硅烷的化合物，但优选地包括选自以下的至少一种化合物：四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷和缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷。
此外，基于金属醇盐的低聚物可以通过包含基于金属醇盐的化合物和水的组合物的溶胶-凝胶反应来制备。溶胶-凝胶反应可以通过与上述用于制备基于烷氧基硅烷的低聚物的方法类似的方法来进行。
然而，由于基于金属醇盐的化合物可以迅速与水反应，因此溶胶-凝胶反应通过将基于金属醇盐的化合物在有机溶剂中稀释然后缓慢向其中滴加水来进行。在这种情况下，考虑到反应效率等，优选的是将金属醇盐化合物相对于水的摩尔比(基于金属离子)调整在3至170的范围内。
在此，基于金属醇盐的化合物可以是选自四异丙醇钛、异丙醇锆和异丙醇铝中的至少一种化合物。
另一方面，抗反射膜还可以包括结合至硬涂层的另一表面的基底。基底可以是透光率为90％或更大且雾度为1％或更小的透明膜。基底的材料可以是三乙酰基纤维素、环烯烃聚合物、聚丙烯酸酯、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯等。此外，考虑到生产率等，基底膜的厚度可以为10μm至300μm。然而，本发明不限于此。
有益效果
根据本发明，可以提供：能够提供在具有低反射率和高透光率时还同时实现高耐碱性和耐刮擦性的低折射率层的可光聚合涂覆组合物；由可光聚合涂覆组合物获得的低折射率层；以及在提高显示装置的屏幕清晰度的同时能够表现出优异的机械特性的抗反射膜。
在低折射率层的情况下，由于即使当暴露于碱时也不会大大降低外观特性如反射率和透光率，或者机械特性如耐磨性和耐刮擦性，因此可以省略施加用于保护外表面的附加保护膜的过程，并因此可以简化生产过程并且可以降低生产成本。
具体实施方式
将通过实施例的方式更详细地描述本发明。然而，以下实施例仅用于说明性目的，并且不旨在将本发明的范围限制于此。
<制备例>
制备例1：硬涂膜1(HD1)的制备
将13g季戊四醇三丙烯酸酯、10g基于氨基甲酸酯的丙烯酰基低聚物(306I，KYOEISHA Chemical)、10g基于氨基甲酸酯的丙烯酰基低聚物(306T，KYOEISHA Chemical)、20g异丙醇、2g光引发剂(Irgacure 184，Ciba)和0.5g流平剂(BYK 300)均匀地混合，然后向其中添加2.3g折射率为1.555的丙烯酸-苯乙烯共聚物树脂细颗粒(Techpolymer，体积平均粒径：3μm，制造商：Sekisui Plastic)和0.01g纳米二氧化硅分散液(体积平均粒径：约12nm，Optisol-LSM，Lancosa)以制备硬涂覆组合物。
用#10Mayer棒将由此获得的硬涂覆组合物涂覆在三乙酰基纤维素膜上，并在90℃下干燥1分钟。向干燥产物上照射150mJ/cm2的紫外线以制备厚度为6μm的硬涂膜。
制备例2：硬涂膜2(HD2)的制备
将13g季戊四醇三丙烯酸酯、10g基于氨基甲酸酯的丙烯酰基低聚物(306I，KYOEISHA Chemical)、10g可光聚合的基于氨基甲酸酯的丙烯酰基低聚物(MW 250000，Daesung Chemical，8BR-500)、20g异丙醇、2g光引发剂(Irgacure 184，Ciba)和0.5g流平剂(BYK 300)均匀地混合，然后向其中添加1.3g折射率为1.555的丙烯酸-苯乙烯共聚物树脂细颗粒(Techpolymer，体积平均粒径：2μm，制造商：Sekisui Plastic)、1.3g折射率为1.525的丙烯酸-苯乙烯共聚物树脂细颗粒(Techpolymer，体积平均粒径：2μm，制造商：SekisuiPlastic)和0.03g纳米二氧化硅分散液(体积平均粒径：约12nm，Optisol-LSM，Lancosa)以制备硬涂覆组合物。
用#10Mayer棒将由此获得的硬涂覆组合物涂覆在三乙酰基纤维素膜上，并在90℃下干燥1分钟。向干燥产物上照射150mJ/cm2的紫外线以制备厚度为6μm的硬涂膜。
制备例3：硬涂膜3(HD3)的制备
将13g季戊四醇三丙烯酸酯、10g基于氨基甲酸酯的丙烯酰基低聚物(306I，KYOEISHA Chemical)、10g可光聚合的基于氨基甲酸酯的丙烯酰基低聚物(MW 250000，Daesung Chemical，8BR-500)、20g异丙醇、2g光引发剂(Irgacure 184，Ciba)和0.5g流平剂(BYK 300)均匀地混合，然后向其中添加1.0g折射率为1.555的丙烯酸-苯乙烯共聚物树脂细颗粒(Techpolymer，体积平均粒径：2μm，制造商：Sekisui Plastic)、0.3g折射率为1.60的交联苯乙烯树脂球形颗粒(Techpolymer，体积平均粒径：3.5μm，制造商：SekisuiPlastic)和0.03g纳米二氧化硅分散液(体积平均粒径：约100nm，X24-9600A，Shin-Etsu)以制备硬涂覆组合物。
用#10Mayer棒将由此获得的硬涂覆组合物涂覆在三乙酰基纤维素膜上，并在90℃下干燥1分钟。向干燥产物上照射150mJ/cm2的紫外线以制备厚度为6μm的硬涂膜。
制备例4：硬涂膜4(HD4)的制备
将30g季戊四醇三丙烯酸酯、2.5g高分子量共聚物(BEAMSET 371，ArakawaChemical Industries,Ltd.，环氧丙烯酸酯，分子量40000)、20g甲基乙基酮、2g光引发剂(Irgacure 184，Ciba)和0.5g流平剂(Tego wet270)均匀地混合，然后向其中添加2g折射率为1.544的丙烯酸-苯乙烯共聚物树脂细颗粒(Techpolymer，体积平均粒径：2μm，制造商：Sekisui Plastic)以制备硬涂覆组合物。
用#10Mayer棒将由此获得的硬涂覆组合物涂覆在三乙酰基纤维素膜上，并在90℃下干燥1分钟。向干燥产物上照射150mJ/cm2的紫外线以制备厚度为6μm的硬涂膜。
制备例5：硬涂膜5(HD5)的制备
将15g季戊四醇三丙烯酸酯、10g基于氨基甲酸酯的丙烯酰基低聚物(306I，KYOEISHA Chemical)、30g甲基乙基酮、30g甲苯、2g光引发剂(Irgacure 184，Ciba)和0.5g流平剂(Tego 410)均匀地混合，然后向其中添加1g折射率为1.59的交联苯乙烯树脂球形颗粒(体积平均粒径：3.5μm，SX系列，Soken)和1g折射率为1.525的丙烯酸-苯乙烯共聚物树脂细颗粒(Techpolymer，体积平均粒径：约3μm，制造商：Sekisui Plastic)以制备硬涂覆组合物。
用#10Mayer棒将由此获得的硬涂覆组合物涂覆在三乙酰基纤维素膜上，并在90℃下干燥1分钟。向干燥产物上照射150mJ/cm2的紫外线以制备厚度为6μm的硬涂膜。
制备例6：硬涂膜6(HD6)的制备
将30g季戊四醇三丙烯酸酯、2.5g高分子量共聚物(BEAMSET 371，ArakawaChemical Industries,Ltd.，环氧丙烯酸酯，分子量40000)、2g光引发剂(Irgacure 184，Ciba)、20g甲基乙基酮和0.5g流平剂(Tego wet 270)均匀地混合，然后向其中添加2g折射率为1.525的丙烯酸-苯乙烯共聚物树脂细颗粒(体积平均粒径：2μm，制造商：SekisuiPlastic)和0.1g纳米二氧化硅分散液(体积平均粒径：12nm，Optisol-LSM，Lancosa)以制备硬涂覆组合物。
用#10Mayer棒将由此获得的硬涂覆组合物涂覆在三乙酰基纤维素膜上，并在90℃下干燥1分钟。向干燥产物上照射150mJ/cm2的紫外线以制备厚度为4μm的硬涂膜。
<实施例和比较例：抗反射膜的制备>
(1)用于制备低折射率层的可光聚合涂覆组合物的制备
将下表1中所示的组分混合，并在MIBK(甲基异丁基酮)和二丙酮醇(DAA)以1:1的重量比混合的溶剂中稀释，使得固体含量变为3重量％。
[表1]
1)THRULYA 4320(由Catalysts and Chemicals Ltd.制造)：中空二氧化硅分散液(在MIBK溶剂中固体含量为20重量％)
2)RS907(由DIC制造)：含有光反应性官能团并含有痕量硅的基于氟的化合物，在MIBK溶剂中稀释至固体含量为30重量％
3)MA0701：由Hybrid Plastics制造
4)AC-SQ-F：由Toagosei Co.,Ltd.制造(倍半硅氧烷树脂，官能团浓度678g/mol，无机部分15％，折射率1.39)
(2)低折射率层和抗反射膜的制备
用#3Mayer棒将从表1各自获得的可光聚合涂覆组合物涂覆在下表2中描述的硬涂膜上，并在60℃下干燥1分钟。然后，在氮气吹扫下向干燥产物上照射180mJ/cm2的紫外线，以形成厚度为110nm的低折射率层，从而产生抗反射膜。
<实验例：抗反射膜的物理特性的测量>
对于实施例和比较例中获得的抗反射膜，进行以下项目的实验。
1.碱预处理
将实施例和比较例中获得的抗反射膜分别浸渍在55℃的用蒸馏水稀释至10％的NaOH水溶液中达30秒，通过倒入水进行洗涤，随后擦去水分。
2.平均反射率和色坐标值(b*)的测量
对于以上实施例和比较例中获得的抗反射膜，在预处理之前和之后使膜的背面经历暗化过程，然后通过应用Solidspec 3700(SHIMADZU)的100T模式测量380nm至780nm的波长区域内的平均反射率和色坐标值(b*)。
在色坐标值(b*)的情况下，通过UV-2401PC程序转换所获得的平均反射率数据。
3.耐刮擦性的测量
在预处理之前和之后，在向钢丝绒(#0000)施加负荷的同时，对实施例和比较例中获得的抗反射膜的表面进行擦拭，并使其以27rpm的速度往复运动十次。通过确定用肉眼观察到的1cm或更小的划痕为1或更少时的最大负荷来评估耐刮擦性。
4.表面粗糙度的测量
使用白光干涉3D光学轮廓仪(型号名称：NewView 7300，Zygo)测量实施例和比较例中各自获得的抗反射膜的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度。此时，在所使用的镜头的放大倍数为10倍(10x)和1倍(1x)的变焦测量条件下测量3.00×0.52mm2的面积。
具体地，将待测量的抗反射膜以平坦的状态放置在样品台上，由光学轮廓仪获得图像，并进行测量。此时，通过将横向长度设定为3mm来进行测量，从由所获得的图像获得2至3个线轮廓，并计算10点平均粗糙度。
5.雾度测量
对于实施例和比较例中各自获得的抗反射膜，根据JIS K7105使用HAZEMETER HM-150设备(由Murakami Color Research Laboratory制造)在三个位置处测量雾度，并确定平均值。
(1)总雾度(Ha)：表面雾度(Hs)+内部雾度(Hi)
(2)参照抗反射膜自身的雾度来测量总雾度。
(3)内部雾度：在经碱处理的抗反射膜的表面上以8μm涂覆平坦化层，并测量整个膜的雾度。
(4)碱处理：将实施例和比较例中获得的抗反射膜分别浸渍在30℃的用蒸馏水稀释至10％的NaOH水溶液中2分钟，通过倒入水进行洗涤，随后擦去水分。然后，将它们在50℃的烘箱中干燥1分钟。
(5)平坦化层涂覆：将季戊四醇三丙烯酸酯和Ebecryl 220(SK Cytec的低聚物)以6:1的重量比混合，在甲基乙基酮和甲苯以2:1(重量比)混合的溶剂中稀释，使得固体含量变为60重量％，使用丝棒涂覆8μm的干膜厚度，干燥并固化，然后使表面的不规则处平坦化。
6.清晰度测量
使用来自Suga Test Instruments的ICM-1T测量图像的清晰度。结合来自0.125mm的狭缝的清晰度值和来自0.125mm、0.5mm、1.0mm和2.0mm的狭缝的清晰度值来进行清晰度的比较。
[表2]
如以上表2所示，确定实施例的抗反射膜表现出相对低的平均反射率，并且在碱处理之后的色坐标变化不是很大，此外，与比较例相比，其具有优异的耐刮擦性。
具体地，包括在抗反射膜中的低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)为0.05μm至0.2μm，抗反射膜在碱预处理之后的色坐标值(b*)的变化在0.25至0.45的范围内。此外，确定抗反射膜的总雾度为3％或更小并且内部雾度为2.7％或更小，并且内部雾度(Hi)相对于总雾度(Ha)的比率为97％或更小。
另一方面，由清晰度的结果，随着来自狭缝的值越高，图像越清晰。作为抗反射膜的清晰度测量的结果，当来自狭缝0.125mm的清晰度为80％或更大，并且除0.25mm狭缝值以外的清晰度值的总和为350％或更大时，其可以应用于高分辨率显示。如表2所示，实施例的抗反射膜示出，来自0.125mm的狭缝的清晰度和清晰度的总和满足上述范围。
相反，确定比较例的抗反射膜表现出相对高的色坐标值变化或在碱处理之后具有低的耐刮擦性。此外，确定比较例的抗反射膜表现出相对高的总雾度(Ha)和内部雾度(Hi)值，以及来自0.125mm狭缝的相对低的清晰度，因此表现出相对低的透光率和差的光学特性。

Claims (19)

1.一种抗反射膜，包括：低折射率层，所述低折射率层包含含有可光聚合化合物与取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物的粘合剂树脂，和分散在所述粘合剂树脂中的无机细颗粒；以及硬涂层；
其中所述低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)为0.05μm至0.2μm。
2.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述抗反射膜的总雾度为5％或更小，并且
所述抗反射膜的内部雾度(Hi)相对于总雾度(Ha)的比率为97％或更小。
3.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述抗反射膜在预定的碱处理之前至之后的色坐标值(b*)的变化为0.7或更小。
4.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述低折射率层的表面上的不规则形状的10点平均粗糙度(Rz)是使用3D光学轮廓仪的非接触表面测量系统测得的结果。
5.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
在包含于所述低折射率层中的所述粘合剂树脂中，源自所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的部分相对于源自所述可光聚合化合物的部分的重量比为0.005至0.50。
6.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
在所述聚倍半硅氧烷上取代的所述反应性官能团包括选自以下的至少一种官能团：醇、胺、羧酸、环氧化物、酰亚胺、(甲基)丙烯酸酯、腈、降冰片烯、烯烃、聚乙二醇、硫醇和乙烯基。
7.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷包括其中取代有一个或更多个官能团的具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷。
8.根据权利要求7所述的抗反射膜，其中
所述具有笼结构的多面体低聚倍半硅氧烷的至少一个硅原子取代有反应性官能团，并且其中未取代有反应性官能团的硅原子取代有非反应性官能团。
9.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述可光聚合化合物包括含有(甲基)丙烯酸酯或乙烯基的单体或低聚物。
10.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述粘合剂树脂还包含可光聚合化合物、含有光反应性官能团的基于氟的化合物和取代有一个或更多个反应性官能团的聚倍半硅氧烷的交联聚合物。
11.根据权利要求10所述的抗反射膜，其中
包含在所述基于氟的化合物中的所述光反应性官能团为选自以下的至少一者：(甲基)丙烯酸酯基、环氧基、乙烯基和硫醇基。
12.根据权利要求10所述的抗反射膜，其中
所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的氟含量为1重量％至60重量％。
13.根据权利要求10所述的抗反射膜，其中
所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物包括选自以下的至少一者：i)脂族化合物或脂族环状化合物，其中取代有至少一个光反应性官能团并且至少一个碳上取代有至少一个氟；ii)杂脂族化合物或杂脂族环状化合物，其中取代有至少一个光反应性官能团，至少一个氢被氟取代，并且至少一个碳被硅取代；iii)基于聚二烷基硅氧烷的聚合物，其中取代有至少一个光反应性官能团并且至少一个硅上取代有至少一个氟；和iv)聚醚化合物，其中取代有至少一个光反应性官能团并且至少一个氢被氟取代。
14.根据权利要求10所述的抗反射膜，其中
所述含有光反应性官能团的基于氟的化合物的重均分子量为2000至200000。
15.根据权利要求1所述的抗反射膜，
其中所述无机细颗粒包括选自以下的至少一者：直径为0.5nm至100nm的实心无机纳米颗粒和直径为1nm至200nm的中空无机纳米颗粒。
16.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述低折射率层的厚度为1nm至200nm，以及所述硬涂层的厚度为0.1μm至100μm。
17.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述硬涂膜包含含有可光聚合树脂的粘合剂树脂和分散在所述粘合剂树脂中的有机细颗粒或无机细颗粒。
18.根据权利要求17所述的抗反射膜，其中
所述硬涂层的所述粘合剂树脂还包含重均分子量为10000或更大的高分子量(共聚)聚合物。
19.根据权利要求1所述的抗反射膜，其中
所述抗反射膜在380nm至780nm的可见光波长波段区域中的平均反射率为2.5％或更小。
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