CN108367540A - 光透过性层叠体及光透过性层叠体的制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性的光透过性层叠体及其制造方法。一种光透过性层叠体10，其依序具有金属薄膜层16、折射率高于金属薄膜层16的高折射率薄膜层14、光透过性基板12，高折射率薄膜层14含有高折射率聚合物及流平剂，高折射率聚合物具有包含选自N、O、S中的至少一种元素的官能基，流平剂的含量相对于高折射率聚合物100质量份而为0.20质量份～20.32质量份的范围内。

Description

光透过性层叠体及光透过性层叠体的制造方法
技术领域
本发明涉及一种光透过性层叠体及光透过性层叠体的制造方法，更详细而言涉及一种隔热性或绝热性优异的光透过性层叠体及光透过性层叠体的制造方法。
背景技术
有时在大厦·住宅等建筑物的窗玻璃或汽车等车辆的窗玻璃等中出于遮蔽日照的目的而施工有具有隔热性的光透过性层叠膜(光透过性层叠体)。且提出有形成有机薄膜作为光透过性层叠体的高折射率薄膜。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：国际公开2014/208745
发明内容
发明所要解决的课题
在减少制造成本时要求高折射率薄膜的短时间成膜。在通过利用涂敷的短时间成膜而形成纳米级的高折射率薄膜的情况下，薄膜表面的凹凸变大，光透过性下降。若在此处例如添加流平剂，则与金属薄膜的接着性下降。
本发明所要解决的课题在于提供一种即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性的光透过性层叠体及其制造方法。
解决课题的技术手段
为了解决所述课题，本发明的光透过性层叠体的主旨在于：依序具有金属薄膜层、折射率高于所述金属薄膜层的高折射率薄膜层、光透过性基板，所述高折射率薄膜层含有高折射率聚合物及流平剂，高折射率聚合物具有包含选自N、O、S中的至少一种元素的官能基，所述流平剂的含量相对于所述高折射率薄膜层的聚合物100质量份而为0.20质量份～20.32质量份的范围内。
所述金属薄膜层优选为包含银或银合金。优选为在所述金属薄膜层与所述高折射率薄膜层之间配置有包含金属或金属氧化物的阻挡薄膜。所述高折射率薄膜层优选为进而含有交联聚合物。所述流平剂优选为包含氟系化合物。所述光透过性基板优选为包含聚烯烃膜。所述阻挡薄膜优选为包含钛或钛氧化物。所述高折射率聚合物优选为具有三嗪环的聚合体。
而且，本发明的光透过性层叠体的制造方法为所述记载的光透过性层叠体的制造方法，其主旨在于具有：在所述光透过性基板上形成所述高折射率薄膜层的步骤；以及在该高折射率薄膜层上形成所述金属薄膜层的步骤；所述高折射率薄膜层是将包含所述高折射率聚合物、所述流平剂及溶媒的涂敷液涂敷至所述光透过性基板上后，去除所述溶媒而形成。
所述溶媒优选为包含所述高折射率聚合物的良溶媒与沸点120℃以下的低沸点溶媒。所述低沸点溶媒优选为所述高折射率聚合物的不良溶媒。所述良溶媒与所述低沸点溶媒的混合比例优选为以质量比计为良溶媒/低沸点溶媒＝50/50～80/20。优选为所述涂敷液进而包含交联性化合物，在形成所述高折射率薄膜层的步骤中对该交联性化合物进行交联。所述交联性化合物优选为通过光交联而进行交联。
发明的效果
根据本发明的光透过性层叠体，高折射率薄膜层含有所述高折射率聚合物及流平剂，流平剂的含量为特定范围，因此即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性。
若金属薄膜层包含银或银合金，则与包含有机薄膜的高折射率薄膜层的接着性优异。另外，光透过性、日照遮蔽性、热射线反射性优异。若在金属薄膜层与高折射率薄膜层之间配置有包含金属或金属氧化物的阻挡薄膜，则抑制流平剂的移行，由此可抑制金属薄膜层与高折射率薄膜层的接着性下降。若高折射率薄膜层进而含有交联聚合物，则抑制流平剂的移行，由此可抑制金属薄膜层与高折射率薄膜层的接着性下降。若流平剂包含氟系化合物，则可将薄膜表面的凹凸控制得更小。若光透过性基板包含聚烯烃膜，则进一步提高绝热性。若阻挡薄膜包含钛或钛氧化物，则缜密且抑制流平剂的移行的效果特别优异。若高折射率聚合物为具有三嗪环的聚合体，则有机薄膜的折射率高，光透过性层叠体的光透过性优异。
而且，根据本发明的光透过性层叠体的制造方法，为所述记载的光透过性层叠体的制造方法，将包含高折射率聚合物、流平剂及溶媒的涂敷液涂敷至光透过性基板上后，去除溶媒而形成高折射率薄膜层，因此即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性。
若溶媒包含高折射率聚合物的良溶媒与沸点120℃以下的低沸点溶媒，则也可在耐热性低的光透过性基板上厚度精度良好地成膜。若良溶媒与低沸点溶媒的混合比例为特定范围，则储存稳定性及在耐热性低的光透过性基板上的成膜性优异。若涂敷液进而包含交联性化合物，在形成高折射率薄膜层的步骤中对交联性化合物进行交联，则抑制流平剂的移行，由此可抑制金属薄膜层与高折射率薄膜层的接着性下降。若通过光交联而对交联性化合物进行交联，则也可适用于耐热性低的光透过性基板上。
附图说明
图1是本发明的第一实施方式的光透过性层叠体的剖面图。
图2是本发明的第二实施方式的光透过性层叠体的剖面图。
图3是第一实施方式的光透过性层叠体的变形例的剖面图。
图4是第二实施方式的光透过性层叠体的变形例的剖面图。
图5是第一实施方式的光透过性层叠体的变形例的剖面图。
具体实施方式
对本发明的光透过性层叠体进行详细说明。图1是本发明的第一实施方式的光透过性层叠体的剖面图。
光透过性层叠体10依序具有金属薄膜层16、高折射率薄膜层14、光透过性基板12。高折射率薄膜层14相接并设于光透过性基板12的其中一面上。金属薄膜层16与高折射率薄膜层14相接而设置。在金属薄膜层16的面上进而相接并设有高折射率薄膜层18。
光透过性基板12是作为用以形成高折射率薄膜层14或金属薄膜层16等薄膜层的基底的基材。作为光透过性基板12的材料，只要为具有光透过性、可在其表面无阻碍地形成薄膜且具有柔软性者，则并无特别限定。例如可列举光透过性高分子膜或柔性玻璃等。此处所谓的光透过性，是指波长范围360nm～830nm下的透过率的值为50％以上。
作为光透过性高分子膜的材料，具体可列举：聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-α烯烃共聚物、环烯烃聚合物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚苯乙烯、聚酰胺、聚对苯二甲酸丁二酯、聚醚醚酮、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、三乙酰纤维素、聚氨基甲酸酯等高分子材料。这些可单独使用，也可将两种以上组合而使用。这些中，就透明性、耐久性、加工性优异等观点而言，可列举聚对苯二甲酸乙二酯、聚碳酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚乙烯、聚丙烯、乙烯-α烯烃共聚物、环烯烃聚合物作为优选的材料。另外，可列举聚乙烯、聚丙烯、乙烯-α烯烃共聚物、环烯烃聚合物等聚烯烃(链状聚烯烃、环状聚烯烃)作为更优选的材料。
聚烯烃不具有如聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene Terephthalate，PET)般的官能基，因此膜自身的红外线的吸收变小。如此，难以吸收室内所产生的采暖热等，进一步提高绝热性。另外，聚烯烃膜的柔软性优异，因此优选为适用于要求柔软性的用途中。另外，与PET膜相比，聚烯烃膜的成本减少。膜为薄膜状者，一般为厚度200μm以下或250μm以下者。只要为具有卷成卷状的程度的柔软性者即可，若为此种膜，则也可为200μm以上或250μm以上的厚的膜。膜一般是作为卷状物而供出。
就光透过性、耐久性、加工性等观点而言，聚烯烃优选为聚丙烯。特别是就光透过性等观点而言，优选为双轴延伸聚丙烯(Oriented PolyPropylene，OPP)。双轴延伸聚丙烯在聚烯烃膜中就较柔软的方面而言优选。
聚烯烃膜也可在其一表面或两表面施加表面处理。作为表面处理，可列举电晕处理、等离子体处理等。通过表面处理而在聚烯烃膜的表面形成羟基或氧基等，并提高与和聚烯烃膜相接的层的接着性。
就光透过性层叠体10的施工时的再剥离性等观点而言，光透过性高分子膜的厚度优选为10μm以上。更优选为15μm以上，进而优选为20μm以上。另外，就通过辊对辊的生产性优异等观点而言，优选为100μm以下。更优选为50μm以下。
金属薄膜层16包含容易反射远红外线的金属，可作为日照遮蔽层发挥功能。作为金属薄膜层16的金属，可列举：银、银合金、铝、铝合金、铁、铁合金等。这些可作为金属薄膜层16的金属来单独使用一种，也可将两种以上组合而使用。这些中，就光透过性、日照遮蔽性、热射线反射性优异等观点而言，更优选为银、银合金。而且，就相对于热、光、水蒸气等环境的耐久性提高等观点而言，进而优选为银合金。作为银合金，可为将银作为主成分且包含至少一种以上的铜、铋、金、钯、铂、钛等金属元素的银合金。进而优选可为含铜的银合金(Ag-Cu系合金)、含铋的银合金(Ag-Bi系合金)、含钛的银合金(Ag-Ti系合金)等。
就稳定性、日照遮蔽性等观点而言，金属薄膜层16的膜厚优选为3nm以上，更优选为4nm以上，进而优选为5nm以上。另外，就光透过性、经济性等观点而言，优选为30nm以下，更优选为20nm以下，进而优选为15nm以下。
高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18通过与金属薄膜层16一起进行层叠，可发挥提高光透过性等功能。高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18具有高于金属薄膜层16的折射率。折射率是指相对于633nm的光的折射率。高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的折射率优选为1.6以上。更优选为1.7以上。
高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18包含有机薄膜。如金属氧化物薄膜般的无机薄膜容易破裂。通过高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18包含有机薄膜，容易抑制高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的破裂。高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18含有高折射率聚合物及流平剂。高折射率聚合物可为经交联的聚合物，也可为非交联聚合物。这些中，就加工性优异等观点而言，更优选为非交联聚合物。
高折射率聚合物包含有机聚合物，有机聚合物具有含有选自N、S、O中的至少一种元素的官能基。具有此种官能基的有机聚合物有折射率较高的倾向。包含N、S、O中的特别是N、S的有机聚合物就有折射率特别高的倾向的方面而言优选。另外，这些元素为与金属薄膜层16的金属的连接强的元素，利用包含这些元素的官能基，包含有机薄膜的高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18与和高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18相接的金属薄膜层16强有力地接着，与金属薄膜层16的接着性变得良好。N、S、O中特别是N、S为在金属中与Ag的连接强的元素，若为具有包含N或S的官能基的有机聚合物，则与包含Ag的金属薄膜层16的接着性变得特别良好。
作为包含S的官能基，可列举：磺酰基(-SO2-)、硫醇基、硫酯基等。这些中，就与金属薄膜层16的接着性更优异等观点而言，更优选为磺酰基、硫醇基等。而且，作为具有包含S的官能基的聚合物，可列举：聚醚砜(Polyether Sulfone，PES)、聚砜、聚苯基砜等。
作为包含O的官能基，可列举：羧基、酯基、酮基、羟基等。这些中，就与金属薄膜层16的接着性更优异等观点而言，更优选为羧基、酯基等。而且，作为具有包含O的官能基的聚合物，可列举环氧树脂等。
作为包含N的官能基，可列举：咔唑基、酰亚胺基、腈基等。这些中，就与金属薄膜层16的接着性更优异等观点而言，更优选为咔唑基、酰亚胺基等。而且，作为具有包含N的官能基的聚合物，可列举聚乙烯基咔唑(Polyvinyl carbazole，PVK)、聚酰亚胺等。另外，可列举具有三嗪环的聚合体。具有三嗪环的聚合体就其结构而言折射率较高(1.70以上)，因此特别优选。
作为流平剂，可列举：聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、聚氧乙烯鲸蜡基醚、聚氧乙烯油烯基醚等聚氧乙烯烷基醚类；聚氧乙烯辛基苯酚醚、聚氧乙烯壬基苯酚醚等聚氧乙烯烷基烯丙基醚类；聚氧乙烯·聚氧丙烯嵌段共聚物类；山梨聚糖单月桂酸酯、山梨聚糖单棕榈酸酯、山梨聚糖单硬脂酸酯、山梨聚糖单油酸酯、山梨聚糖三油酸酯、山梨聚糖三硬脂酸酯等山梨聚糖脂肪酸酯类；聚氧乙烯山梨聚糖单月桂酸酯、聚氧乙烯山梨聚糖单棕榈酸酯、聚氧乙烯山梨聚糖单硬脂酸酯、聚氧乙烯山梨聚糖三油酸酯、聚氧乙烯山梨聚糖三硬脂酸酯等聚氧乙烯山梨聚糖脂肪酸酯类等非离子系表面活性剂，商品名为艾福拓(Eftop)EF301、EF303、EF352(三菱材料电子化成(股)制造(原基姆可(Jemco)(股)制造))、商品名为美佳法(Megafac)F171、F173、R-08、R-30、F-553、F-554、RS-75、RS-72-K(迪爱生(DIC)(股)制造)、弗洛德(Fluorad)FC430、FC431(住友3M(股)制造)、商品名为阿萨佳(Asahi Guard)AG710、沙福隆(Surflon)S-382、SC101、SC102、SC103、SC104、SC105、SC106(旭硝子(股)制造)等氟系表面活性剂、有机硅氧烷聚合物KP341(信越化学工业(股)制造)、毕克(BYK)-302、毕克(BYK)-307、毕克(BYK)-322、毕克(BYK)-323、毕克(BYK)-330、毕克(BYK)-333、毕克(BYK)-370、毕克(BYK)-375、毕克(BYK)-378(日本毕克化学(BYK ChemieJapan)(股)制造)等。这些中特别优选为氟系化合物。若流平剂包含氟系化合物，则可将薄膜表面的凹凸控制得更小。
高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18中的流平剂的含量是相对于高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的高折射率聚合物100质量份而设为0.20质量份～20.32质量份的范围内。该含量未满0.20质量份时，在短时间成膜的情况下薄膜表面的凹凸变大，不满足高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的光透过性。该含量超过20.32质量份时，不满足金属薄膜层16对高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的接着性。另外，通过流平剂的添加而高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的折射率下降，不满足光透过性。就如所述般在短时间成膜中抑制薄膜表面的凹凸等观点而言，该含量更优选为0.5质量份以上，进而优选为1.0质量份以上。另外，就如所述般接着性、光透过性等观点而言，更优选为15质量份以下，进而优选为10质量份以下。
高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18也可进而含有交联聚合物。通过高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18进而含有交联聚合物，可抑制流平剂的移行。由此，可抑制金属薄膜层16对高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的接着性下降。另外，在湿热环境下也可抑制高折射率薄膜层14的剥离。关于在湿热环境下(例如60℃、90％RH)容易产生高折射率薄膜层14的剥离的理由，推测其原因在于：非交联聚合物通过官能基而在湿热环境下膨润，并在膨润的状态下进行干燥，因此非交联聚合物成为多孔而强度下降。交联聚合物并无特别限定，可列举多官能丙烯酸酯的聚合体或多官能甲基丙烯酸酯的聚合体等。这些聚合体在接收太阳光时难以产生自由基，因此耐候性也提高。
交联聚合物的交联方法并无特别限定，可列举：过氧化物交联、硫交联、光交联等各种方法。这些中优选为光交联。可在低温下进行交联，且可抑制耐热性低的基材例如聚烯烃膜的热变形。另外，能够通过光进行短时间的交联。多官能丙烯酸酯的聚合体及多官能甲基丙烯酸酯的聚合体能够进行光交联。
作为多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯，只要为在一分子中具有两个以上的(甲基)丙烯酸基者，则并无特别限定。具体可列举：乙二醇二丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、乙氧化双酚A二丙烯酸酯、乙氧化双酚A二甲基丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、乙氧化三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、乙氧化甘油三丙烯酸酯、乙氧化甘油三甲基丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四丙烯酸酯、乙氧化季戊四醇四甲基丙烯酸酯、乙氧化二季戊四醇六丙烯酸酯、聚甘油单环氧乙烷聚丙烯酸酯、聚甘油聚乙二醇聚丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯、1，6-己二醇二丙烯酸酯、1，6-己二醇二甲基丙烯酸酯等。
在使用多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯的情况下，也可使用光自由基聚合引发剂。作为光自由基聚合引发剂，只要自公知者中适宜选择来使用即可，例如可列举：苯乙酮类、二苯甲酮类、米其勒的苯甲酰基苯甲酸酯、戊肟酯、一硫化四甲基秋兰姆及硫杂蒽酮类等。在使用光自由基聚合引发剂的情况下，相对于多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯100质量份，优选为在0.1质量份～15质量份的范围使用，更优选为1质量份～10质量份的范围。
高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的聚合物成分也可为包含其他聚合物的构成，也可由所述高折射率聚合物与所述交联聚合物来构成。高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18中，相对于所述高折射率聚合物100质量份，所述交联聚合物的含量优选为2质量份～100质量份的范围内。更优选为5质量份～20质量份的范围内。若相对于所述高折射率聚合物100质量份而所述交联聚合物的含量为2质量份以上，则容易抑制流平剂的移行，由此容易抑制金属薄膜层16对高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的接着性下降。若相对于所述高折射率聚合物100质量份而所述交联聚合物的含量为100质量份以下，则所述交联聚合物的含量得到抑制，因此可维持高折射率。另外，由所述高折射率聚合物形成的高折射率薄膜层14的接着力优异。
与光透过性基板12相接的高折射率薄膜层14也可进而含有硅烷偶合剂、丙烯酸添加剂、无机填料、这些的两种以上的组合。通过高折射率薄膜层14进而含有硅烷偶合剂、丙烯酸添加剂、无机填料、这些的两种以上的组合，可提高与光透过性基板12的接着性。由此，可确保即便在180°剥离试验中也可抑制剥离的程度的高的接着性。此时，若并用硅烷偶合剂与丙烯酸添加剂，则可进一步更提高与光透过性基板12的接着性。
硅烷偶合剂可通过添加而与光透过性基板12的表面的羟基形成共价键，从而提高与光透过性基板12的接着性。硅烷偶合剂可为具有烷氧基硅烷基以外的官能基者，也可为不具有除此以外的官能基者。就与光透过性基板12的接着性的提高的观点而言，硅烷偶合剂更优选为进而具有烷氧基硅烷基以外的官能基者。作为烷氧基硅烷基以外的官能基，可列举：乙烯基、环氧基、苯乙烯基、甲基丙烯酸氧基、丙烯酸氧基、氨基、脲基、巯基、硫醚基、异氰酸酯基等。硅烷偶合剂可单独使用这些的一种，也可将两种以上组合而使用。这些官能基中，就与光透过性基板12的接着性的提高效果特别高等观点而言，优选为环氧基、甲基丙烯酸氧基、丙烯酸氧基、氨基、脲基。另外，就涂液稳定性特别高等观点而言，优选为甲基丙烯酸氧基、丙烯酸氧基、脲基。
作为具有乙烯基的硅烷偶合剂(乙烯系)，可列举乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等。作为具有环氧基的硅烷偶合剂(环氧系)，可列举：2-(3，4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三乙氧基硅烷等。作为具有甲基丙烯酸氧基的硅烷偶合剂(甲基丙烯酸系)，可列举：3-甲基丙烯酸氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酸氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酸氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、3-甲基丙烯酸氧基丙基三乙氧基硅烷等。作为具有丙烯酸氧基的硅烷偶合剂(丙烯酸系)，可列举3-丙烯酸氧基丙基三甲氧基硅烷等。作为具有氨基的硅烷偶合剂(胺系)，可列举：N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-三乙氧基硅烷基-N-(1，3-二甲基-亚丁基)丙基胺、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-(乙烯基苄基)-2-氨基乙基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷等。作为具有硫醚基的硅烷偶合剂(硫醚系)，可列举双(三乙氧基硅烷基丙基)四硫醚等。
相对于高折射率薄膜层14的高折射率聚合物100质量份，高折射率薄膜层14的硅烷偶合剂的含量优选为5质量份～90质量份的范围内。更优选为10质量份～60质量份的范围内，进而优选为20质量份～40质量份的范围内。若相对于高折射率聚合物100质量份而硅烷偶合剂的含量为10质量份以上，则使与光透过性基板12的接着性提高的效果更优异。若相对于高折射率聚合物100质量份而硅烷偶合剂的含量为20质量份以上，则使与光透过性基板12的接着性提高的效果特别优异。
丙烯酸添加剂可通过添加而导入三维交联，谋求耐热性的提高与膜强度的提高，并提高接着性。作为丙烯酸添加剂，可列举多官能丙烯酸酯的聚合体或多官能甲基丙烯酸酯的聚合体等。另外，也可为单官能丙烯酸酯的聚合体或单官能甲基丙烯酸酯的聚合体。多官能丙烯酸酯的聚合体或多官能甲基丙烯酸酯的聚合体可自所述者中适宜选择。单官能丙烯酸酯的聚合体或单官能甲基丙烯酸酯的聚合体可自下述者中适宜选择。丙烯酸添加剂可单独使用这些的一种，也可将两种以上组合而使用。
单官能丙烯酸酯的聚合体或单官能甲基丙烯酸酯的聚合体可列举：丙烯酸、甲基丙烯酸、马来酸、富马酸、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸三环癸基酯、丙烯酸异冰片酯、乙基卡必醇丙烯酸酯、丙烯酸四氢糠酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸2-羟基丙酯、甲基丙烯酸2-羟基丙酯、2-乙基己基卡必醇丙烯酸酯、丙烯酸2-苯氧基乙酯、己内酯改性丙烯酸四氢糠酯、己内酯改性甲基丙烯酸四氢糠酯、丙烯酸叔丁基氨基乙酯、甲基丙烯酸叔丁基氨基乙酯等。
相对于高折射率薄膜层14的高折射率聚合物100质量份，高折射率薄膜层14的丙烯酸添加剂的含量优选为10质量份～50质量份的范围内。更优选为10质量份～40质量份的范围内，进而优选为15质量份～30质量份的范围内。若相对于高折射率聚合物100质量份而丙烯酸添加剂的含量为10质量份以上，则使与光透过性基板12的接着性提高的效果更优异。
无机填料可列举：二氧化锆、二氧化钛、二氧化硅、氧化铝等。这些中就传热系数的观点而言，特别优选为二氧化锆、二氧化钛、二氧化硅。可单独使用这些的一种，也可将两种以上组合而使用。
相对于高折射率薄膜层14的高折射率聚合物100质量份，高折射率薄膜层14中的无机填料的含量优选为0.55质量份～30质量份的范围内。更优选为0.73质量份～5.0质量份的范围内。若相对于高折射率聚合物100质量份而无机填料的含量为0.55质量份以上，则使与光透过性基板12的接着性提高的效果更优异。
高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的膜厚可考虑日照遮蔽性、视认性、反射色等来调节。就容易抑制反射色的红色或黄色的着色且容易获得高的光透过性等观点而言，高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的膜厚优选为5nm以上，更优选为8nm以上，进而优选为10nm以上。另外，就容易抑制反射色的绿色的着色且容易获得高的光透过性等观点而言，高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的膜厚优选为90nm以下，更优选为85nm以下，进而优选为80nm以下。
高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的凝胶分率优选为20％以上。更优选为30％以上。通过凝胶分率为20％以上，可确保高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的形成后的耐溶剂性。另外，高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的凝胶分率优选为90％以下。更优选为80％以下。通过凝胶分率为90％以下，可抑制高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的形成时的硬化收缩，从而可抑制高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的剥离。高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的凝胶分率可根据所述高折射率聚合物与交联聚合物的调配比例等来调整。
光透过性层叠体10可利用本发明的制造方法来制造。本发明的制造方法具有在光透过性基板12上形成高折射率薄膜层14的步骤(第1步骤)、以及在所述高折射率薄膜层14上形成金属薄膜层16的步骤(第2步骤)。金属薄膜层16可利用溅射法等来形成。光透过性层叠体10可通过在金属薄膜层16上进而形成高折射率薄膜层18(第3步骤)来获得。高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18是使用包含高折射率聚合物、流平剂及溶媒的涂敷液涂敷至光透过性基板12上后，去除溶媒而形成。高折射率聚合物及流平剂如所述般。
溶媒优选为至少包含使高折射率聚合物溶解的高折射率聚合物的良溶媒。作为高折射率聚合物的良溶媒，可列举：丙二醇单甲醚、乙二醇单甲醚、丙二醇、丙二醇单乙醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单异丙醚、乙二醇甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯、环己酮、环戊酮、甲酰胺、N，N-二甲基甲酰胺、庚醇、对二甲苯、间二甲苯、邻二甲苯等。这些可作为高折射率聚合物的良溶媒而单独使用一种，也可将两种以上组合而使用。这些中，就短时间成膜性、生产性等观点而言，特别优选为环戊酮。溶媒可仅包含所述高折射率聚合物的良溶媒的一种或两种以上。除所述高折射率聚合物的良溶媒以外，也可包含所述高折射率聚合物的不良溶媒。良溶媒较下述低沸点溶媒而言多为高沸点者。
溶媒优选为除所述高折射率聚合物的良溶媒以外，进而包含沸点为120℃以下的低沸点溶媒。若包含低沸点溶媒，则可以较低的温度去除溶媒，因此也可在耐热性低的光透过性基板上厚度精度良好地成膜。低沸点溶媒可为所述高折射率聚合物的良溶媒，也可为所述高折射率聚合物的不良溶媒。作为低沸点溶媒，可列举：甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、异丙醇等醇类、乙酸乙酯等有机酸酯、乙腈、丙酮、甲基乙基酮、4-甲基-2-戊酮等酮类、四氢呋喃、二噁烷等环醚类、己烷等烃类、甲苯等芳香族类等。这些可作为低沸点溶媒而单独使用一种，也可将两种以上组合而使用。这些中，就短时间成膜性、生产性等观点而言，特别优选为甲基乙基酮。低沸点溶媒的沸点更优选为110℃以下，进而优选为100℃以下。另一方面，就因挥发所引起的固体成分变化等观点而言，低沸点溶媒的沸点优选为30℃以上。更优选为40℃以上。良溶媒与不良溶媒在溶解稳定性(析出)的方面不同。
溶媒的去除方法并无特别限定，可使用加热蒸发、自然挥发、减压蒸馏去除等方法。这些中，就成本优异等观点而言，优选为加热蒸发的方法。
就成本的方面而言，本发明的制造方法优选为利用分别连续地进行在光透过性基板12上形成高折射率薄膜层14的步骤(第1步骤)、以及在高折射率薄膜层14上形成金属薄膜层16的步骤(第2步骤)的连续成膜。具体而言，通过以下方式来制造：通过辊对辊，自第1滚筒拉出长条的光透过性基板12，并在面对第2滚筒的生产线的光透过性基板12上涂布所述涂敷液，继而利用加热等方法去除溶媒而在光透过性基板12上形成高折射率薄膜层14(第1步骤)，继而利用溅射等方法在高折射率薄膜层14上形成金属薄膜层16(第2步骤)，视需要依据高折射率薄膜层14而形成高折射率薄膜层18后，卷绕于第2滚筒。
在所述连续成膜中通过加热来进行溶媒去除的情况下，考虑到生产性、制品稳定性等，加热步骤中的加热时间优选为设为10s～180s。更优选为15s～120s。若加热时间为10s以上，则抑制溶媒的蒸发速度而抑制薄膜表面的凹凸变得过大，从而容易抑制光透过性的下降。另外，就该观点而言，加热步骤中的加热时间更优选为15s以上，进而优选为20s以上。而且，若加热时间为180s以下，则短时间成膜性、生产性优异。另外，就该观点而言，加热步骤中的加热时间更优选为120s以下，进而优选为60s以下。加热时间及加热温度只要考虑到光透过性基板12的材质、生产性、制品稳定性等决定即可。在将聚烯烃膜等耐热性低的膜用作光透过性基板12的情况下，优选为将加热时间设为60s以下、加热温度设为90℃以下。
良溶媒与低沸点溶媒的混合比例优选为以质量比计而为良溶媒/低沸点溶媒＝50/50～80/20。若良溶媒与低沸点溶媒的合计100质量％中的低沸点溶媒的比例为50质量％以下，则就涂敷液中的所述高折射率聚合物的溶解稳定性而言，涂敷液的储存稳定性优异。就该观点而言，低沸点溶媒的比例更优选为45质量％以下，进而优选为40质量％以下。另外，若良溶媒与低沸点溶媒的合计100质量％中的低沸点溶媒的比例为20质量％以上，则也可在耐热性低的光透过性基板上厚度精度良好地成膜的效果更优异。就该观点而言，低沸点溶媒的比例更优选为25质量％以上，进而优选为30质量％以上。
涂敷液除高折射率聚合物、流平剂及溶媒以外，也可进而包含交联性化合物。若涂敷液进而包含交联性化合物，并在形成高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的步骤中对交联性化合物进行交联，则高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18成为含有交联聚合物者，抑制流平剂的移行，由此抑制金属薄膜层16与高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的接着性下降。交联性化合物为形成交联聚合物且能够进行交联的化合物(单体、寡聚物、聚合物、预聚物)。交联性化合物并无特别限定，可列举多官能丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯等。这些聚合体在接收太阳光时难以产生自由基，因此高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的耐候性也得到提高。作为多官能丙烯酸酯及多官能甲基丙烯酸酯，可列举所述者。
交联性化合物的交联方法并无特别限定，可列举过氧化物交联、硫交联、光交联等各种方法。这些中优选为光交联。可在低温下进行交联，并可抑制耐热性低的基材例如聚烯烃膜的热变形。另外，能够利用光进行短时间的交联。多官能丙烯酸酯及多官能甲基丙烯酸酯能够进行光交联。
根据以上的构成的光透过性层叠体10，高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18含有所述高折射率聚合物及流平剂，流平剂的含量为特定范围，故即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性。若高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18进而含有交联聚合物，则抑制流平剂的移行，由此可抑制金属薄膜层16与高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的接着性下降。
流平剂通过降低涂敷液的表面张力而起到提高润湿性的效果，并在溶媒去除后减小薄膜表面的凹凸，若所述流平剂包含氟系化合物，则流平剂偏向存在于经涂敷的溶液的表面附近，控制溶媒的蒸发速度，由此可将溶媒去除后的薄膜表面的凹凸控制得更小。由此，也可通过纳米级水平的短时间成膜来确保优异的光透过性。
而且，根据本发明的光透过性层叠体的制造方法，将包含高折射率聚合物、流平剂及溶媒的涂敷液涂敷至光透过性基板上后，去除溶媒而形成高折射率薄膜层，因此即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性。若溶媒包含高折射率聚合物的良溶媒与沸点120℃以下的低沸点溶媒，则也可在耐热性低的光透过性基板上厚度精度良好地成膜。若良溶媒与低沸点溶媒的混合比例为特定范围，则储存稳定性及在耐热性低的光透过性基板上的成膜性优异。若涂敷液进而包含交联性化合物，且在形成高折射率薄膜层的步骤中对交联性化合物进行交联，则抑制流平剂的移行，由此可抑制金属薄膜层与高折射率薄膜层的接着性下降。若通过光交联对交联性化合物进行交联，则也可适用于耐热性低的光透过性基板上。
其次，对本发明的第二实施方式的光透过性层叠体进行说明。图2是本发明的第二实施方式的光透过性层叠体的剖面图。
光透过性层叠体20依序具有金属薄膜层16、高折射率薄膜层14、光透过性基板12。在金属薄膜层16的两面分别与金属薄膜层16相接而设有阻挡薄膜22、阻挡薄膜24。即，在金属薄膜层16与高折射率薄膜层14之间配置有阻挡薄膜22，在金属薄膜层16与高折射率薄膜层18之间配置有阻挡薄膜24。高折射率薄膜层14相接并设于光透过性基板12的其中一面上。阻挡薄膜22与高折射率薄膜层14相接而设置。金属薄膜层16与阻挡薄膜22相接而设置。阻挡薄膜24与金属薄膜层16相接而设置。在阻挡薄膜24的面上进而相接而设有高折射率薄膜层18。
第二实施方式的光透过性层叠体20与第一实施方式的光透过性层叠体10相比，不同的方面在于在金属薄膜层16的两面设有阻挡薄膜22、阻挡薄膜24，除此以外的构成与第一实施方式的光透过性层叠体10相同。对相同的构成标注相同的符号并省略其说明。
阻挡薄膜22、阻挡薄膜24包含金属或金属氧化物。通过阻挡薄膜22、阻挡薄膜24，抑制流平剂的移行，由此可抑制金属薄膜层16与高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的接着性下降。
阻挡薄膜22、阻挡薄膜24中，金属及金属氧化物的种类并无特别限定。作为金属，可列举：钛、锌、铟、锡、镁、锆、铌、铈、镍、铬、钨、钼、硅等。作为金属氧化物，可列举：钛氧化物、锌氧化物、铟氧化物、锡氧化物、铟-锡氧化物、镁氧化物、铝氧化物、锆氧化物、铌氧化物、铈氧化物、镍氧化物、铬氧化物、钨氧化物、钼氧化物、氧化硅等。这些中，优选为钛或钛氧化物。包含钛或钛氧化物的阻挡薄膜22、阻挡薄膜24致密，因此抑制流平剂的移行的效果特别优异。
阻挡薄膜22、阻挡薄膜24为也可就抑制流平剂的移行的观点而言设置的层，若过厚，则光透过性下降，因此就光透过性的观点而言，优选为薄(薄膜)。例如根据成膜速率的换算优选为0.3nm～5.0nm的范围内。更优选为0.5nm～3.0nm的范围内。
就可形成致密的膜且可均匀地形成数nm～数十nm程度的薄膜等观点而言，阻挡薄膜22、阻挡薄膜24优选为利用气相法形成。作为气相法，可列举：真空蒸镀法、溅射法、离子镀敷法、分子束外延(Molecular Beam Epitaxy，MBE)法、激光烧蚀法等所谓的物理气相法(Physical Vapor Deposition，PVD)，热化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，CVD)法、等离子体CVD法等所谓的化学气相法(CVD)等。这些中，就膜厚控制容易等观点而言，优选为DC磁控溅射法、RF磁控溅射法等溅射法。
根据以上的构成的光透过性层叠体20，与光透过性层叠体10同样地，高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18含有所述高折射率聚合物及流平剂，流平剂的含量为特定范围，故即便在短时间成膜的情况下也满足高折射率薄膜的光透过性及接着性。另外，在金属薄膜层16与高折射率薄膜层14之间配置有阻挡薄膜22，因此抑制流平剂的移行，由此可抑制金属薄膜层16与高折射率薄膜层14的接着性下降。另外，在金属薄膜层16与高折射率薄膜层18之间配置有阻挡薄膜24，因此抑制流平剂的移行，由此可抑制金属薄膜层16与高折射率薄膜层18的接着性下降。
以上对本发明的实施方式进行了说明，但本发明并不受所述实施方式的任何限定，能够在不脱离本发明的主旨的范围内进行各种改变。
例如第一实施方式中，在金属薄膜层16的面上相接设有高折射率薄膜层18，也可如图3所示的光透过性层叠体30般，为在金属薄膜层16的面上未设有高折射率薄膜层18的构成。另外，第二实施方式的光透过性层叠体20中，也可与图3所示的光透过性层叠体30同样地，为未设有高折射率薄膜层18的构成。
另外，例如第一实施方式及第二实施方式中，示出金属薄膜层16包含1层，且在其两面配置有高折射率薄膜层14、高折射率薄膜层18的三层构成，但金属薄膜层与高折射率薄膜层的层叠结构并不限定于该构成。可自光透过性基板12侧依序如金属薄膜层/高折射率薄膜层/金属薄膜层/高折射率薄膜层…般合计层叠两层以上，也可自光透过性基板12侧依序如高折射率薄膜层/金属薄膜层/高折射率薄膜层/金属薄膜层/高折射率薄膜层…般合计层叠两层以上。
另外，例如第二实施方式中，在金属薄膜层16的两面设有阻挡薄膜22、阻挡薄膜24，也可如图4所示，为以下的构成：在金属薄膜层16的单面(高折射率薄膜层18侧的面)设有阻挡薄膜24，在金属薄膜层16的高折射率薄膜层14侧的面不设有阻挡薄膜22。
另外，例如第一实施方式或第二实施方式中，可在高折射率薄膜层18的面上设有接着层。接着层为用以将光透过性层叠体贴附于窗、显示器等被粘体的层，包含粘着剂或接着剂。接着层的表面视需要由隔板覆盖。另外，例如第一实施方式或第二实施方式中，可在光透过性基板12的另一面上设有表面保护层。表面保护层是作为最外层而配置的层，抑制在光透过性基板的表面受到损伤。图5中示出相对于第一实施方式的光透过性层叠体10，进而在高折射率薄膜层18的面上设有接着层28，并在光透过性基板12的面上设有表面保护层26的光透过性层叠体50。
表面保护层可包含丙烯酸树脂等硬化性树脂或有机无机混合材料等。有机无机混合材料为包含硬化性树脂等有机成分与无机粒子或有机金属化合物等无机成分的材料。就绝热性优异(将传热系数抑制得低)等观点而言，表面保护层的厚度优选为2.5μm以下。更优选为2.0μm以下，进而优选为1.5μm以下。另外，就耐擦伤性优异等观点而言，优选为0.4μm以上。更优选为0.6μm以上，进而优选为0.8μm以上。
本发明的光透过性层叠体可在大厦·住宅等建筑物的窗玻璃或汽车等车辆的窗玻璃等中出于遮蔽日照的目的而优选地用作具有隔热性的光透过性层叠膜。
[实施例]
以下，使用实施例及比较例来对本发明进行详细说明。
(实施例1～实施例4)
作为实施例1～实施例4的光透过性层叠体，制作在由聚烯烃膜构成的光透过性基板的其中一面上依序为由有机薄膜构成的高折射率薄膜层、金属薄膜层、以及由有机薄膜构成的高折射率薄膜层的光透过性层叠体(图1)。概略如以下般。
<有机薄膜用涂敷液的制备>
以表1记载的调配组成，以能够利用凹版涂布机进行涂敷的粘度(0.1mPa·s～3.0mPa·s)制备有机薄膜用涂敷液。
·UR--108NPT3：日产化学工业公司制造(含有含三嗪环的聚合体、光聚合引发剂、多官能丙烯酸酯的组合物)、固体成分浓度为3质量％、溶媒：环戊酮
·流平剂(迪爱生(DIC)股份有限公司制造的“美佳法(Megafac)F-559”、氟系化合物(寡聚物))
·含三嗪环的聚合体的良溶媒：环戊酮
·低沸点溶媒：甲基乙基酮、4-甲基-2-戊酮
<光透过性层叠体的制作>
对OPP膜(东丽公司制造的“东丽芳(Torayfan)BO 40-2500”，厚度：40μm)的两面进行电晕处理，使用微型凹版涂布机在其中一面上涂敷所述的有机薄膜用涂敷液，在80℃下干燥60秒钟后，照射200mJ/cm2的紫外线而进行交联处理，由此形成有机薄膜(膜厚20nm)。继而，通过溅射在该第1层有机薄膜上形成Ag-Cu合金薄膜(膜厚7.8nm)。继而，与第1层有机薄膜同样地，在该Ag-Cu合金薄膜上形成第2层有机薄膜(膜厚20nm)。根据以上，制作实施例1～实施例4的光透过性层叠体。
(实施例5)
作为实施例5的光透过性层叠体，制作在由聚烯烃膜构成的光透过性基板的其中一面上依序为由有机薄膜构成的高折射率薄膜层、由金属的阻挡薄膜、金属薄膜层、由金属构成的阻挡薄膜、以及由有机薄膜构成的高折射率薄膜层的光透过性层叠体(图2)。概略如以下般。
<光透过性层叠体的制作>
对OPP膜(东丽公司制造的“东丽芳(Torayfan)BO 40-2500”，厚度：40μm)的两面进行电晕处理，使用微型凹版涂布机在其中一面上涂敷所述的有机薄膜用涂敷液，在80℃下干燥60秒钟后，照射200mJ/cm2的紫外线而进行交联处理，由此形成有机薄膜(膜厚20nm)。继而，通过溅射在该第1层有机薄膜上形成第1层钛薄膜(膜厚2nm)。继而，通过溅射在该第1层钛薄膜上形成Ag-Cu合金薄膜(膜厚7.8nm)。继而，通过溅射在该Ag-Cu合金薄膜上形成第2层钛薄膜(膜厚2nm)。继而，与第1层有机薄膜同样地，在该钛薄膜上形成第2层有机薄膜(膜厚20nm)。根据以上，制作实施例5的光透过性层叠体。
(实施例6)
在加热炉内、40℃下对实施例5中制作的光透过性层叠体进行300小时加热处理，由此使第1层及第2层的钛薄膜氧化而制成钛氧化物薄膜。根据以上，制作实施例6的光透过性层叠体。
(实施例7)
实施例5中，省略形成第1层钛薄膜的步骤，在第1层有机薄膜上形成Ag-Cu合金薄膜，除此以外与实施例5同样地进行而制作实施例7的光透过性层叠体。实施例7的光透过性层叠体是在由聚烯烃膜构成的光透过性基板的其中一面上依序为由有机薄膜构成的高折射率薄膜层、金属薄膜层、由钛构成的阻挡薄膜、以及由有机薄膜构成的高折射率薄膜层的光透过性层叠体(图4)。
(实施例8)
在加热炉内、40℃下对实施例7中制作的光透过性层叠体进行300小时加热处理，由此使钛薄膜氧化而制成钛氧化物薄膜。根据以上，制作实施例8的光透过性层叠体。
(实施例9)
有机薄膜用涂敷液的制备中使用UR-108NT3代替UR-108NPT3，不对有机薄膜进行交联处理，除此以外与实施例3同样地进行而制作实施例9的光透过性层叠体。
·UR-108NT3：日产化学工业公司制造(含有含三嗪环的聚合体、光聚合引发剂的组合物)、固体成分浓度为3质量％、溶媒：环己酮
(实施例10)
作为实施例10的光透过性层叠体，制作在由聚烯烃膜构成的光透过性基板的其中一面上依序为由有机薄膜构成的高折射率薄膜层以及金属薄膜层的光透过性层叠体(图3)。
即，除不进行第2层有机薄膜的形成以外，与实施例3同样地进行而制作实施例10的光透过性层叠体。
(实施例11)
第1层及第2层的有机薄膜的任一者均是使用与实施例2相同的组成的有机薄膜用涂敷液来形成。将层构成设为与实施例6同样。根据以上，制作光透过性层叠体。
(实施例12～实施例27)
第2层有机薄膜是使用与实施例2相同的组成的有机薄膜用涂敷液来形成。与光透过性基板相接的第1层有机薄膜是使用以表4记载的组成在与实施例2相同的组成的有机薄膜用涂敷液中调配硅烷偶合剂、丙烯酸添加剂而成者来形成。将层构成设为与实施例6同样。根据以上，制作光透过性层叠体。
·硅烷偶合剂(胺系)：信越硅酮(股)制造的“KBM-903”
·硅烷偶合剂(丙烯酸系)：信越硅酮(股)制造的“KBM-5103”
·丙烯酸添加剂：爱克(Aica)工业(股)制造的“Z-729-35”
(比较例1～比较例2)
除在有机薄膜用涂敷液的制备中未调配流平剂以外，与实施例1同样地进行而制作比较例1的光透过性层叠体。另外，除以表1记载的量调配流平剂以外，与实施例1同样地进行而制作比较例2的光透过性层叠体。
(Cu含量的测定)
Ag-Cu合金薄膜层中的副元素(Cu)含量是如以下般求出。即，在各成膜条件下另制作在玻璃基板上形成Ag-Cu合金薄膜层的试验片，将该试验片浸渍于6％HNO3溶液中，并进行20分钟的利用超声波的溶出后，使用所获得的试样液并利用ICP分析法的浓缩法进行测定。Cu含量为4原子％。
(薄膜的膜厚的测定)
各薄膜的膜厚是根据所述利用电场放出型电子显微镜(HRTEM)(日本电子(股)制造，“JEM2001F”)的试验片的剖面观察来测定。
对各光透过性层叠体评价光透过性、接着性。另外，一并评价绝热性、隔热性。另外，实施例11～实施例27中进而评价利用180°剥离试验的接着性。
(光透过性)
利用厚度25μm的丙烯酸粘着片(积水化学工业公司制造的“5402”)贴附厚度3mm的板玻璃与光透过性层叠体(以后为膜)的功能膜面侧来制作试验片1。使用试验片1并依据日本工业标准(Japanese Industrial Standard，JIS)A5759，利用分光光度计(岛津制作所(股)制造)来测定波长380nm～780nm的透过光谱，由此求出可见光线透过率。外观是使三波长荧光灯的光反射至膜并自距30cm的位置由目视来确认。将可见光线透过率为60％以上且外观无颜色不均的情况设为透明性(光透过性)良好“○”，将可见光线透过率未满60％或有颜色不均的情况设为透明性(光透过性)不良“×”。
(接着性：棋盘格剥离)
依据JIS K5600-5-6来测定。以相对于形成功能膜的OPP膜的面而垂直的方式放置刀刃，以2mm为间隔切入6条切痕后，改变90度方向以2mm为间隔切入与之前的切痕正交的6条切痕，制作25目。之后，将胶带贴至膜的切割为格子的部分并在胶带上擦拭。之后，以接近60度的角度确实撕下胶带后，通过目视确认残目数。将残目数为25的情况设为接着性特别良好“◎”，将残目数为20以上且未满25的情况设为接着性良好“○”，将残目数未满20的情况设为接着性不良“×”。
(接着性：180°剥离)
利用JIS-A-5759中规定的180度剥离法来进行光透过性基板与高折射率薄膜层之间的剥离试验。在样品宽25mm、拉伸速度300mm/min的条件下，将未产生剥离的情况设为特别良好“◎”，将产生剥离的量少的情况设为良好“○”，将产生剥离且其量多的情况设为稍差“△”。
(绝热性)
使用试验片1，依据JIS R3106并利用红外分光分析装置(岛津制作所制造)来测定波长5μm～50μm的反射光谱，由此求出垂直放射率，并求出以JIS A5759中所记载的系数进行了补正的玻璃面侧及膜面侧的修正放射率，从而利用JIS A5759的计算方法求出传热系数(W/(m2·K))。将传热系数为5.0W/(m2·K)以下设为绝热性优异“○”，将传热系数超过5.0W/(m2·K)设为绝热性差“×”。
(隔热性)
使用试验片1，依据JIS A5759并利用分光光度计(岛津制作所制造)来测定波长300nm～2500nm的透过光谱与反射光谱，由此求出日照透过率与日照反射率，依据JISR3106并利用红外分光分析装置(岛津制作所制造)来测定波长5μm～50μm的反射光谱，由此求出垂直放射率，并求出以JIS A5759中所记载的系数进行了补正的玻璃面侧及膜面侧的修正放射率，从而利用JIS A5759的计算方法求出遮蔽系数。将遮蔽系数为0.69以下的情况设为隔热性良好“○”，将遮蔽系数超过0.69的情况设为隔热性不良“×”。
[表1]
[表2]
第1层及第2层的流平剂含量为相对于含三嗪环的聚合体100质量份的量。
含三嗪环的聚合体是指“UR-108NPT3”中所含的含三嗪环的聚合体。
[表3]
第1层及第2层的流平剂含量为相对于含三嗪环的聚合体100质量份的量。
含三嗪环的聚合体是指“UR-108NPT3”或“UR-108NT3”中所含的含三嗪环的聚合体。
[表4]
[表5]
第1层及第2层的流平剂含量为相对于含三嗪环的聚合体100质量份的量。
含三嗪环的聚合体是指“UR-108NPT3”或“UR-108NT3”中所含的含三嗪环的聚合体。
第1层的硅烷偶合剂、丙烯酸添加剂的含量为相对于含三嗪环的聚合体100质量份的量。
比较例1中，在形成高折射率薄膜层的涂敷液中未含有流平剂，高折射率薄膜层中未含有流平剂。因此光透过性差。比较例2中，在形成高折射率薄膜层的涂敷液中所含的流平剂的量多。因此光透过性、接着性差。相对于此，实施例中，在形成高折射率薄膜层的涂敷液中含有特定量的流平剂，高折射率薄膜层中含有特定量的流平剂。因此即便在短时间成膜下光透过性、接着性也优异。
而且，根据实施例彼此的比较，可知通过具有阻挡薄膜(实施例5～实施例8)，接着性得到提高。另外，若有机薄膜未交联，则在湿热环境下耐久性下降。即，通过对有机薄膜进行交联，湿热环境下的耐久性得到提高。
另外，根据实施例彼此的比较，可知通过在用以形成与光透过性基板相接的高折射率薄膜层(第1层)的有机薄膜用涂敷液中含有硅烷偶合剂、丙烯酸添加剂或其两者(实施例12～实施例27)，在利用180度剥离法的剥离试验中，确认到接着性的提高。
以上对本发明的实施例进行了说明，但本发明并不受所述实施例的任何限定，能够在不脱离本发明的主旨的范围内进行各种改变。

Claims (14)

1.一种光透过性层叠体，其特征在于，具有：
金属薄膜层；
折射率高于所述金属薄膜层的高折射率薄膜层；以及
光透过性基板，
所述高折射率薄膜层含有高折射率聚合物及流平剂，所述高折射率聚合物具有包含选自N、O、S中的至少一种元素的官能基，所述流平剂的含量相对于所述高折射率薄膜层的聚合物100质量份而为0.20质量份～20.32质量份的范围内。
2.根据权利要求1所述的光透过性层叠体，其特征在于：所述金属薄膜层包含银或银合金。
3.根据权利要求1或2所述的光透过性层叠体，其特征在于：在所述金属薄膜层与所述高折射率薄膜层之间配置有包含金属或金属氧化物的阻挡薄膜。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的光透过性层叠体，其特征在于：所述高折射率薄膜层进而含有交联聚合物。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的光透过性层叠体，其特征在于：所述流平剂包含氟系化合物。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的光透过性层叠体，其特征在于：所述光透过性基板包含聚烯烃膜。
7.根据权利要求3所述的光透过性层叠体，其特征在于：所述阻挡薄膜包含钛或钛氧化物。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的光透过性层叠体，其特征在于：所述高折射率聚合物为具有三嗪环的聚合体。
9.一种光透过性层叠体的制造方法，其为制造根据权利要求1至8中任一项所述的光透过性层叠体的方法，所述光透过性层叠体的制造方法的特征在于，具有：
形成所述高折射率薄膜层的步骤；以及
形成所述金属薄膜层的步骤，
所述高折射率薄膜层是涂敷包含所述高折射率聚合物、所述流平剂及溶媒的涂敷液后，去除所述溶媒而形成。
10.根据权利要求9所述的光透过性层叠体的制造方法，其特征在于：所述溶媒包含所述高折射率聚合物的良溶媒与沸点120℃以下的低沸点溶媒。
11.根据权利要求10所述的光透过性层叠体的制造方法，其特征在于：所述低沸点溶媒为所述高折射率聚合物的不良溶媒。
12.根据权利要求10或11所述的光透过性层叠体的制造方法，其特征在于：所述良溶媒与所述低沸点溶媒的混合比例以质量比计为良溶媒/低沸点溶媒＝50/50～80/20。
13.根据权利要求9至12中任一项所述的光透过性层叠体的制造方法，其特征在于：所述涂敷液进而包含交联性化合物，在形成所述高折射率薄膜层的步骤中对所述交联性化合物进行交联。
14.根据权利要求13所述的光透过性层叠体的制造方法，其特征在于：所述交联性化合物通过光交联而进行交联。
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