CN112444893A - 显示面板及其制造方法、显示装置 - Google Patents

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CN112444893A CN201910827577.2A CN201910827577A CN112444893A CN 112444893 A CN112444893 A CN 112444893A CN 201910827577 A CN201910827577 A CN 201910827577A CN 112444893 A CN112444893 A CN 112444893A
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Abstract

本发明提供了一种显示面板及其制造方法、显示装置，所述显示面板包括：一基材；一硬化膜层和一线偏光膜，分别设置于所述基材的两侧；抗反射层，设置于所述硬化膜层的背离所述基材的一侧；补偿膜，设置于所述线偏光膜的背离所述基材的一侧；以及PSA层，设置于所述补偿膜的背离所述基材的一侧；其中，所述抗反射层包括多个抗反射膜组，每个所述抗反射膜组包括一第一折射率膜层和一第二折射率膜层，所述第一折射率膜层的折射率大于所述第二折射率膜层的折射率；本发明使得显示面板具有低反射率的同时，有效减小了显示面板的膜组厚度；另一方面，在保证显示面板可柔性能的前提下，提高了显示面板的硬度。

Description

显示面板及其制造方法、显示装置
技术领域
本发明涉及显示设备技术领域，具体地说，涉及一种显示面板及其制造方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的发展，由于柔性显示技术具有超薄、质量轻以及可收卷等优点，柔性显示技术得到了越来越广泛的应用。柔性显示面板的制作主要是在柔性基板上形成显示器件，对显示器件进行薄膜封装。另一方面，OLED(Organic Light Emitting Diode，有机发光二极管)显示面板由于其具有自发光、高亮度、广视角、快速反应等优良特性，应用越来越广泛。所以，柔性OLED显示面板越来越受到欢迎。
对于柔性OLED显示面板，为了减少内部金属配线等对外部光的反射，或者显示面板弯折处形变的反射，需要一种抗反射效果较好的膜层结构，使柔性OLED显示面板实现低反射率。传统柔性OLED显示面板通常采用圆偏光片实现抗反射功能，抗反射性能欠佳；且圆偏光片普遍较厚，厚度达到60μm～110μm；另一方面，传统柔性OLED显示面板在抗反射层上还设有保护视窗层，两者之间利用光学胶粘合，而上述保护视窗层的厚度达到90μm～150μm，光学胶的厚度达到50μm～100μm，所以这三层厚度一共达到了200μm至360μm。显然，采用该结构会使得柔性显示器变的很厚，从而使柔性显示器丧失了轻薄的特点，不利于柔性显示。
发明内容
针对现有技术中的问题，本发明的目的在于提供一种显示面板及其制造方法、显示装置，采用在基材上涂布和成膜工艺制成的膜组，替代传统柔性OLED显示面板的抗反射层、光学胶和保护视窗层三层膜层，有效降低显示面板反射率的同时，减小显示面板的厚度。
为实现上述目的，本发明提供了一种显示面板，该显示面板包括：
一基材；
一硬化膜层和一线偏光膜，分别形成于所述基材的两侧；
抗反射层，形成于所述硬化膜层的背离所述基材的一侧；
补偿膜，形成于所述线偏光膜的背离所述基材的一侧；以及
PSA层，形成于所述补偿膜的背离所述基材的一侧；
其中，所述抗反射层包括多个抗反射膜组，每个所述抗反射膜组包括一第一折射率膜层和一第二折射率膜层，所述第一折射率膜层的折射率大于所述第二折射率膜层的折射率。
优选地，沿着所述补偿膜的出光方向，所述抗反射层中的所述第一折射率膜层的厚度逐渐增大，所述抗反射层中所述抗反射膜组的个数为2～4。
优选地，第一折射率膜层的光学厚度为D1，折射率为n1，物理厚度为d1；第二折射率膜层的光学厚度为D2，折射率为n2，物理厚度为d2；其中，D1和D2的值均为λ/4，且d1＝D1/n1，d2＝D2/n2，λ为可见光波长的平均值。
优选地，所述基材的厚度为30μm～50μm，所述线偏光膜的厚度为1μm～3μm，所述补偿膜的厚度为1μm～3μm，所述抗反射层的厚度为200nm～250nm。
优选地，所述硬化膜层和PSA层均通过涂布和固化工艺制成，所述线偏光膜和补偿膜均通过涂布、光配向以及固化工艺制成，所述抗反射层采用CVD、ALD或者蒸镀的成膜制程形成。
优选地，所述抗反射层中所述抗反射膜组的个数为2，所述抗反射层具有4层膜层，沿着所述补偿膜的出光方向，所述抗反射层的第一层为所述第一折射率膜层，对应的厚度为2nm～30nm；第二层为所述第二折射率膜层，对应的厚度为3nm～60nm；第三层为所述第一折射率膜层，对应的厚度为10nm～20nm；第四层为所述第二折射率膜层，对应的厚度为70nm～150nm。
优选地，与所述硬化膜层相邻的且背离所述基材的一侧为所述第一折射率膜层，所述第一折射率膜层的折射率为1.8～2.6，所述第二折射率膜层的折射率为1.3～1.6。
优选地，所述显示面板还包括：
一抗指纹膜层，所述抗指纹膜层形成于所述抗反射层的背离所述基材的一侧；
一柔性基板；
一薄膜晶体管和一支撑膜，分别形成于所述柔性基板的两侧；
一OLED发光层，形成于所述薄膜晶体管的背离所述柔性基板的一侧；
一触控层，形成于所述OLED发光层的背离所述柔性基板的一侧，且位于所述PSA层的背离所述基材的一侧；以及
功能膜层，形成于所述支撑膜的背离所述柔性基板的一侧。
优选地，所述抗指纹膜层的制成材料为氟硅树脂，所述抗指纹膜层的厚度为1nm～13nm，所述功能膜层包含背离出光方向依次层叠的导热层、遮光层以及防静电层，用于对所述显示面板进行散热、遮光以及防静电。
优选地，所述基材和所述柔性基板的制成材料均为聚酰亚胺，所述硬化膜层的制成材料为硅烷类，所述线偏光膜的制成材料包括二向色染料和可聚合液晶，所述补偿膜的制成材料包括可聚合液晶、染料分子混合体、光引发剂、耐老化剂以及固化剂。
优选地，所述第一折射率膜层的制成材料为氮化硅类、氧化钛类、氧化钽类、氧化铝类、氧化锆类、氧化锌类或者氧化铈类，所述第二折射率膜层的制成材料为氧化硅类或者氮氧化硅类。
本发明还提供了一种显示面板的制造方法，用于制造上述任一项所述显示面板，该方法包括以下步骤：
S10，提供基材；
S20，在所述基材的两侧分别形成硬化膜层和线偏光膜；
S30，在所述硬化膜层的背离所述基材的一侧成膜形成抗反射层，在所述线偏光膜的背离所述基材的一侧形成补偿膜；
S40，在所述补偿膜的背离所述基材的一侧涂布形成PSA层；
其中，所述抗反射层包括交替设置的若干个第一折射率膜层和若干个第二折射率膜层，所述第一折射率膜层的折射率大于所述第二折射率膜层的折射率。
优选地，步骤S20具体包括：
S201，在所述基材的一侧涂布包括二向色染料和可聚合液晶的第一材料层；
S202，在所述基材的另一侧涂布形成硬化膜层；
S203，对所述第一材料层进行光配向以及固化；
步骤S30具体包括：
S301，在所述硬化膜层的背离所述基材的一侧成膜形成抗反射层；
S302，在所述线偏光膜背离所述基材的一侧涂布包括可聚合液晶、染料分子混合体、光引发剂、耐老化剂以及固化剂的第二材料层；
S303，对所述第二材料层进行所述光配向以及固化。
优选地，在所述光配向中，配向的光源为紫外光，且所述紫外光的波长的取值区域为300nm至380nm，光配向能量的取值区域为30mJ/cm2至80mJ/cm2，光配向时间的取值区域为10秒至30秒，配向角度的取值区域为10°至90°；在所述固化中，温度的取值区域为80℃至100℃。
本发明还提供了一种显示装置，该装置包括上述任一项所述显示面板。
本发明与现有技术相比，具有以下优点及突出性效果：
本发明提供的显示面板及其制造方法、显示装置通过在基材的一侧涂布形成硬化膜层，在硬化膜层上成膜制成抗反射层，在基材的另一侧依次涂布形成线偏光膜、补偿膜和PSA层，使得采用该膜组的显示面板反射率将至0.6％，光通过率达到93％；同时该膜组兼具传统柔性OLED显示屏中的保护视窗层和抗反射层的功能，替代了传统柔性OLED显示屏中的抗反射层、光学胶层和保护视窗层，有效减小了显示面板的膜组厚度；另一方面，在保证显示面板可柔性能的前提下，提高了显示面板的硬度。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显。
图1为本发明实施例一公开的第一显示面板的结构示意图；
图2为图1中的抗反射层的结构示意图；
图3为本发明实施例二公开的第二显示面板的结构示意图；
图4为实施例三公开的显示面板制造方法的流程示意图。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式。相反，提供这些实施方式使得本发明将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。在图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略对它们的重复描述。
除非另作定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明专利申请说明书以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“内”、“外”、“上”、“下”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
如图1所示，本发明实施例公开了一种第一显示面板100，该第一显示面板100包括：
一基材11；
一硬化膜层12和一线偏光膜15，分别形成于上述基材11的两侧；
抗反射层13，形成于上述硬化膜层12的背离上述基材11的一侧；
一抗指纹膜层14，上述抗指纹膜层14形成于上述抗反射层13的背离上述基材11的一侧；
补偿膜16，形成于上述线偏光膜15的背离上述基材11的一侧；以及
PSA层17，形成于上述补偿膜16的背离上述基材11的一侧；
其中，基材11的制成材料为环烯烃聚合物(COP)、环烯烃共聚物(COC)或者聚酰亚胺(PI)等透明高分子有机材料，基材11的厚度的取值范围为5μm至80μm，作为一种优选地实施例，基材11的厚度为10μm至60μm。由于基材11越厚，显示面板的可柔性能就越差，所以本实施例中，基材11的材质为聚酰亚胺类材料，厚度范围为30μm至50μm，这样在基材11具有良好透明度的同时，保证了第一显示面板100具有良好的可柔性能。
需要说明的是，本发明对基材11的材质和厚度并不作具体限定，具体实施时，本领域的技术人员可根据工艺制备能力和产品需要进行选择。
硬化膜层12的制成材料为硅烷类或者氧化硅类材料，硬化膜层12的厚度的取值范围为2μm至50μm，硬化膜层12通过涂布以及固化制程形成于基材11的一侧。作为一种优选地实施例，硬化膜层12的厚度为5μm至20μm。本实施例中，硬化膜层12的制成材料为硅烷类，厚度范围为8μm至12μm，这样在保证该第一显示面板100具有良好硬度的同时，使其也具有良好的可弯折性。
线偏光膜15通过涂布、光配向以及固化工艺形成于基材11的一侧，线偏光膜15的制成材料包括二向色染料和可聚合液晶，例如偶氮类材料；线偏光膜15厚度的取值范围为0.1μm至10μm，作为一种优选地实施例，线偏光膜15的厚度为0.5μm至5μm。本实施例中，线偏光膜15的厚度的取值范围为1μm至3μm，这使得该第一显示面板100不仅具有较高的偏光度，而且有利于减薄该第一显示面板100膜组的厚度。
抗反射层13通过在硬化膜层12上通过成膜制程形成，成膜方式可以采用化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)或者蒸镀等，本发明不以此为限。抗反射层13的膜层越多，虽然反射色相越接近中性色相，但厚度也越厚，同时工艺制程越复杂，制程良率越低；膜层越少，抗反射性能则不佳。所以本实施例抗反射层13中抗反射膜组130的个数为2～4，抗反射层13的厚度的取值范围为50nm至400nm，优选的厚度取值范围为100nm至300nm，最优为200nm～250nm，本发明不以此为限。
抗反射层13包括多个抗反射膜组130，每个上述抗反射膜组130包括一第一折射率膜层131和一第二折射率膜层132，上述第一折射率膜层131的折射率大于上述第二折射率膜层132的折射率。作为一种优选地实施例，沿着上述补偿膜16的出光方向，上述抗反射层13中的第一折射率膜层131的厚度逐渐增大。
作为优选地实施例，如图2所示，抗反射层13中包含有2个抗反射膜组130，抗反射层13一共具有4层膜层，即第一折射率膜层131和第二折射率膜层132分别为两层，沿着上述补偿膜16的出光方向，抗反射层13中的第一层为上述第一折射率膜层131，也即与上述硬化膜层12相邻的且背离上述基材11的一侧为上述第一折射率膜层131，该第一折射率膜层131的厚度的取值范围为0.1nm至80nm，优选的厚度取值范围为1nm至50nm，最优为2nm～30nm，本实施例中该第一层第一折射率膜层131的厚度为11nm。
沿着上述补偿膜16的出光方向，抗反射膜组130的第二层为第二折射率膜层132，该第二折射率膜层132的厚度的取值范围为1nm至80nm，优选的厚度取值范围为2nm至70nm，最优为3nm至60nm，本实施例中该第二层第二折射率膜层132的厚度为46nm。
沿着上述补偿膜16的出光方向，抗反射膜组130的第三层为上第一折射率膜层131，该第一折射率膜层131的厚度的取值范围为1nm至60nm，优选的厚度取值范围为5nm至40nm，最优为10nm至20nm，本实施例中该第三层第一折射率膜层131的厚度为19nm。
沿着上述补偿膜16的出光方向，抗反射膜组130的第四层为第二折射率膜层132，该第二折射率膜层132的厚度的取值范围为30nm至200nm，优选的厚度取值范围为50nm至170nm，最优为70nm至150nm，本实施例中该第四层第二折射率膜层132的厚度为89nm。
上述第一折射率膜层131的制成材料为氮化硅类、氧化钛类、氧化钽类、氧化铝类、氧化锆类、氧化锌类或者氧化铈类，上述第二折射率膜层132的制成材料为氧化硅类或者氮氧化硅类。上述第一折射率膜层131的折射率为1.8～2.6，上述第二折射率膜层132的折射率为1.3～1.6。
作为一种优选的实施例，在硬化膜层12和抗反射层13之间通过成膜制程制成附着力匹配层，附着力匹配层的制成材料为氧化硅、氮化硅、氧化铝或者氮化铝，厚度为0.01nm至0.5nm，优选0.05nm至0.3nm，最优为0.1nm至0.2nm。
抗指纹膜层14通过在抗反射层13上通过成膜制程形成，成膜方式可以采用化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)或者蒸镀等，本发明不以此为限。抗指纹膜层14的制成材料为氟硅树脂，本实施例中成膜制程的温度取值范围均为50℃～200℃，优选80℃～150℃。抗指纹膜层14的厚度的取值范围为0.1nm至50nm，优选0.5nm至40nm，最优为1nm～13nm，本实施例中该抗指纹膜层14的厚度为12nm。
若第一折射率膜层131的光学厚度为D1，折射率为n1，物理厚度为d1；第二折射率膜层132的光学厚度为D2，折射率为n2，物理厚度为d2，则d1＝D1/n1，d2＝D2/n2，其中，D1和D2的值均为λ/4波片，λ可以取可见光波长的平均值，或者本领域的技术人员可以根据实际需要而设定，本发明的实施例对此不进行限定。本实施例中，有效抗反射的可见光波长的区间为400nm～700nm。
补偿膜16通过涂布、光配向以及固化制程形成于线偏光膜15的背离基材11的一侧，补偿膜16的制成材料包括可聚合液晶、染料分子混合体、光引发剂、耐老化剂以及固化剂。补偿膜16的厚度的取值范围为0.1μm至10μm，优选的厚度取值范围为0.5μm至5μm，最优为1μm～3μm。
PSA层17即为压敏胶层，用于在补偿膜16和触控层之间进行贴合，PSA层17通过涂布以及固化制程形成于补偿膜16一侧。PSA层17的厚度的取值范围为5μm～30μm，优选的厚度取值范围为10μm～20μm。
在上述光配向中，配向的光源为紫外光，即利用光配向机发射线偏振紫外光进行光配向。且上述紫外光的波长的取值区域为300nm至380nm，光配向能量的取值区域为10mJ/cm2至200mJ/cm2，优选30mJ/cm2至80mJ/cm2。光配向时间的取值区域为1秒至50秒，优选10秒至30秒。配向角度的取值区域为10°至90°；在上述固化中，固化温度的取值区域为80℃至100℃，本实施例中，该固化温度为90℃。需要说明的是，上述固化制程可以为紫外固化或者热固化，本发明不以此为限。
本实施例一公开的第一显示面板100通过采用多功能膜组替代了替代了传统柔性OLED显示屏中的抗反射层、光学胶层和保护视窗层，兼具传统柔性OLED显示屏中的保护视窗层和抗反射层的功能，减小了显示面板厚度。由于光学胶层越厚，显示面板的硬度越低，所以本发明取消了一层光学胶之后，通过对基材厚度的控制保证了显示面板可柔性能的同时，提高了显示面板的硬度。
实施例二
如图3所示，实施例二公开了一种第二显示面板101，在实施例一公开的第一显示面板100的基础上，第二显示面板101还包括：
一柔性基板18；
一薄膜晶体管19和一支撑膜112，分别形成于上述柔性基板18的两侧；
一OLED发光层110，形成于上述薄膜晶体管19的背离上述柔性基板18的一侧；
一触控层111，形成于上述OLED发光层110的背离上述柔性基板18的一侧，且位于上述PSA层17的背离上述基材11的一侧；以及
功能膜层113，形成于上述支撑膜112的背离上述柔性基板18的一侧。
上述柔性基板的制成材料为聚酰亚胺，上述功能膜层包含背离出光方向依次层叠的导热层、遮光层以及防静电层，用于对上述第二显示面板101进行散热、遮光以及防静电。需要说明的是，图1至图3中的各膜层的图示厚度并不表示实际厚度，仅用于示例性地说明，也不表示各膜层的相对厚度关系。
实施例三
如图4所示，本实施例公开了一种显示面板的制造方法，用于制造上述任一实施例中的显示面板，该方法包括以下步骤：
S10，提供基材；
S20，在上述基材的两侧分别形成硬化膜层和线偏光膜；
S30，在上述硬化膜层的背离上述基材的一侧成膜形成抗反射层，在上述线偏光膜的背离上述基材的一侧形成补偿膜；
S40，在上述补偿膜的背离上述基材的一侧涂布形成PSA层。
其中，上述抗反射层包括交替设置的若干个第一折射率膜层和若干个第二折射率膜层，上述第一折射率膜层的折射率大于上述第二折射率膜层的折射率。
上述步骤S20具体包括：
S201，在上述基材的一侧涂布包括二向色染料和可聚合液晶的第一材料层；
S202，在上述基材的另一侧涂布以及固化形成硬化膜层；
S203，对上述第一材料层进行光配向以及固化。
上述步骤S30具体包括：
S301，在上述硬化膜层的背离上述基材的一侧成膜形成抗反射层；成膜方式可以采用化学气相沉积(CVD)、原子层沉积(ALD)或者蒸镀等，本发明不以此为限。
S302，在上述线偏光膜背离上述基材的一侧涂布包括可聚合液晶、染料分子混合体、光引发剂、耐老化剂以及固化剂的第二材料层；
S303，对上述第二材料层进行上述光配向以及固化。
在上述光配向中，配向的光源为紫外光，即利用光配向机发射线偏振紫外光进行光配向。且上述紫外光的波长的取值区域为300nm至380nm，光配向能量的取值区域为10mJ/cm2至200mJ/cm2，优选30mJ/cm2至80mJ/cm2。光配向时间的取值区域为1秒至50秒，优选10秒至30秒。配向角度的取值区域为10°至90°；在上述固化中，固化温度的取值区域为80℃至100℃，本实施例中，该固化温度为90℃。
本发明还提供了一种显示装置，该显示装置包含上述任一实施例中的显示面板。在具体实施时，本公开实施例提供的显示装置可以是手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、媒体播放器、手表装置、挂件装置、耳机或耳机装置、导航装置、可穿戴或微型装、具有显示器的电子设备安装在自助服务终端或汽车中的系统的嵌入式装置等任何具有显示功能的产品或部件。
本发明实施例公开的显示面板及其制造方法、显示装置通过在基材的一侧涂布形成硬化膜层，在硬化膜层上成膜制成抗反射层，在基材的另一侧依次涂布形成线偏光膜、补偿膜和PSA层，使得采用该膜组的显示面板反射率将至0.6％，光通过率达到93％；同时该膜组兼具传统柔性OLED显示屏中的保护视窗层和抗反射层的功能，替代了传统柔性OLED显示屏中的抗反射层、光学胶层和保护视窗层三层膜层，有效减小了显示面板的膜组厚度；另一方面，在保证显示面板可柔性能的前提下，提高了显示面板的硬度。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (15)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：
一基材；
一硬化膜层和一线偏光膜，分别形成于所述基材的两侧；
抗反射层，形成于所述硬化膜层的背离所述基材的一侧；
补偿膜，形成于所述线偏光膜的背离所述基材的一侧；以及
PSA层，形成于所述补偿膜的背离所述基材的一侧；
其中，所述抗反射层包括多个抗反射膜组，每个所述抗反射膜组包括一第一折射率膜层和一第二折射率膜层，所述第一折射率膜层的折射率大于所述第二折射率膜层的折射率。
2.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，沿着所述补偿膜的出光方向，所述抗反射层中的所述第一折射率膜层的厚度逐渐增大，所述抗反射层中所述抗反射膜组的个数为2～4。
3.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，第一折射率膜层的光学厚度为D1，折射率为n1，物理厚度为d1；第二折射率膜层的光学厚度为D2，折射率为n2，物理厚度为d2；其中，D1和D2的值均为λ/4，且d1＝D1/n1，d2＝D2/n2，λ为可见光波长的平均值。
4.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述基材的厚度为30μm～50μm，所述线偏光膜的厚度为1μm～3μm，所述补偿膜的厚度为1μm～3μm，所述抗反射层的厚度为200nm～250nm。
5.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述硬化膜层和PSA层均通过涂布和固化工艺制成，所述线偏光膜和补偿膜均通过涂布、光配向以及固化工艺制成，所述抗反射层采用CVD、ALD或者蒸镀的成膜制程形成。
6.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述抗反射层中所述抗反射膜组的个数为2，所述抗反射层具有4层膜层，沿着所述补偿膜的出光方向，所述抗反射层的第一层为所述第一折射率膜层，对应的厚度为2nm～30nm；第二层为所述第二折射率膜层，对应的厚度为3nm～60nm；第三层为所述第一折射率膜层，对应的厚度为10nm～20nm；第四层为所述第二折射率膜层，对应的厚度为70nm～150nm。
7.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，与所述硬化膜层相邻的且背离所述基材的一侧为所述第一折射率膜层，所述第一折射率膜层的折射率为1.8～2.6，所述第二折射率膜层的折射率为1.3～1.6。
8.如权利要求1-7中任一项所述的显示面板，其特征在于，所述显示面板还包括：
一抗指纹膜层，所述抗指纹膜层形成于所述抗反射层的背离所述基材的一侧；
一柔性基板；
一薄膜晶体管和一支撑膜，分别形成于所述柔性基板的两侧；
一OLED发光层，形成于所述薄膜晶体管的背离所述柔性基板的一侧；
一触控层，形成于所述OLED发光层的背离所述柔性基板的一侧，且位于所述PSA层的背离所述基材的一侧；以及
功能膜层，形成于所述支撑膜的背离所述柔性基板的一侧。
9.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述抗指纹膜层的制成材料为氟硅树脂，所述抗指纹膜层的厚度为1nm～13nm，所述功能膜层包含背离出光方向依次层叠的导热层、遮光层以及防静电层，用于对所述显示面板进行散热、遮光以及防静电。
10.如权利要求8所述的显示面板，其特征在于，所述基材和所述柔性基板的制成材料均为聚酰亚胺，所述硬化膜层的制成材料为硅烷类，所述线偏光膜的制成材料包括二向色染料和可聚合液晶，所述补偿膜的制成材料包括可聚合液晶、染料分子混合体、光引发剂、耐老化剂以及固化剂。
11.如权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述第一折射率膜层的制成材料为氮化硅类、氧化钛类、氧化钽类、氧化铝类、氧化锆类、氧化锌类或者氧化铈类，所述第二折射率膜层的制成材料为氧化硅类或者氮氧化硅类。
12.一种显示面板的制造方法，用于制造如权利要求1-11中任一项所述的显示面板，其特征在于，包括以下步骤：
S10，提供基材；
S20，在所述基材的两侧分别形成硬化膜层和线偏光膜；
S30，在所述硬化膜层的背离所述基材的一侧成膜形成抗反射层，在所述线偏光膜的背离所述基材的一侧形成补偿膜；
S40，在所述补偿膜的背离所述基材的一侧涂布形成PSA层；
其中，所述抗反射层包括交替设置的若干个第一折射率膜层和若干个第二折射率膜层，所述第一折射率膜层的折射率大于所述第二折射率膜层的折射率。
13.如权利要求12所述的一种显示面板的制造方法，其特征在于，步骤S20具体包括：
S201，在所述基材的一侧涂布包括二向色染料和可聚合液晶的第一材料层；
S202，在所述基材的另一侧涂布形成硬化膜层；
S203，对所述第一材料层进行光配向以及固化；
步骤S30具体包括：
S301，在所述硬化膜层的背离所述基材的一侧成膜形成抗反射层；
S302，在所述线偏光膜背离所述基材的一侧涂布包括可聚合液晶、染料分子混合体、光引发剂、耐老化剂以及固化剂的第二材料层；
S303，对所述第二材料层进行所述光配向以及固化。
14.如权利要求13所述的一种显示面板的制造方法，其特征在于，在所述光配向中，配向的光源为紫外光，且所述紫外光的波长的取值区域为300nm至380nm，光配向能量的取值区域为30mJ/cm2至80mJ/cm2，光配向时间的取值区域为10秒至30秒，配向角度的取值区域为10°至90°；在所述固化中，温度的取值区域为80℃至100℃。
15.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-11中任一项所述的显示面板。
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