CN108406619A - 抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明提供抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺,涉及抛光盘技术领域,该抛光盘由沥青、石蜡、微晶蜡、松香、多孔膨胀珍珠岩、二氧化硅、磨料、水合硅酸镁和石油脂为原料制成,该抛光盘的制备工艺包括沥青的萃取、固相原料的粉碎、搅拌混合、浇注固化、冷却脱模等过程,本发明的抛光盘材料本身表面质量高,无气孔,无杂质,且价格低廉,该抛光盘制品除了具有传统的抛光盘散热性能外,还具有良好的抗氧化性和耐磨性。
Description
技术领域
本发明涉及抛光盘技术领域,具体涉及抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺。
背景技术
抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。传统的化学机械抛光利用抛光垫来传输和均匀分布抛光液,利用抛光液的成分和被抛光材料表面发生化学反应产生比较容易去除的物质,以及抛光颗粒和被抛光表面发生物理摩擦,达到抛光的目的。
由于金刚石是自然界中最硬的物质,化学惰性较强,所以是公认的难加工材料之一。但是,也正是因为金刚石具有独特的物理化学性质,所以它所制备的刀具在精密和超精密加工领域充当着不可替代的角色;另外,目前市场上所生产的抛光盘内部气孔分布不均匀,磨粒硬度高,许多远高于玻璃制品的硬度,在抛光过程中特别容易划伤玻璃表面。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明提供了抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺,使得抛光机用抛光盘除了具有传统的抛光盘散热性能外,还具有良好的抗氧化性和耐磨性。
为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:
抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,由以下重量份数的原料制成:
沥青80-100份、石蜡3-9份、微晶蜡3-8份、松香6-18份、多孔膨胀珍珠岩1-3份、二氧化硅1.5-4.5份、磨料2-7份、水合硅酸镁1-3份、石油脂2-4份。
优选地,所述抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,由以下重量份数的原料制成:沥青90、石蜡6份、微晶蜡5份、松香12份、多孔膨胀珍珠岩2份、二氧化硅3份、磨料4份、水合硅酸镁2份、石油脂3份。
优选地,所述石蜡和松香的质量比为1:2。
优选地,所述石蜡和多孔膨胀珍珠岩质量比为3:1。
优选地,所述石蜡和二氧化硅的质量比为2:1。
优选地,所述磨料为金刚石、碳化硅、碳化硼、氧化镁、氧化铝、氧化锆、氧化铁和氧化铈中的一种或几种,所述磨料的粒径为0.05-3um。
上述抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘的制备工艺,包括以下步骤:
(1)将沥青进行预先萃取6-8次,制得高纯度沥青;
(2)将石蜡、微晶蜡、松香、珍珠岩、二氧化硅、磨料、水合硅酸镁和石油脂分别研磨过筛后并混合均匀,制得固相混合物;
(3)将高纯度沥青置于搅拌机内,在70-90℃的温度下加热,待其融化后加入固相混合物,在搅拌的作用下混合均匀,即得沥青抛光液;
(4)将沥青抛光液注入预热至40-50℃的模具中,然后进行分阶段固化,其中:60℃固化2-4h,80℃固化2-4h,100℃固化2-4h,之后自然冷却至室温,脱模,即得到抛光盘。
有益效果:
本发明提供了抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘及其制备工艺,在石蜡中添加适量的微晶蜡能改变普通石蜡的晶型,改善石蜡的抗水性和渗透性,增加石蜡的抗弯强度,进而提高制品的塑性和挠性;石蜡和松香通过科学的配比,可以明显减少吸水厚度膨胀率,增加制品的弹性模量;多孔膨胀珍珠岩可以吸附熔融的石蜡上,可提高制品的熔点,进而提高制品的耐热性和耐氧化性。
本发明的抛光盘材料本身表面质量高,无气孔,无杂质,且价格低廉,该抛光盘制品除了具有传统的抛光盘散热性能外,还具有良好的抗氧化性和耐磨性。
具体实施方式
为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
实施例1:
抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,由以下重量份数的原料制成:
沥青80份、石蜡3份、微晶蜡3份、松香6份、多孔膨胀珍珠岩1份、二氧化硅1.5份、磨料2份、水合硅酸镁3份、石油脂4份。
其中,磨料为金刚石、碳化硼、氧化铝、氧化铁和氧化铈的混合物,磨料的粒径为0.05um。
实施例2:
抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,由以下重量份数的原料制成:
沥青100份、石蜡9份、微晶蜡8份、松香18份、多孔膨胀珍珠岩3份、二氧化硅4.5份、磨料7份、水合硅酸镁1份、石油脂2份。
其中,磨料为碳化硅、氧化镁和氧化锆的混合物,磨料的粒径为3μm。
实施例3:
抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,由以下重量份数的原料制成:
沥青90、石蜡6份、微晶蜡5份、松香12份、多孔膨胀珍珠岩2份、二氧化硅3份、磨料4份、水合硅酸镁2份、石油脂3份。
其中,磨料为金刚石、碳化硅、碳化硼、氧化镁、氧化铁和氧化铈中的混合物,磨料的粒径为1um。
实施例4:
抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,由以下重量份数的原料制成:
沥青95份、石蜡9份、微晶蜡4份、松香18份、多孔膨胀珍珠岩3份、二氧化硅4.5份、磨料6份、水合硅酸镁1.5份、石油脂3.5份。
其中,磨料为金刚石、碳化硼、氧化镁、氧化锆、氧化铁和氧化铈的混合物,所述磨料的粒径为2um。
上述实施例1-4抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘的制备工艺,包括以下步骤:
(1)将沥青进行预先萃取6-8次,制得高纯度沥青;
(2)将石蜡、微晶蜡、松香、珍珠岩、二氧化硅、磨料、水合硅酸镁和石油脂分别研磨过筛后并混合均匀,制得固相混合物;
(3)将高纯度沥青置于搅拌机内,在70-90℃的温度下加热,待其融化后加入固相混合物,在搅拌的作用下混合均匀,即得沥青抛光液;
(4)将沥青抛光液注入预热至40-50℃的模具中,然后进行分阶段固化,其中:60℃固化2-4h,80℃固化2-4h,100℃固化2-4h,之后自然冷却至室温,脱模,即得到抛光盘。
性能测试:
对由实施例1-4生产的抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘进行性能测试,并将从市场上选取的一种现有的抛光机用抛光盘作为对比,性能测试结果如表1:
表1测试结果
综上,本发明实施例具有如下有益效果:由实施例1-4生产的抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘使用时间都在90h以上,材料表面粗糙度均小于40nm,通过对比发现,本发明的抛光盘粗糙度小,无划痕和炸纹,抗氧化性、耐腐蚀性好,耐磨性高,延展性好,利用率高,且加工成本低。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下,由语句“包括一个……”限定的要素,并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换;而这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本发明各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (7)
1.抗氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,其特征在于,由以下重量份数的原料制成:沥青80-100份、石蜡3-9份、微晶蜡3-8份、松香6-18份、多孔膨胀珍珠岩1-3份、二氧化硅1.5-4.5份、磨料2-7份、水合硅酸镁1-3份、石油脂2-4份。
2.如权利要求1所述的氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,其特征在于,由以下重量份数的原料制成:沥青90、石蜡6份、微晶蜡5份、松香12份、多孔膨胀珍珠岩2份、二氧化硅3份、磨料4份、水合硅酸镁2份、石油脂3份。
3.如权利要求1所述的氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,其特征在于,所述石蜡和松香的质量比为1:2。
4.如权利要求1所述的氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,其特征在于,所述石蜡和多孔膨胀珍珠岩质量比为3:1。
5.如权利要求1所述的氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,其特征在于,所述石蜡和二氧化硅的质量比为2:1。
6.如权利要求1所述的氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘,其特征在于,所述磨料为金刚石、碳化硅、碳化硼、氧化镁、氧化铝、氧化锆、氧化铁和氧化铈中的一种或几种,所述磨料的粒径为0.05-3um。
7.如权利要求1所述的氧化耐磨性能好的抛光机用抛光盘的制备工艺,包括以下步骤:
(1)将沥青进行预先萃取6-8次,制得高纯度沥青;
(2)将石蜡、微晶蜡、松香、珍珠岩、二氧化硅、磨料、水合硅酸镁和石油脂分别研磨过筛后并混合均匀,制得固相混合物;
(3)将高纯度沥青置于搅拌机内,在70-90℃的温度下加热,待其融化后加入固相混合物,在搅拌的作用下混合均匀,即得沥青抛光液;
(4)将沥青抛光液注入预热至40-50℃的模具中,然后进行分阶段固化,其中:60℃固化2-4h,80℃固化2-4h,100℃固化2-4h,之后自然冷却至室温,脱模,即得到抛光盘。
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