CN108172121A - 一种功能膜层的制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种功能膜层的制备方法，用于柔性显示屏中，该方法包括下述步骤：在基板的第一侧涂布液晶形成线偏光片和相位差膜，线偏光片位于基板和相位差膜之间，或者相位差膜位于基板和线偏光片之间；在基板的第一侧或者第二侧形成触摸电极层。本发明可以减小柔性显示屏的厚度，提高柔性显示屏的弯折性能，使得柔性显示屏更容易弯折、卷曲。

Description

一种功能膜层的制备方法

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种功能膜层的制备方法。

背景技术

柔性OLED(organic light emitting diode，有机发光二极体)显示屏轻薄、不易碎、可弯曲以及可佩戴等优点，柔性显示屏收到越来越多的关注，例如热门的柔性AMOLED(Active-matrix organic light emitting diode，有源矩阵有机发光二极体或主动矩阵有机发光二极体)显示屏。

现有的柔性OLED显示屏中包含有偏光片。偏光片制作构成是TAC(TriacetylCellulose，三醋酸纤维素)层、PVA(polyvinyl alcohol，聚乙烯醇)层、相位差膜，其中，PVA层目前最薄5um，导致偏光片的厚度超过5um。并且，这些膜层之间需采用粘合剂组合在一起，粘接剂又会增加偏光片的厚度。其次，现有的柔性OLED触摸显示屏中，还包括触摸电极层，偏光片和触摸电极层是分开制作的。在制备形成柔性OLED显示屏时，将偏光片与触摸电极层进行堆叠，且偏光片与触摸电极层之间需要使用胶做粘接剂，因此也会增加柔性显示屏的厚度。

当柔性显示屏的厚度较大时，会影响弯折和卷曲的效果。因此，柔性OLED显示屏要做成可弯折、可卷曲的产品，需要降低各膜层的厚度，以及增加各膜层的强度。

发明内容

为解决上述技术问题，本发明提供一种功能膜层的制备方法，可以减小柔性显示屏的厚度，提高柔性显示屏的弯折性能，使得柔性显示屏更容易弯折、卷曲。

本发明提供的一种功能膜层的制备方法，用于柔性显示屏中，其特征在于，包括下述步骤：

在基板的第一侧涂布液晶形成线偏光片和相位差膜，所述线偏光片位于所述基板和所述相位差膜之间，或者所述相位差膜位于所述基板和所述线偏光片之间；

在所述基板的第一侧或者第二侧形成触摸电极层。

优选地，在所述基板的第一侧形成所述触摸电极层时，所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为相位差膜、线偏光片、触摸电极层，或者所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为触摸电极层、相位差膜、线偏光片。

优选地，所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为相位差膜、线偏光片、触摸电极层时，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述线偏光片上形成有机平坦层，且所述有机平坦层位于所述触摸电极层与所述线偏光片之间；

所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为触摸电极层、相位差膜、线偏光片时，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述触摸电极层上形成有机平坦层，且所述有机平坦层位于所述相位差膜与所述触摸电极层之间。

优选地，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述触摸电极层上远离所述基板的一侧形成电极保护层，所述电极保护层的厚度范围为1～2微米，且所述触摸电极层和所述有机平坦层的总厚度范围不超过8微米。

优选地，在所述基板的第二侧形成所述触摸电极层时，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述触摸电极层上远离所述基板的一侧形成电极保护层；

所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上依次为所述线偏光片和所述相位差膜。

优选地，所述相位差膜包含1/2相位差膜和/或1/4相位差膜。

优选地，在所述基板的第一侧或者第二侧形成触摸电极层，具体为：

在所述基板的第一侧或者第二侧形成导电膜层；

采用转印工艺处理所述导电膜层，或者对所述导电膜层进行刻蚀，得到所述触摸电极层。

优选地，所述基板的厚度范围为10～50微米，所述线偏光片和所述相位差膜的总厚度范围为2～10微米，所述柔性显示屏的厚度范围为30～70微米。

优选地，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述相位差膜上用于制备所述线偏光片的一侧制备配向膜，或者在所述线偏光片上用于制备所述相位差膜的一侧制备配向膜。

优选地，所述触摸电极层为单层结构，所述基板为PI层。

实施本发明，具有如下有益效果：本发明通过将线偏光片以及相位差膜与触摸电极层制备在基板的两侧，可以避免将偏光片与触摸电极层分开制备，然后再通过胶作为粘接剂将偏光片与触摸电极层组合在一起，减小了功能膜层的厚度。其次，线偏光片和相位差膜均通过涂布液晶的方式进行制备，可以利用液晶之间的粘力进行粘接，避免用粘接剂进行粘接，因而也减小了功能膜层的厚度。因此，本发明可以减小柔性显示屏的厚度，使得柔性显示屏更容易弯折、卷曲，提高了柔性显示屏的弯折性能，达到可以弯折的效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明提供的功能膜层的制备方法的流程图。

图2是本发明提供的第一实施例中的功能膜层的结构示意图。

图3是本发明提供的第二实施例中的功能膜层的结构示意图。

图4是本发明提供的第三实施例中的功能膜层的结构示意图。

图5是本发明提供的第四实施例中的功能膜层的制备方法的流程图。

图6是本发明提供的第五实施例中的功能膜层的制备方法的流程图。

具体实施方式

本发明提供一种功能膜层的制备方法，用于柔性显示屏中，如图1所示，该方法包括下述步骤：

在基板的第一侧涂布液晶形成线偏光片和相位差膜，线偏光片位于基板和相位差膜之间，或者相位差膜位于基板和线偏光片之间；线偏光片和相位差膜组合构成偏光片；

在基板的第一侧或者第二侧形成触摸电极层。其中，基板的第一侧和第二侧可以分别为基板的上侧和下侧，或者分别为基板的下侧和上侧。

如图2所示的第一实施例和图3所示的第二实施例中，线偏光片2、相位差膜3以及触摸电极层4均位于基板1的同一侧。如图4所示的第四实施例中，线偏光片2以及相位差膜3与触摸电极层4分别位于基板1的两侧。

在本发明提供的功能膜层的制备方法中，采用涂布液晶的方式形成线偏光片2和相位差膜3，利用液晶之间的粘力可以直接将线偏光片2和相位差膜3组合在一起，因而不需要在线偏光片2和相位差膜3之间采用粘合剂进行组合，减小了偏光片的厚度，也减小了柔性显示屏的厚度。

而且，还将触摸电极层4与线偏光片2及相位差膜3直接制备在同一张基板1上面，因而在组合成柔性显示屏的时候，不需要采用胶作为线偏光片2与相位差膜3之间的粘接剂，减小了柔性显示屏的厚度。

因此，本发明提供的功能膜层的制备方法可以减小触摸屏显示面板的厚度，使得触摸屏显示面板更容易弯折、卷曲。

进一步地，如图2所示，在基板1的第一侧形成触摸电极层4时，基板1的第一侧且在远离基板1的方向上，依次为相位差膜3、线偏光片2、触摸电极层4，或者如图3所示，基板1的第一侧且在远离基板1的方向上，依次为触摸电极层4、相位差膜3、线偏光片2。

进一步地，基板1的第一侧且在远离基板1的方向上，依次为相位差膜3、线偏光片2、触摸电极层4时，功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在线偏光片2上形成有机平坦层5，且有机平坦层5位于触摸电极层4与线偏光片2之间。

基板1的第一侧且在远离基板1的方向上，依次为触摸电极层4、相位差膜3、线偏光片2时，功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在触摸电极层4上形成有机平坦层5，且有机平坦层5位于相位差膜3与触摸电极层4之间。

进一步地，功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在触摸电极层4上远离基板1的一侧形成电极保护层6，电极保护层6的厚度范围为1～2微米，且触摸电极层4和有机平坦层5的总厚度范围不超过8微米。

进一步地，当在基板1的第二侧形成触摸电极层4时，功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

如图4所示，在触摸电极层4上远离基板1的一侧形成电极保护层6；

基板1的第一侧且在远离基板1的方向上依次为线偏光片2和相位差膜3。

进一步地，相位差膜3包含1/2相位差膜(也称为1/2λ相位差膜，或者二分之一波片)和/或1/4相位差膜(也称为1/4λ相位差膜，或者四分之一波片)，λ为入射光的波长。二分之一波片用于当法向入射的光透过时，寻常光(o光)和非常光(e光)之间的相位差等于π或其奇数倍；四分之一波片用于当光法向入射透过时，寻常光(o光)和非常光(e光)之间的位相差等于π/2或其奇数倍。

进一步地，在基板1的第一侧或者第二侧形成触摸电极层4，具体为：

在基板1的第一侧或者第二侧形成导电膜层8；

采用转印工艺处理导电膜层8，或者对导电膜层8进行刻蚀，得到触摸电极层4。

进一步地，基板1的厚度范围为10～50微米，线偏光片2和相位差膜3的总厚度范围为2～10微米，柔性显示屏的厚度范围为30～70微米。更进一步地，采用液晶涂布的方式制备的线偏光片2的厚度可以达到1～2微米，而现有技术中的偏光片的厚度一般超过5微米，因而，采用液晶涂布的方式制备线偏光片2还可以减小偏光片本身的厚度，更进一步地减小了柔性显示屏的厚度。

进一步地，功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在相位差膜3上用于制备线偏光片2的一侧制备配向膜7，或者在线偏光片2上用于制备相位差膜3的一侧制备配向膜7。具体而言，在基板1上先制备线偏光片2，后制备相位差膜3时，则在线偏光片2上用于制备相位差膜3的一侧制备配向膜7；当在基板1上先制备相位差膜3，后制备线偏光片2时，则在相位差膜3上用于制备线偏光片2的一侧制备配向膜7。

进一步地，触摸电极层4为单层结构，基板1为PI(聚酰亚胺)层。

如图5所示，在第四实施例中，功能膜层的制备方法包括下述步骤：

在基板1上涂布液晶形成相位差膜3，该相位差膜3为1/4相位差膜；

形成配向膜7；配向膜7的材料可以是PI材料，在相位差膜3上涂布PI材料之后，再经过光照、烘烤等工艺形成配向膜7；

线偏光片2液晶涂布，即在配向膜7上涂布液晶，形成线偏光片2；

在线偏光片2上形成有机平坦层5；

采用转印工艺形成触摸电极层4；

在触摸电极层4上形成电极保护层6；当然，这一步可以选择性制作。

如图6所示，在第五实施例中，功能膜层的制备方法包括下述步骤：

触摸电极成膜，即在基板1上形成用于制备触摸电极层4的导电膜层8；

采用刻蚀或者转印工艺处理导电膜层8，得到触摸电极层4；

在触摸电极层4上涂布形成有机平坦层5；

在有机平坦层5上涂布液晶形成相位差膜3，该相位差膜3可以是1/4相位差膜；

形成配向膜7，具体为在相位差膜3上涂布液晶后，再通过光照、烘烤等工艺形成配向膜7；

线偏光片2液晶涂布，即在配向膜7上涂布液晶，形成线偏光片2。

综上所述，本发明通过将线偏光片2以及相位差膜3与触摸电极层4制备在基板1的两侧，可以避免将偏光片与触摸电极层4分开制备，然后再通过胶作为粘接剂将偏光片与触摸电极层4组合在一起，减小了功能膜层的厚度。其次，线偏光片2和相位差膜3均通过涂布液晶的方式进行制备，可以利用液晶之间的粘力进行粘接，避免用粘接剂进行粘接，因而也减小了功能膜层的厚度。因此，本发明将偏光片与触摸电极层集成一体化，减少膜层之间的贴合制程，可以减小柔性显示屏的厚度，使得柔性显示屏更容易弯折、卷曲，提高了柔性显示屏的弯折性能，达到可以弯折的效果。

以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (10)

1.一种功能膜层的制备方法，用于柔性显示屏中，其特征在于，包括下述步骤：

在基板的第一侧涂布液晶形成线偏光片和相位差膜，所述线偏光片位于所述基板和所述相位差膜之间，或者所述相位差膜位于所述基板和所述线偏光片之间；

在所述基板的第一侧或者第二侧形成触摸电极层。

2.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，

在所述基板的第一侧形成所述触摸电极层时，所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为相位差膜、线偏光片、触摸电极层，或者所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为触摸电极层、相位差膜、线偏光片。

3.根据权利要求2所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，

所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为相位差膜、线偏光片、触摸电极层时，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述线偏光片上形成有机平坦层，且所述有机平坦层位于所述触摸电极层与所述线偏光片之间；

所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上，依次为触摸电极层、相位差膜、线偏光片时，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述触摸电极层上形成有机平坦层，且所述有机平坦层位于所述相位差膜与所述触摸电极层之间。

4.根据权利要求3所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述触摸电极层上远离所述基板的一侧形成电极保护层，所述电极保护层的厚度范围为1~2微米，且所述触摸电极层和所述有机平坦层的总厚度范围不超过8微米。

5.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，在所述基板的第二侧形成所述触摸电极层时，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述触摸电极层上远离所述基板的一侧形成电极保护层；

所述基板的第一侧且在远离所述基板的方向上依次为所述线偏光片和所述相位差膜。

6.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，所述相位差膜包含1/2相位差膜和/或1/4相位差膜。

7.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，在所述基板的第一侧或者第二侧形成触摸电极层，具体为：

在所述基板的第一侧或者第二侧形成导电膜层；

采用转印工艺处理所述导电膜层，或者对所述导电膜层进行刻蚀，得到所述触摸电极层。

8.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，所述基板的厚度范围为10~50微米，所述线偏光片和所述相位差膜的总厚度范围为2~10微米，所述柔性显示屏的厚度范围为30~70微米。

9.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，所述功能膜层的制备方法还包括下述步骤：

在所述相位差膜上用于制备所述线偏光片的一侧制备配向膜，或者在所述线偏光片上用于制备所述相位差膜的一侧制备配向膜。

10.根据权利要求1所述的功能膜层的制备方法，其特征在于，所述触摸电极层为单层结构，所述基板为PI层。